横島 時彦 | 早稲田大学 理工学術院
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概要
関連著者
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横島 時彦
早稲田大学 理工学術院
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逢坂 哲彌
早稲田大学
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横島 時彦
早稲田大学
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早稲田大学理工学部
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早大理工・材研
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横島 時彦
早大理工・材研
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早稲田大学先進理工学部応用化学科
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横島 時彦
早大理工
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早大理工
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富士通研究所
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早大・材研
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富士通(株)ストレージ事業本部コンポーネント事業部
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(株)富士通研究所ストレージ研究所
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富士通研究所
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田中 厚志
富士通研
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早大理工
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高島 京子
早大理工・材研
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金子 大樹
早大理工・材研
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祖父江 匡爵
早大理工・材研
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淺 富士夫
Advance Research Institute For Science And Engineering Waseda University
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秋田県産業技術総合研究センター高度技術研究所
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田口 香
秋田県産業技術総合研究センター高度技術研究所
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秋田県産業技術総合研究センター
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秋田県産業技術総合研究センター高度技術研究所
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早大材研
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富士通研究所・磁気ディスク研究部
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押木 満雅
(株)富士通研究所・磁気ディスク研究部
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富士通
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早大理工
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韓国機械研究院 表面技術研究部
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松田 五明
Advanced Research Institute For Science & Engineering
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早大理工・材研
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森尻 誠
日立
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秋田県産業技術総合研究センター
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独立行政法人産業技術総合研究所
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大内 一弘
秋田県高度技術研究所
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秋田県高度技術研究所
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秋田県高度技術研究所
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神戸大学大学院自然科学研究科
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北本 仁孝
東工大総理工
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早稲田大学各務記念材料技術研究所
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東京大学 大学院工学系研究科
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高井 まどか
早稲田大学理工学部応用化学科
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早大科研機構生命医療研
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尾上 貴弘
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早大理工・材研
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東工大総理工
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早大理工
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昭和電工
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崔 京九
東京工業大学大学院総合理工学研究科
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北本 仁孝
東京工大 大学院総合理工学研究科
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北本 仁孝
東京工業大学・大学院総合理工学研究科・物質科学創造専攻
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材研
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早稲田大学
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中西 卓也
早大材料技術研究所
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早大理工・材研
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早大理工, 材料技術研究所
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吉満 然
早大理工, 材料技術研究所
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横島 時彦
早大理工, 材料技術研究所
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中西 卓也
早大理工, 材料技術研究所
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飯田 貴久
Research Institute for Nano-Processes, Waseda University
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昭和電工
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杉本 怜子
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山崎 陽太郎
東京工業大学大学院総合理工学研究科物質科学創造専攻
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崔 京九
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竹房 さなえ
早稲田大学 理工学部 ; 各務記念材料技術研究所
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金子 大樹
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加世田 学
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小林 洋介
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沖中 裕
Advanced Research Institute For Science & Engineering
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飯田 貴久
Research Institute For Nano-processes Waseda University
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久保宮 敬幸
早稲田大学 理工学部・各務記念材料技術研究所
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大森 将弘
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Dept. of Applied Chemistry, School of Science and Engineering, Waseda University
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横島 時彦
Waseda Univ.
