本間 敬之 | 早稲田大学
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概要
関連著者
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本間 敬之
早稲田大学
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平山 貴邦
早大理工
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本間 敬之
早稲田大学先進理工学部
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逢坂 哲彌
早稲田大学
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本間 敬之
早稲田大学ナノテクノロジー研究所
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逢坂 哲彌
早稲田大学理工学部
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本間 敬之
早大理工
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本間 敬之
Department Of Applied Chemistry School Of Science And Engineering Waseda University
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本間 敬之
Department Of Applied Chemistry Waseda University
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川治 純
早稲田大学
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朝日 透
早稲田大学 科健機構
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尾上 貴弘
早稲田大学
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朝日 透
早大理工学術院:早大科健機構
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木村 公治
早稲田大学
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尾上 貴弘
早稲田大学生命医療工学研究所
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黒川 義昭
早稲田大学理工学部
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田中 睦美
早稲田大学理工学部
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田中 睦美
早大理工
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佐藤 裕崇
Department of Applied Chemistry, Waseda University
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田中 睦美
早稲田大学
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佐藤 裕崇
早稲田大 理工
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黒川 義昭
早稲田大学理工学部応用化学科; 各務記念材料技術研究所
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大内 隆成
早稲田大学先進理工学部
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齋藤 美紀子
早稲田大学ナノテクノロジー研究所
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朝日 透
各務記念材料技術研究所
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尾上 貴弘
理総研
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庄子 習一
早稲田大学
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石崎 欣尚
首都大理工
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竹井 洋
ISAS JAXA
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山崎 典子
ISAS JAXA
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高梨 弘毅
東北大金研
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高梨 弘毅
東北大学金属材料研究所
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藤本 龍一
金沢大理工
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黒田 能克
三菱重工業
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大西 光延
三菱重工業
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前川 武之
三菱電機(株)
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庄子 習一
早大理工
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工藤 寛之
早稲田大学
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伊予本 直子
宇宙研
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安仁屋 政憲
HOYA株式会社MD事業部
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島田 明
HOYA株式会社MD事業部
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園部 義明
HOYA株式会社MD事業部
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佐藤 浩太郎
東北学院大学工学部
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嶋 敏之
東北学院大学工学部
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森田 うめ代
都立大理
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藤本 龍一
Department Of Physics Kanazawa University
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園部 義明
Hoya株式会社
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藤森 玉行
都立大理
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Takanashi K
Institute For Solid State Physics University Of Tokyo:the Research Institute For Iron Steel And Othe
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荒川 貴博
早稲田大学理工学術院
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荒川 貴博
東京医科歯科大学
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泉 俊光
早稲田大
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佐藤 裕崇
早稲田大
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小林 秀臣
早稲田大
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大塚 真一郎
早稲田大
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森 健太郎
早稲田大
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伊豫本 直子
宇宙科学研究所
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市坪 太郎
宇宙科学研究所
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古賀 丈雄
東京都立大
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大西 光伸
三菱重工業
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市坪 太郎
宇宙研
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満田 和久
ISAS/JAXA
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庄子 習一
早稲田大学理工学術院
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庄子 習一
早稲田大学理工学術院ナノ理工学専攻
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北泉 太士
早稲田大学理工学部
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佐藤 裕崇
早稲田大学 理工学部
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森田 善幸
早稲田大学理工学部応用化学科
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伊予本 直A
宇宙研
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Takanashi K
Institute For Materials Research Tohoku University
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大島 泰
国立天文台
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庄子 周一
早大理工
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逢坂 哲禰
早稲田大学理工学部
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伊豫本 直子
宇宙科学研究所宇宙圏研究系
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法橋 滋郎
早大理工学術院
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嶋 敏之
東北学院大学 工学部
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法橋 滋郎
各務記念材料技術研究所
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小林 秀臣
Department of Applied Chemistry, Waseda University
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泉 俊光
Department of Electrical Engineering and Bioscience, Waseda University
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小林 秀臣
Department Of Applied Chemistry Waseda University
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瀧澤 敦尚
早稲田大学理工学部応用化学科
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泉 俊光
Department Of Electrical Engineering And Bioscience Waseda University
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柳沢 雅広
早稲田大学 生命医療工学研究所
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佐藤 浩太郎
東北学院大学 工学部
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伊予本 直子
東京大学大学院工学系研究科原子力国際専攻
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田口 智一
早稲田大学理工学部応用化学科; 各務記念材料技術研究所
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佐藤 浩介
金沢大学理工研究域数物科学系
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瀧澤 敦尚
