佐藤 雅重 | (株)富士通研究所 ストレージシステム研究所
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概要
関連著者
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佐藤 雅重
(株)富士通研究所 ストレージシステム研究所
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小林 和雄
(株)富士通研究所 ストレージシステム研究所
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小林 和雄
富士通研
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菊地 英幸
(株)富士通研究所 ストレージシステム研究所
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菊地 英幸
山形富士通
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菊池 英幸
山形富士通
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佐藤 雅重
富士通研究所 基盤技術研究所 シリコンデバイス研究部
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小林 和雄
富士通研究所
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(株)富士通研究所
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菊地 英幸
富士通研究所
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菊池 英幸
富士通研
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(株)富士通研究所
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張 依群
富士通
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菊池 英幸
(株)富士通研究所
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小林 和雄
株式会社富士通研究所ペリフェラルシステム研究所
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佐藤 雅重
株式会社富士通研究所磁気ディスク研究部
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菊地 英幸
株式会社富士通研究所磁気ディスク研究部
著作論文
- 強磁性トンネル接合の低抵抗化検討
- 窒化アルミニウムバリアを用いたTMR膜の諸特性
- 強磁性トンネル接合の低抵抗領域での特性
- CoFe層を持つスピンバルブライク強磁性トンネル膜
- トンネル型磁気抵抗素子の開発と磁気ヘッド, MRAMへの応用
- スピンバルブ型トンネル接合のMR (特集 スピントンネルMRとその応用動向)
- スピンバルブ型TMR材料
- CoFe磁性層を持つ強磁性トンネル接合膜
- 強磁性トンネル接合における界面酸化の影響
- スピンバルブ型強磁性トンネル接合
- スピンバルブ型トンネル接合
- 酸素プラズマ放電による強磁性トンネル接合の作製
- Spin-valve-like トンネル膜の熱処理効果
- 磁化固定層をもつ強磁性トンネル接合の磁気抵抗効果 (多層膜・人工格子・グラニューラー)
- 強磁性トンネル接合のスピンバルブライク特性
- Co/Al-AlOx/NiFe(/FeMn)接合の強磁性トンネル効果
- 強磁性トンネル接合の低抵抗領域での特性
- スピンバルブ型強磁性トンネル接合
- 酸素プラズマ放電による強磁性トンネル接合の作製