小林 和雄 | 富士通研究所
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概要
関連著者
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小林 和雄
(株)富士通研究所 ストレージシステム研究所
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小林 和雄
富士通研究所
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小林 和雄
富士通研
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佐藤 雅重
(株)富士通研究所 ストレージシステム研究所
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佐藤 雅重
富士通研究所 基盤技術研究所 シリコンデバイス研究部
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菊地 英幸
(株)富士通研究所 ストレージシステム研究所
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菊地 英幸
山形富士通
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小林 和雄
富士通研 ストレージシステム研
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菊池 英幸
山形富士通
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菊地 英幸
富士通研究所
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斉藤 準
秋田大学工学資源学部
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菊池 英幸
富士通研
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田中 厚志
(株)富士通研究所ストレージ研究所
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田中 厚志
富士通研究所
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清水 豊
(株)富士通研究所ストレージ研究所
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清水 豊
富士通研究所
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飯島 誠
富士通
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飯島 誠
富士通研究所・磁気ディスク研究部
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高星 英明
秋田大学工学資源学部
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陳 進
秋田大学工学資源学部
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高星 英明
秋田大学ベンチャ-・ビジネス・ラボラトリー
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斉藤 準
秋田大 大学院工学資源学研究科
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小林 和雄
(株)富士通研究所
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石尾 俊二
秋田大
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石尾 俊二
秋田大学工学資源学部
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張 依群
(株)富士通研究所
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張 依群
富士通
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小嶋 尚美
富士通研
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田中 厚志
富士通研
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高星 英明
秋田大学
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柿崎 浩一
埼玉大学理工学研究科物質科学研究部門
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平塚 信之
埼玉大学理工学研究科物質科学研究部門
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斎藤 準
秋田大学工学資源学部材料工学科
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平塚 信之
埼玉大学理工学研究科
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秋吉 宏一
埼玉大学
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DONNET D.
富士通研
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柿崎 浩一
埼玉大・工
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平塚 信之
埼玉大・工
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田中 正男
富士通
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西村 保郎
富士通
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齋藤 準
秋田大
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石尾 俊二
秋田大学
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田中 厚志
富士通研究所・磁気ディスク先行研究部
-
石尾 俊二
秋田大学工学資源学研究科
著作論文
- 窒化アルミニウムバリアを用いたTMR膜の諸特性
- 強磁性トンネル接合の低抵抗領域での特性
- CoFe層を持つスピンバルブライク強磁性トンネル膜
- トンネル型磁気抵抗素子の開発と磁気ヘッド, MRAMへの応用
- CoFe磁性層を持つ強磁性トンネル接合膜
- 酸素プラズマ放電による強磁性トンネル接合の作製
- Spin-valve-like トンネル膜の熱処理効果
- Co/Al-AlOx/NiFe(/FeMn)接合の強磁性トンネル効果
- Co系グラニュラー膜の多層化とそのGMR特性
- CoリッチCo-Agグラニュラー/Cu多層膜のGMR特性
- CoリッチCo-Cuグラニュラー/Cu多層膜のGMR特性
- 強磁性トンネル接合の低抵抗領域での特性
- 酸素プラズマ放電による強磁性トンネル接合の作製
- CoPt-ZrO_2磁性薄膜の磁気特性
- MFMによるHc>3 kOeの媒体における磁気クラスター解析
- Hc;2〜3kOeのCoCrTaPt媒体のMFMによる磁気クラスター解析
- Hc ; 2〜3kOeのCoCrTaPt媒体のMFMノイズ解析
- MFMによるCoCrTa面内記録媒体ノイズの二次元解析
- 4p-M-6 Te添加MnBi膜のHc