古宮 聰 | 富士通研究所
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概要
関連著者
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古宮 聰
富士通研究所
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古宮 聰
(株)富士通研究所
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淡路 直樹
富士通研究所
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原 嘉昭
富士通研
-
清水 豊
(株)富士通研究所ストレージ研究所
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清水 豊
富士通(株)・ファイル研究部
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押木 満雅
(株)富士通研究所・磁気ディスク研究部
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北出 康博
富士通研
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渦巻 拓也
富士通研
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原 嘉昭
(株)富士通研究所
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北出 康博
(株)富士通研究所
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渦巻 拓也
(株)富士通研究所
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淡路 直樹
(株)富士通研究所
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押木 満雅
富士通
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押木 満雅
(株)富士通ストレージプロダクト事業本部
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淡路 直樹
(株)富士通研究所 基盤技術研究所
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清水 豊
富士通(株)
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押木 満雄
富士通研究所
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古宮 聰
(株)富士通研究所厚木研究所
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寺内 暉
関学大理工
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上田 一也
関学大理
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高橋 功
関学大理工
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古宮 聡
富士通
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上田 修
(株)富士通研究所
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石渡 統
(株)富士電機総合研究所
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阪上 潔
関西学院大理工
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末利 良一
関学大理
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高橋 功
関学大理ハイテク・リサーチ・センター
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加田 敏照
関学大理
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阪上 潔
関学大理
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杉田 義博
(株)富士通研究所
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阪上 潔
関学大理工
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高倉 義之
関学大理
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飯田 厚夫
高エネルギー加速器研究機構
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富田 博文
富士通研究所
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飯田 厚夫
高エネルギー物理学研究所
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広瀬 隆之
(株)富士電機総合研究所
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安宅 豊路
富士電機(株)
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小沢 賢治
富士電機(株)
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大沢 通夫
(株)富士電機総合研究所
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杉田 義博
富士通研究所株式会社
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杉田 義博
富士通研究所
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堀井 義正
富士通研究所基盤技術研究所
-
楳生 雄
(株)富士通研究所
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山腰 茂伸
(株)富士通研究所
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飯田 厚夫
高エネルギー物理学研究所放射光実験施設
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大沢 通夫
富士電機総合研 材料技研
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小沢 賢治
富士電機(株)松本工場
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安宅 豊路
富士電機(株)松本工場
-
寺西 秀明
株)富士電機総合研究所
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寺内 暉
関学大理
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高橋 功
関学大理
著作論文
- 3-5族化合物混晶半導体の結晶欠陥--透過電子顕微鏡観察を中心として
- 混晶半導体の欠陥の構造と挙動
- X線反射率によるスピンバルブ膜の構造解析の検討
- 28p-M-8 シンクロトロン放射光を用いた斜入射X線回折によるBaTiO_3薄膜の表面構造
- X線反射率によるスピンバルブ膜の構造解析の検討
- 28p-S-2 極薄シリコンウエハー上に成長させた熱酸化薄膜の構造
- エレクトロニクス材料と結晶学
- 3. 微少量・高精度・極限に迫る 全反射を利用して超薄膜を調べる
- 放射光全反射蛍光分析による汚染形態評価
- 2a-N-7 GaAlAs/GaAs, InGaAsP/InP中の欠陥と発光素子の劣化
- 電顕による半導体中の欠陥の観察 : IV. 偏析の評価
- CoCrTaPt薄膜磁気記録媒体の面内の結晶学的構造と保磁力 (磁気記録媒体)