田中 厚志 | 富士通研
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概要
関連著者
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田中 厚志
富士通研
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田中 厚志
(株)富士通研究所ストレージ研究所
-
田中 厚志
富士通研究所
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渦巻 拓也
富士通研
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清水 豊
(株)富士通研究所ストレージ研究所
-
長坂 恵一
(株)富士通研究所ストレージ研究所
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渦巻 拓也
富士通研究所
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清水 豊
富士通(株)
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渦巻 拓也
(株)富士通研究所
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岸 均
富士通
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長坂 恵一
富士通研究所
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清水 豊
富士通研究所
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押木 満雅
(株)富士通研究所・磁気ディスク研究部
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押木 満雅
富士通
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押木 満雄
富士通研究所
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瀬山 喜彦
富士通研究所・磁気ディスク先行研究部
-
田中 厚志
(株)富士通研究所
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田中 厚志
富士通(株)・ファイル研究部
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杉本 利夫
富士通研究所
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江口 伸
富士通研
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向井 良一
富士通研究所
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下田 一正
(株)富士通研究所 ストレージシステム研究所 磁気ディスク先行研究部
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稲村 良作
(株)富士通研究所 ストレージシステム研究所 磁気ディスク先行研究部
-
下田 一正
(株) 富士通研究所
-
稲村 良作
(株) 富士通研究所
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江口 伸
富士通
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岸 均
富士通研究所
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児玉 宏喜
富士通研究所
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百瀬 悟
富士通研究所
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児玉 宏喜
Fujitsu Laboratories LTD
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大島 武典
(株)富士通研究所 ストレージシステム研究所 磁気ディスク先行研究部
-
大島 武典
(株) 富士通研究所
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瀬山 喜彦
富士通研
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近藤 玲子
富士通研
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近藤 玲子
富士通研究所
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押木 満雅
富士通研究所・磁気ディスク研究部
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押木 満雅
(株)富士通ストレージプロダクト事業本部
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鎌田 親義
富士通研
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飯島 誠
富士通
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横島 時彦
早稲田大学 理工学術院
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大島 弘敬
(株)富士通研究所ストレージ研究所
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池田 淳也
富士通研
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清水 豊
富士通(株)・ファイル研究部
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岸 均
富士通(株)・ファイル研究部
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長坂 恵一
富士通(株)・ファイル研究部
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飯島 誠
富士通研究所・磁気ディスク研究部
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金子 大樹
富士通(株)ストレージ事業本部コンポーネント事業部
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竹房 さなえ
富士通研究所
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杉本 利夫
(株)富士通研究所 ストレージシステム研究所 磁気ディスク先行研究部
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祖父江 匡爵
早大理工
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逢坂 哲彌
早大理工・材研
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横島 時彦
早大理工・材研
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祖父江 匡爵
早大理工・材研
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押木 満雅
富士通研
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城後 新
(株)富士通研究所ストレージ研究所
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指宿 隆弘
(株)富士通研究所ストレージ研究所
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大島 弘敬
富士通研究所
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岸 均
(株)富士通研究所
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亀原 伸男
(株)富士通研究所厚木研究所
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亀原 伸男
