Co/(Pt,Pd)多層膜/高Bs軟磁性薄膜垂直二層膜媒体の新規作製手法の開発 : 無電解めっき法によるCoNiFeB軟磁性膜の裏打ち層への適用
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概要
- 論文の詳細を見る
- 2001-09-01
著者
-
川治 純
早稲田大学
-
横島 時彦
早大理工
-
朝日 透
早大材研
-
津森 俊宏
信越化学工業(株)
-
逢坂 哲彌
早大材研
-
川治 純
早大理工
-
尾上 貴弘
早大理工総研
-
尾上 貴弘
理総研
-
横島 時彦
早稲田大学 理工学術院
-
津森 俊宏
信越化学工業
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