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沖中 裕
早稲田大学 理工学研究所
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山川 清志
秋田県産業技術センター
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山川 清志
秋田県産業技術セ
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北本 仁孝
東京工業大学大学院 総合理工学研究科
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山崎 陽太郎
東京工業大学大学院 総合理工学研究科
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高橋 慎吾
秋田県産業技術センター
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三須 義竜
早稲田大学 大学院先進理工学研究科
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西世古 弘
早稲田大学 大学院先進理工学研究科
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高井 まどか
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今井 健太
早大理工
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内田 勝
秋田県産業技術総合研究センター
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北本 仁孝
Department of Innovative and Engineered Materials, Interdisciplinary Graduate School of Science and Engineering,
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内田 勝
秋田県産業技術センター
著作論文
- めっき法により作製したカスプコイル励磁型単磁極ヘッド
- C-7-1 湿式法によるカスプ型垂直磁気記録ヘッドコアの磁区構造(C-7. 磁気記録, エレクトロニクス2)
- アミノ酸添加による電析CoNiFe軟磁性薄膜の高比抵抗化
- Si単結晶ディスク基板を用いた湿式法による垂直二層膜媒体用軟磁性裏打ち層の開発
- 高B_sを有する無電解CoNiFeB薄膜の作製とその磁気特性に及ぼす熱処理の影響
- めっきの最新動向
- Co/(Pt,Pd)多層膜/高Bs軟磁性薄膜垂直二層膜媒体の新規作製手法の開発 : 無電解めっき法によるCoNiFeB軟磁性膜の裏打ち層への適用
- 電析CoNiFeMoC軟磁性薄膜におけるCの影響
- 高B_s高ρを有する電析CoNiFeMoC軟磁性薄膜の磁気特性及び熱安定性
- Mo共析による高B_s高ρ CoNiFe系電析薄膜の作製
- 電析CoNiFe軟磁性薄膜へのMo添加による高比抵抗化
- 無電解NiReBC合金皮膜の結晶構造に及ぼす共析元素の影響
- 高比抵抗を有する高Bs CoNiFe電析膜の磁気特性
- All-Wet ProcessによるULSI配線
- C-7-3 無電解めっき法による軟磁性裏打ち層を用いた垂直二層膜媒体の開発
- ニッケル電析抑制機能に及ぼすプロパギルアルコールの拡散速度, 被覆率および還元速度の影響
- 高B_s CoFe電析薄膜の磁気特性に及ぼす熱処理の効果
- B_s=2.3T CoFe電析薄膜の作製
- 錯化剤添加による高B_s CoFe電析薄膜の作製
- TMAB添加による高B_s CoFe電析薄膜の作製
- 電析ニッケルマイクロプローブの形状制御に及ぼす添加剤構造の影響
- 高アスペクト比を有する電析Niマイクロプローブの試作
- CoZrNb/Fe-C積層膜の高周波特性
- 無電解NiBめっきによるマイクロパターニング
- 無電解CoFCBめっきを用いた磁気ヘッドコア作製プロセスの基礎的検討
- 無電解CoFeBめっきを用いた磁気ヘッドコア作製プロセスの基礎的検討
- 高飽和磁束密度を有する軟磁性めっき膜
- 磁性めっき膜の動向
- 磁気記録ヘッド用高Bs-CoFeめっき膜の開発 (特集 エレクトロニクセラミックス薄膜)
- 無電解CoFeBめっきによる磁気ヘッドコアの均一形成
- 無電解めっき法による高B_sCoNiFeB軟磁性薄膜の作製
- 無電解めっき法による高耐食性CoNiFeB軟磁性薄膜の作製
- 精密電解めっき法による高飽和磁束密度軟磁性薄膜の開発
- 高B_s軟磁性材料 : ヘッド・媒体への展開
- 還元剤にDMABを用いた無電解NiBめっきの選択析出性における成膜条件の影響
- エレクトロニクス分野への電気化学プロセスの応用 (特集 電気化学の学際的展開)
- 無電解NiBめっきを用いたマイクロパターニングにおける錯化剤の影響
- 無電解めっき法による高B_sCoNiFeB軟磁性薄膜の高比抵抗化
- 無電解めっき法により作製した高B_sCoNiFeB軟磁性薄膜の熱処理の影響
- 無電解めっき法による軟磁性NiFeB/NiPC/NiFeB積層膜の作製
- 精密めっき法による軟磁性薄膜の微細構造制御
- めっき法による高B_S CoNiFe軟磁性薄膜の開発
- 電子部品の金めっき膜 (特集 将来のめっき技術)
- 湿式法を用いた磁性薄膜の形成 (特集 磁性薄膜研究の最前線(1)合金薄膜形成技術)
- 電子部品の金めっき膜
- 湿式法を用いた磁性薄膜の形成
- シクロオレフィンポリマー上への電析-脱合金法によるPtCu触媒の形成