富士通研究所
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下田 一正
富士通研究所
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稲村 良作
富士通研究所
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金子 大樹
富士通研究所
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井原 宣孝
富士通研究所
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亀原 伸男
(株)富士通研究所
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亀原 伸男
(株)富士通研究所 材料・環境技術研究所
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井原 宣孝
富士通株式会社
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菅原 仁
都立大院理
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佐藤 英行
都立大院理
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小林 和雄
(株)富士通研究所 ストレージシステム研究所
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小林 和雄
富士通研究所
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横田 真太郎
都立大院理
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永井 肇
都立大院理
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青木 勇二
都立大院理
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倉持 宏実
ナノ機能合成プロ産総研
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秋永 広幸
ナノ機能合成プロ産総研
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秋永 広幸
産総研
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城後 新
富士通研究所
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指宿 隆弘
富士通研究所
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小嶋 尚美
富士通研
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小林 和雄
富士通研
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押木 満雅
富士通研究所
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安武 正敏
ナノ機能合成技術プロジェクト-エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社
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田中 厚志
ナノ機能合成技術プロジェクト-富士通株式会社
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大島 武典
富士通研究所
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小林 和雄
富士通研 ストレージシステム研
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丹羽 紘一
富士通研
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金子 大樹
早大理工・材研
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倉持 宏実
産業技術総合研究所ナノテクノロジー研究部門
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瀬川 貴之
早大理工・材研
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安武 正敏
ナノ機能合成技術プロジェクト-産総研
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大島 弘敬
富士通研
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岸 均
富士通研
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秋永 広幸
ナノ機能合成プロ-産総研
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野中 聡
旭川医科大学耳鼻咽喉科・頭頸部外科学講座
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野中 源一郎
九州大学薬学部
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野中 薫雄
琉球大学医学部器官病態医科学講座皮膚科
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坂井 正樹
都立大院理
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町 敬人
富士通研
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菅原 貴彦
富士通研究所
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逢坂 哲彌
早大理工
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水口 拓也
都立大院理
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佐藤 和昭
富士通
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橋本 淳一
富士通
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鎌田 親義
(株)富士通研究所
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池田 純也
(株)富士通研究所
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近藤 玲子
(株)富士通研究所
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江口 伸
(株)富士通研究所
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瀬山 喜彦
(株)富士通研究所 磁気ディスク先行研究部
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鎌田 親義
富士通研究所
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池田 淳也
富士通研究所
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宮島 豊生
株式会社富士通研究所ナノ電子材料研究部
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バルガ ラヨス
富士通研
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柴田 達真
富士通研
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宮島 豊生
(株)富士通研究所
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後藤 康之
(株)富士通研究所
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上田 修
(株)富士通研究所