早大理工
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嶋 敏之
東北学院大工
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平山 貴邦
早稲田大学 理工学部応用化学科
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喜多 洋介
早稲田大学理工学部応用化学科
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工藤 寛之
東京医科歯科大学 生体材料工学研究所
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田中 啓一
SIIナノテク
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大橋 隆哉
首都大理工
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田中 啓一
エスアイアイ・ナノテクノロジー(株)
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中山 哲
エスアイアイ・ナノテクノロジー(株)
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藤本 龍一
宇宙研
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後藤 文男
日電
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逢坂 哲彌
早稲田大学先進理工学部応用化学科
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石崎 欣尚
都立大
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内藤 和久
早稲田大学 理工学部 理工学総合研究センター
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大橋 隆哉
都立大理
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藤本 龍一
宇宙科学研究所
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津森 俊宏
信越化学工業(株)
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満田 和久
宇宙研
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大島 泰
宇宙研
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二元 和朗
宇宙研
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満田 和久
宇宙科学研究所
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大島 泰
宇宙科学研究所
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石崎 欣尚
東京都立大学
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中山 哲
セイコーインスツルメンツ
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師岡 利光
セイコーインスツルメンツ
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茅根 一夫
セイコーインスツルメンツ
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高井 まどか
早稲田大学 理工学部 ; 各務記念材料技術研究所
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斎藤 景一
早大
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松沼 悟
日立マクセル株式会社
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本間 英夫
関東学院大学 工学部
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本間 英夫
株式会社関東学院大学表面工学研究所
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篠崎 慶亮
Ard Jaxa
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飯塚 淳
早稲田大学 理工学部総合研究センター
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竹井 洋
宇宙研
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佐藤 浩介
都立大理
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吉田 清典
JSAS JAXA
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師岡 利光
Sii
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山崎 典子
宇宙研
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高井 まどか
東京大学 大学院工学系研究科
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高井 まどか
早稲田大学理工学部応用化学科
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松沼 悟
日立マクセル
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堀 賢治
早稲田大学
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杉山 敦史
早稲田大学
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山崎 典子
宇宙科学研究所
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二元 和郎
宇宙科学研究所
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竹井 洋
宇宙科学研究所
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藤森 玉行
宇宙科学研究所
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吉田 清典
宇宙科学研究所
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森田 うめ代
東京都立大
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篠崎 慶亮
東京都立大
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佐藤 浩介
東京都立大
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高井 基充
東京都立大
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別府 史章
パナソニックコミュニケーションズ
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藤森 玉行
宇宙研
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古賀 丈雄
都立大
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中村 友亮
早稲田大
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田中 啓一
セイコーインスツルメンツ
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本間 英夫
関東学院大学工学部物質生命科学科
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田中 啓一
(株)エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社研究開発部
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野田 和宏
早大
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塩田 則男
日電
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奥野 和義
奥野製薬工業(株)
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丹羽 大介
早稲田大学理工学部
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及川 英幸
早稲田大学理工学部
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亀尾 亮平
早稲田大学理工学部
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斎藤 景一
早稲田大学理工学部
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野田 和宏
早稲田大学理工学部
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後藤 文男
日本電気(株)機能エレクトロニクス研究所
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塩田 則男
日本電気(株)機能エレクトロニクス研究所
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山本 武彦
日本電気(株)機能エレクトロニクス研究所
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柳沢 雅広
早稲田大学生命医療工学研究所
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久保 暢宏
早稲田大学理工学術院
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阪田 薫穂
早稲田大学理工学術院
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加藤 真裕
早稲田大学理工学術院
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大日向 陽
早稲田大学 理工学部
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池田 真
早稲田大学理工学部応用化学科
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倉持 健太郎
早稲田大学理工学部応用化学科
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川治 純
早稲田大学理工学部
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中尾 英弘
メルテックス株式会社研究部
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倉持 健太郎
早大理工
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中村 高士
早稲田大学理工学部;各務記念材料技術研究所
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逢坂 哲彌
早稲田大学 理工学術院
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本間 英夫
関東学院大 工
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酒井 浩志
昭和電工
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津森 俊宏
信越化学工業
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本間 敬之
早稲田大学理工学術院
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大橋 隆哉
都立大・理
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田辺 正幸
早稲田大学理工学部;各務記念材料技術研究所
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中本 剛輔
早稲田大学 理工学部,理工学総合研究センター
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中尾 英弘
メルテックス(株)研究部
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前川 武之
三菱電機 先端技総研
-
前川 武之
三菱電機(株)先端技術総合研究所
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杉山 敦史
早稲田大学 理工学術院
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平山 貴邦
早稲田大学理工学部応用化学科
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酒井 浩志
昭和電工K.K.
