川治 純 | 早稲田大学
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概要
関連著者
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川治 純
早稲田大学
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朝日 透
早大理工学術院:早大科健機構
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逢坂 哲彌
早稲田大学理工学部
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逢坂 哲彌
早稲田大学
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朝日 透
早稲田大学 科健機構
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本間 敬之
早稲田大学先進理工学部
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平山 貴邦
早大理工
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川治 純
早大理工
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尾上 貴弘
理総研
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法橋 滋郎
早大理工学術院
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本間 敬之
早稲田大学
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本間 敬之
早稲田大学ナノテクノロジー研究所
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佐山 淳一
早稲田大学 理工学術院
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佐山 淳一
早稲田大学
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田中 睦美
早大理工
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田中 睦美
早稲田大学
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逢坂 哲彌
早大理工
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朝日 透
早大材研
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津森 俊宏
信越化学工業(株)
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木村 公治
早稲田大学
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津森 俊宏
信越化学工業
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田中 睦美
早稲田大学理工学部
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本間 敬之
早大理工
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橋本 英樹
早稲田大学
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朝日 透
早大理工総研
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尾上 貴弘
早大理工総研
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法橋 滋郎
早大理工総研
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法橋 滋郎
早稲田大学-理工総研
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松沼 悟
日立マクセル株式会社
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松沼 悟
日立マクセル
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杉山 敦史
早稲田大学
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尾上 貴弘
理工学総合研究センター
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北泉 太士
早稲田大学理工学部
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倉持 健太郎
早大理工
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杉山 敦史
早稲田大学 理工学術院
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法橋 滋郎
早稲田大学
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有明 順
秋田県産業技術総合研究センター
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横島 時彦
早大理工
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逢坂 哲彌
早大材研
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逢坂 哲彌
早大理工総研
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吉野 正洋
早稲田大学 理工学部
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佐山 淳一
早大理工
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朝日 透
各務記念材料技術研究所
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丹羽 大介
早稲田大学理工学部
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安達 健
早稲田大学理工学術院
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坂上 万里子
早稲田大学理工学術院
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Gyorgy Safran
ハンガリー科学アカデミー
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橋本 英樹
早大理工
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横島 時彦
早稲田大学 理工学術院
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吉野 正洋
Advanced Research Institute For Science & Engineering
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Safran G
Hungarian Acad. Sci.
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倉澤 紘己
早稲田大学理工学部
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水牧 仁一朗
高輝度光セ
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水牧 仁一朗
高輝度光科学研究センター利用促進部門
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松下 智裕
Jasri
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大内 一弘
秋田県高度技術研究所
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大内 一弘
秋田高度技研
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安居院 あかね
原子力機構放射光
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安居院 あかね
日本原子力研究所・関西研究所・放射光科学研究センター
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松下 智裕
高輝度光科学研究センター
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朝日 透
早大院
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逢坂 哲彌
早大院
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安居院 あかね
Uppsala University
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有明 順
秋田県高度技術研究所
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堀 賢治
早稲田大学
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朝日 透
早大科研機構生命医療研
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逢坂 哲彌
早大院理工
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朝日 透
理工総研
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法橋 滋郎
理工総研
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法橋 滋郎
理工学総合研究センター
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尾上 貴弘
早稲田大学生命医療工学研究所
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尾上 貴弘
早稲田大学
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及川 英幸
早稲田大学理工学部
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亀尾 亮平
早稲田大学理工学部
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木村 公治
早大理工
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濱口 優
信越化学工業
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尾上 貴弘
Twente 大
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有明 順
秋田高度技研
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SAFRAN G.
