淡路 直樹 | (株)富士通研究所 基盤技術研究所
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概要
関連著者
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淡路 直樹
(株)富士通研究所 基盤技術研究所
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淡路 直樹
(株)富士通研究所
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原 嘉昭
富士通研
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清水 豊
(株)富士通研究所ストレージ研究所
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清水 豊
富士通(株)・ファイル研究部
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押木 満雅
(株)富士通研究所・磁気ディスク研究部
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古宮 聰
富士通研究所
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北出 康博
富士通研
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渦巻 拓也
富士通研
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原 嘉昭
(株)富士通研究所
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北出 康博
(株)富士通研究所
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渦巻 拓也
(株)富士通研究所
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古宮 聰
(株)富士通研究所
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押木 満雅
富士通
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押木 満雅
(株)富士通ストレージプロダクト事業本部
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清水 豊
富士通(株)
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押木 満雄
富士通研究所
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小平 政宣
東芝
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小平 政宣
(株)東芝
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土舘 裕幸
三菱電機(株)
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椋木 健
(株)ソルテック
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岸本 健
(株)ソルテック
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渡邊 牧夫
(株)ソルテック
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荒木 美次
(株)ソルテック
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飯田 利昭
三菱電機(株)
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淡路 直樹
株式会社富士通研究所 基盤技術研究所
著作論文
- X線反射率によるスピンバルブ膜の構造解析の検討
- ソルテック 1-GeV, 500mA 電子蓄積リング真空系の現状
- 放射光の鉄鋼研究への応用-12 : 放射光を用いたクロメート皮膜中6価クロムの非破壊分析
- X線反射率によるスピンバルブ膜の構造解析の検討
- X線共鳴磁気反射率および偏極中性子反射率測定による磁気デバイス用MnIr/CoFe交換結合膜のスピン分布の研究
- GIXR, CTR散乱による極薄酸化膜の解析
- 極薄ゲート酸化膜界面構造評価 : X線干渉法による評価