Nucleation Site 技術による高Bs・Fe-Si軟磁性膜の高配向性化

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概要

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• 2002-09-01

著者

• 田中 厚志

  (株)富士通研究所ストレージ研究所

• 田中 厚志

  富士通研究所

• 渦巻 拓也

  富士通研

• 向井 良一

  富士通研究所

• 田中 厚志

  富士通研

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