押木 満雅 | 富士通
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概要
関連著者
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押木 満雅
(株)富士通研究所・磁気ディスク研究部
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押木 満雅
富士通
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押木 満雄
富士通研究所
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押木 満雅
富士通研究所・磁気ディスク研究部
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押木 満雅
富士通研究所
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田中 厚志
(株)富士通研究所ストレージ研究所
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清水 豊
(株)富士通研究所ストレージ研究所
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押木 満雅
(株)富士通ストレージプロダクト事業本部
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田中 厚志
富士通研
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清水 豊
富士通(株)
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長坂 恵一
(株)富士通研究所ストレージ研究所
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岸 均
富士通
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清水 豊
富士通(株)・ファイル研究部
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田中 厚志
富士通研究所
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渦巻 拓也
(株)富士通研究所
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押木 満雅
富士通研
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原 嘉昭
富士通研
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田中 厚志
富士通(株)・ファイル研究部
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北出 康博
富士通研
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渦巻 拓也
富士通研
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瀬山 喜彦
富士通研究所・磁気ディスク先行研究部
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岸 均
富士通(株)・ファイル研究部
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長坂 恵一
富士通(株)・ファイル研究部
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原 嘉昭
(株)富士通研究所
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北出 康博
(株)富士通研究所
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竹房 さなえ
富士通研究所
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小田切 充
(株)富士通研究所
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山岸 亙
富士通研究所
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山岸 亙
富士通研
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長坂 恵一
富士通研究所
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岸 均
富士通研究所
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清水 豊
富士通研究所
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岸 均
(株)富士通研究所
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飯島 誠
富士通
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飯島 誠
富士通研究所・磁気ディスク研究部
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押木 満雅
株式会社富士通研究所・磁気ディスク研究部
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岡本 巌
富士通株式会社
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岡本 巌
富士通
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田中 厚志
(株)富士通研究所
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古宮 聰
富士通研究所
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淡路 直樹
(株)富士通研究所
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古宮 聰
(株)富士通研究所
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淡路 直樹
(株)富士通研究所 基盤技術研究所
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三宅 裕子
(株)富士通研究所
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山中 一典
富士通研究所
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向井 良一
富士通研究所
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横島 時彦
早稲田大学 理工学術院
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山中 一典
富士通
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馬場 靖男
富士通研究所
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小田切 充
富士通研究所
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岡本 厳
富士通(株)ファイル研究部
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押木 満雅
株式会社富士通研究所ストレージシステム研究所
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瀬山 喜彦
富士通研
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上原 裕二
富士通(株)ヘッド先行開発部
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逢坂 哲彌
早稲田大学理工学部
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横島 時彦
早稲田大学
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三浦 義正
信州大
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逢坂 哲彌
早稲田大学
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三浦 義正
信州大学工学部
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三浦 義正
信州大学工学部電気電子工学科
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岸 均
富士通株式会社・先端テクノロジ研究部
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清水 豊
富士通株式会社・先端テクノロジ研究部
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長坂 恵一
株式会社富士通研究所・磁気ディスク研究部
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田中 厚志
富士通株式会社・先端テクノロジ研究部
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奥山 智明
富士通
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篠原 正喜
富士通(株)
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上原 裕二
富士通研
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前田 麻貴
富士通研
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三宅 裕子
富士通
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金子 大樹
富士通(株)ストレージ事業本部コンポーネント事業部
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田河 育也
(株)日立製作所研究開発本部
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押木 満雅
(株)富士通研究所 ストレージシステム研究所
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湯本 久美
東京理科大・基礎工
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筧 朗
富士通
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相川 隆
富士通
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佐々木 政照
富士通
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小財 隆男
富士通
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石原 正統
物質工学工業技術研究所
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田河 育也
富士通(株)
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李 松姫
東京理科大学基礎工学部材料工学科
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金子 大樹
富士通研究所
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渦巻 拓也
株式会社富士通研究所ストレージシステム研究所
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篠原 正喜
株式会社富士通研究所ストレージシステム研究所
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三浦 義正
信州大学電気電子工学部
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石原 正統
東京理科大学 基礎工学部
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逢坂 哲彌
早大理工・材研
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横島 時彦
早大理工・材研
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今元 徹
東京理科大学 基礎工学部
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木名瀬 良紀
東京理科大学 基礎工学部
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竹房 さなえ
(株)富士通研究所
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金子 大樹
早稲田大学理工学部応用化学科
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三宅 裕子
富士通研
-
金子 大樹
早大理工・材研
-
湯本 久美
東京理科大学大学院
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筧 朗
富士通研究所
-
相川 隆
富士通研究所
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上原 裕二
富士通(株)
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湯本 久美
東京理科大学基礎工学部材料工学科
-
岸 均
富士通研
著作論文
- CoFe/Cu多層膜のCPP (Cur rent Perpendicular to the Plane)-GMR特性
- 超高真空成膜によるPdPtMnスピンバルブ膜のMR特性
- UHV成膜によるPdPtMnスピンバルブ膜のMR特性
- SV膜におけるピン反転の検討
- CPP(Current Perpendicular to the Plane)におけるCoFe/Cu多層膜のCMR特性
- CoFe/Cu多層膜のGMR特性
- PdPtMn反強磁性材料を用いたデュアルスピンバルブ
- スピンバルブのピン層磁化方向の制御方法の検討
- PdPtMn反強磁性材料を用いたスピンバルブ素子形成技術の検討
- PdPtMn反強磁性材料を用いたスピンバルブ (多層膜・人工格子・グラニューラー)
- PdPtMn反強磁性材料を用いたスピンバルブ膜
- X線反射率によるスピンバルブ膜の界面構造解析
- X線反射率と蛍光X線測定による金属多層構造解析
- X線反射率によるスピンバルブ膜の構造解析の検討
- X線反射率と蛍光X線測定による金属多層膜構造解析
- CF-02 A THIN FILM HEAD FOR HIGH DENSITY RECORDING(1982年インタ-マグ報告)
- CoFe/Cu多層膜のGMR特性
- 磁気記録媒体の現状と将来展望
- X線反射率によるスピンバルブ膜の構造解析の検討
- CoCrPtTa/Cr媒体上の高線密度ビットの磁化反転時定数
- 直流重畳パルスめっき法による結晶/非晶質Co-Fe-P軟磁性多層膜の作製
- 高密度ストレージ技術 (特集 21世紀に向けた研究開発)
- 100Gb/in^2用薄膜磁気ヘッドの課題
- 無電解CoFCBめっきを用いた磁気ヘッドコア作製プロセスの基礎的検討
- 高周波対応MoNiFeめっき膜の検討
- 薄膜磁気ヘッドの課題と将来展望
- UHVベーズ体形成におけるポストアニールの有用性
- CoCrPtTa/Cr媒体の記録ビット熱揺らぎ緩和過程
- 高周波対応MoNiFeめっき膜の検討
- 無電解CoFeBめっきを用いた磁気ヘッドコア作製プロセスの基礎的検討
- SKEMによるヘッド磁化強度の周波数依存性
- ポストアニールを用いたCoCrPt/Cr媒体の形成
- PdPtMn反強磁性材料を用いたデュアルスピンバルブ
- 薄膜磁気ヘッドの現状と課題 (特集 ハードディスクドライブ)
- MRヘッド