高B_sを有する無電解CoNiFeB薄膜の作製とその磁気特性に及ぼす熱処理の影響
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概要
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- 2003-09-01
著者
-
逢坂 哲彌
早大理工
-
田中 厚志
(株)富士通研究所ストレージ研究所
-
田中 厚志
富士通研究所
-
竹房 さなえ
富士通研究所
-
大西 武範
早大理工
-
横島 時彦
早大理工総研
-
祖父江 匡爵
早大理工
-
横島 時彦
早稲田大学 理工学術院
-
田中 厚志
富士通研
-
祖父江 匡爵
早大理工・材研
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