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岸 均
富士通株式会社・先端テクノロジ研究部
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清水 豊
富士通株式会社・先端テクノロジ研究部
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長坂 恵一
株式会社富士通研究所・磁気ディスク研究部
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田中 厚志
富士通株式会社・先端テクノロジ研究部
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押木 満雅
株式会社富士通研究所・磁気ディスク研究部
-
秋永 広幸
産総研ナノテク
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上田 修
株)富士通研究所
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中村 精一
早大理工・材研
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渦巻 拓也
ナノ機能合成技術プロジェクト-富士通株式会社
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百瀬 悟
Fujitsu Laboratories LTD
-
杉本 利夫
Fujitsu Laboratories LTD
-
渦巻 拓也
Fujitsu Laboratories LTD
-
田中 厚志
Fujitsu Laboratories LTD
-
渦巻 拓也
富士通株式会社
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大西 武範
早大理工
-
横島 時彦
早大理工総研
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杉本 利夫
(株) 富士通研究所
-
渦巻 拓也
(株) 富士通研究所
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田中 厚志
(株) 富士通研究所
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NIKLES David
Univ. Alabama
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水口 拓也
九大院理
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坂井 正樹
首都大院理
-
丹羽 紘一
富士通研究所
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Crain Jason
富士通研究所
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金子 大樹
早稲田大学理工学部応用化学科
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柴田 達真
東北大院
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田中 厚志
富士通研究所・磁気ディスク先行研究部
-
押木 満雅
株式会社富士通研究所ストレージシステム研究所
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瀬山 喜彦
(株)富士通研究所
著作論文
- 高比抵抗磁性材料によるCPP型巨大磁気抵抗効果膜の高出力化(PMRC(Perpendicular Magnetic Recording Conference)2007特集)
- 積層フェリ型CPPスピンバルブにおけるスピンブロッキング層効果
- 27aPS-34 スピンバルブ膜を用いたCPP素子におけるノイズ強度の磁場角度依存性(領域3ポスターセッション : 希土類合金,化合物磁性,薄膜・人工格子,スピングラス,フラストレーション,量子スピン系,実験技術開発等)(領域3)
- CPP-GMRヘッドの課題と展望
- CPP型磁気抵抗効果ヘッドの再生出力特性
- 21pPSA-6 スピンバルブ膜を用いた CPP 素子におけるノイズ強度の磁場依存性
- 部分酸化磁性層を用いた超150Gb/in^2用高感度SV-CPP素子
- 読み取りヘッドの電極微細加工
- 酸素プラズマ酸化法を用いたNOL-SV膜CPP素子のGMR特性
- スピンバルブ膜を用いたCPP(Current-perpendicular-to-plane)素子のGMR特性
- SC-5-5 端子オーバーレイド構造によるHDD用高密度読み取りヘッド
- CPPスピンバルブにおけるGMR特性の層厚依存性
- スピンバルブ膜を用いたCPP(Current Perpendicular to Plane)素子のGMR特性
- ダブルスペキュラースピンバルブ膜のGMR特性
- TEMによるPdPtMnスピンバルブ膜の局所構造解析
- 磁区制御膜とオーバーレイド構造に関する数値解析
- サブミクロンサイズスピンバルブ素子におけるMR特性
- CoFe/Cu多層膜のCPP (Cur rent Perpendicular to the Plane)-GMR特性
- 超高真空成膜によるPdPtMnスピンバルブ膜のMR特性
- UHV成膜によるPdPtMnスピンバルブ膜のMR特性
- SV膜におけるピン反転の検討
- CPP(Current Perpendicular to the Plane)におけるCoFe/Cu多層膜のCMR特性
- CoFe/Cu多層膜のGMR特性
- PdPtMn反強磁性材料を用いたデュアルスピンバルブ
- スピンバルブのピン層磁化方向の制御方法の検討
- PdPtMn反強磁性材料を用いたスピンバルブ素子形成技術の検討
- PdPtMn反強磁性材料を用いたスピンバルブ (多層膜・人工格子・グラニューラー)
- PdPtMn反強磁性材料を用いたスピンバルブ膜
- CoリッチCo-Agグラニュラー/Cu多層膜のGMR特性
- CoリッチCo-Cuグラニュラー/Cu多層膜のGMR特性
- カーボンナノチューブ探針を用いた高分解能磁気力顕微鏡観察(「磁性に関連したセンシング技術の広がりとその最前線」その2-磁気イメージング)
- 化学合成FePt微粒子媒体の媒体特性
- 積層化Ru中間層によるCoCrPt-SiO_2垂直磁性媒体のSNR改善
- 積層構造化によるCoCrPt-SiO_2垂直磁性媒体用Ru中間層の改善
- CoPtCr-SiO_2垂直媒体の記録再生特性
- 配向制御を目的としたFePtナノ粒子の開発
- カーボンナノチューブ探針を用いた高分解能MFM観察
- CoPtCr-SiO_2 垂直磁気記録媒体のノイズ解析
- 化学合成したFePt微粒子媒体の静磁気特性と結晶構造(薄膜)
- CoPtCr-SiO_2垂直磁気記録媒体の熱安定性
- CoPtCr-SiO_2垂直磁気記録媒体の構造と電磁変換特性
- CoPtCr-SiO_2垂直磁気記録媒体の磁気特性と媒体ノイズ
- 多層構造中間層上CoCrPt垂直磁気記録層の磁気特性改善
- 多層構造中間層を用いたCoCrPt垂直磁気記録層の高Ku・Hc化
- 化学合成したFePt微粒子媒体の静磁気特性
- 磁気的孤立状態にあるL1_0 FePtナノ粒子系
- 高B_sを有する無電解CoNiFeB薄膜の作製とその磁気特性に及ぼす熱処理の影響
- CoPtCr-SiO_2 グラニュラー媒体の磁気特性と電磁変換特性 : MFM 観察を用いた媒体ノイズ解析
- CoPtCr-SiO_2グラニュラー媒体の磁気特性と電磁変換特性 : MFM観察を用いた媒体ノイズ解析(垂直記録,一般)
- 加圧ガス雰囲気中アニールによるFePtナノ粒子の規則化温度低下
- CoFe/Cu多層膜のGMR特性
- FePtナノパーティクル媒体の成膜方法とR/W特性
- 31p-PS-100 Bi-Sr-Ca-Cu-O薄膜の磁気緩和
- 5p-PS-100 酸化物超伝導薄膜の作製と物性評価
- 28p-APS-23 Bi系超伝導薄膜の高周波応答
- PdPtMn反強磁性材料を用いたデュアルスピンバルブ
- 無電解CoFeBめっきによる磁気ヘッドコアの均一形成
- 無電解めっき法による高B_sCoNiFeB軟磁性薄膜の作製
- SiOx下地層を用いたCoB/Pd人工格子媒体の作製
- Nucleation Site 技術による高Bs・Fe-Si軟磁性膜の高配向性化
- 配向制御したFePtグラニュラー構造媒体の形成
- 粒成長核とSiO_2添加による磁性粒の微細化と低分散化
- 無電解めっき法による高B_sCoNiFeB軟磁性薄膜の高比抵抗化
- 無電解めっき法により作製した高B_sCoNiFeB軟磁性薄膜の熱処理の影響
- 2次元配置FePt Island構造媒体の形成