28p-S-2 極薄シリコンウエハー上に成長させた熱酸化薄膜の構造

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概要

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• 社団法人日本物理学会の論文
• 1999-03-15

著者

• 上田 一也

  関学大理

• 高橋 功

  関学大理工

• 淡路 直樹

  富士通研究所

• 末利 良一

  関学大理

• 古宮 聰

  富士通研究所

• 高橋 功

  関学大理ハイテク・リサーチ・センター

• 加田 敏照

  関学大理

• 杉田 義博

  (株)富士通研究所

• 杉田 義博

  富士通研究所株式会社

• 杉田 義博

  富士通研究所

• 高橋 功

  関学大理

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