ハンガリー科学アカデミー
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北泉 太士
早大理工
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本間 敬之
Department Of Applied Chemistry School Of Science And Engineering Waseda University
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倉持 健太郎
早稲田大学理工学部応用化学科
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倉持 健太郎
早大理工, 材研
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朝日 透
早大理工, 材研
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川治 純
早稲田大学理工学部
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倉持 健太郎
理工
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川治 純
理工
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逢坂 哲彌
理工
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倉澤 紘己
早大理工
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逢坂 哲禰
早稲田大学理工学部
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川治 純
理工学部
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法橋 滋郎
理総研
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逢坂 哲彌
理総研
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本間 敬之
Department Of Applied Chemistry Waseda University
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朝日 透
早大理工
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安居院 あかね
日本原子力研究所
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水牧 仁一朗
高輝度光科学研究センター
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松下 智裕
高輝度光科学研究セ
著作論文
- Co-L_吸収端磁気円二色性測定を用いた[Co/Pd]_n多層垂直磁化膜の研究
- ウェットプロセスによる磁性ナノドットパターン膜形成の試み(高密度記録媒体の開発とその関連技術の進展)
- CS-7-4 無電解Pd/CoNiFeB下地層を用いたCo/Pd多層膜媒体の作製(CS-7.高密度垂直磁気記録方式に資する先端磁性薄膜材料開発,シンポジウム)
- C-7-1 CoB/Pd 多層膜の磁気特性に及ぼすスパッタリング条件の影響
- Co/Pd多層膜の粒子間交換相互作用に及ぼす成膜プロセスの影響
- 記録層への非磁性層導入による[Co/Pd]_n垂直磁気記録媒体の低ノイズ化(垂直記録および一般)
- 記録層への非磁性層導入による[Co/Pd]_n垂直磁気記録媒体の低ノイズ化
- SC-6-6 非磁性中間層付与によるCo/Pd多層垂直磁気記録媒体の低ノイズ化
- Pd/Si下地層を有するCo/Pd多層垂直磁気記録媒体の作製
- 無電解めっき法を用いた垂直2層膜媒体軟磁性裏打ち層の開発
- 無電解めっき法を用いた垂直2層膜媒体軟磁性裏打ち層の開発(画像記録装置及び一般)
- 電気化学プロセスによるPd/CoNiFeB下地層の作製
- C-7-3 湿式法により形成したPdシードを有するCo/Pd多層膜媒体の作製(C-7.磁気記録)
- 電気化学的手法を用いた垂直二層膜媒体用下地層の作製(磁性薄膜,磁気記録一般)
- 電気化学的手法を用いた垂直二層膜媒体用下地層の作製
- [Co/Pd]_n垂直二層膜媒体用Pd/Siシード層の膜厚低減
- ウェットプロセスによる垂直二層膜媒体用シード層の作製
- Si単結晶ディスク基板を用いた湿式法による垂直二層膜媒体用軟磁性裏打ち層の開発
- 無電解めっき法による磁性ナノドットアレイの作製(垂直記録,一般)
- C-7-2 Pd/Si シード層による [Co/Pd]_n-CoZrNb 垂直二層膜媒体の微細構造制御とノイズ低減
- [Co/Pd]_n垂直磁気記録媒体の磁気特性に及ぼすPd/Siシード層作製条件の影響
- C及びSi下地層を有するCo/Pd多層膜の磁気異方性及び微細構造の研究
- パターン媒体作製を目的とした無電解CoNiP析出前処理条件の検討
- ウェットプロセスによる磁性ナノドットパターン膜形成の試み
- 無電解めっき法による磁性ナノドットアレイの作製
- SC-6-2 垂直二層膜媒体への応用を目的としたCo/Pd多層垂直媒体用Pdシード層の開発
- 遷移金属・貴金属系磁気記録材料の磁気物性と磁区構造 : イントロダクション
- Co/(Pt,Pd)多層膜/高Bs軟磁性薄膜垂直二層膜媒体の新規作製手法の開発 : 無電解めっき法によるCoNiFeB軟磁性膜の裏打ち層への適用
- [Co/Pd]_n/X (X:C,Si,Pd)系垂直記録媒体の磁気異方性,異方性磁界,保磁力と磁化反転機構
- Co/(Pt, Pd)多層垂直磁気記録媒体の磁気特性と電磁変換特性
- カーボン下地層を有するCo/Pd多層膜垂直磁気記録媒体の作製
- [Co/Pd]_n]/X多層膜垂直磁気記録媒体の作製