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吉川 利彦
昭和電工K.K.
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沖中 裕
Advanced Research Institute For Science & Engineering
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飯塚 裕一
早稲田大学理工学部応用化学科
-
茅根 一夫
エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社
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長崎 顕
早稲田大学理工学部
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中尾 英弘
メルテックス(株)
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沖中 裕
早稲田大学理工学総合研究センター
-
榊原 彰良
早稲田大学理工学部応用化学科 ; 各務記念材料技術研究所
-
田村 圭有
早稲田大学理工学部応用化学科 ; 各務記念材料技術研究所
-
中本 剛輔
早稲田大学 理工学部 理工学総合研究センター
-
影山 謙介
早稲田大学理工学部
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後藤 文男
日本電気 機能エレクトロニクス研
-
中山 郁雄
上村工業 (株) 開発技術研究所
-
府川 真
早稲田大学理工学部
-
塩田 則男
日本電気 機能エレクトロニクス研
-
山本 武彦
日本電気 機能エレクトロニクス研
-
沖中 裕
早稲田大学 理工学研究所
-
山崎 琢也
早稲田大学理工学部
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國本 雅宏
Department Of Applied Chemistry Waseda University
著作論文
- Al-si合金膜表面のジンケート処理に対する下地Si基板の影響
- フィニッシュからスタートまで
- ソフトガードバンドを有する垂直磁気記録媒体の磁化反転機構(ハードディスクドライブおよび一般)
- ソフトガードバンドを有する垂直磁気記録媒体の磁化反転機構(ハードディスクドライブ及び一般)
- ウェットプロセスによる磁性ナノドットパターン膜形成の試み(高密度記録媒体の開発とその関連技術の進展)
- CS-7-4 無電解Pd/CoNiFeB下地層を用いたCo/Pd多層膜媒体の作製(CS-7.高密度垂直磁気記録方式に資する先端磁性薄膜材料開発,シンポジウム)
- 超伝導遷移端を用いた撮像型放射線検出器の開発
- 29aSL-11 超伝導遷移端(TES 型) X 線マイクロカロリメータの熱的・電気的応答とノイズ原因
- 高密度めっき垂直記録媒体 : 画像情報記録
- C-7-3 湿式法により形成したPdシードを有するCo/Pd多層膜媒体の作製(C-7.磁気記録)
- 電気化学的手法を用いた垂直二層膜媒体用下地層の作製(磁性薄膜,磁気記録一般)
- 電気化学的手法を用いた垂直二層膜媒体用下地層の作製
- ウェットプロセスによる垂直二層膜媒体用シード層の作製
- 無電解めっき法による磁性ナノドットアレイの作製(垂直記録,一般)
- ウェットプロセスによる強磁性ナノドットアレイ構造体の形成
- Si圧痕のラマン分光解析(トライボロジー/一般)
- 無電解プロセスによるマスクレスナノファブリケーション
- 最近の無電解めっき技術
- ウェットプロセスによる微細加工とマイクロ・ナノ構造形成
- 国際化学オリンピックへの代表派遣3年目を終えて
- ウェットプロセスによる機能ナノ構造薄膜形成(「磁性薄膜作製技術II」)
- 微小流路を用いた無電解析出プロセスによる複合金属ナノ粒子の作製
- ウェットプロセスによる機能ナノ構造の形成
- Al-Si合金膜表面のジンケート処理に対する下地Si基板の影響
- アモルファスSi中間層を用いた垂直面内複合型媒体の作製
- Ge 下地層を有する垂直単層磁気記録媒体の作製
- 無電解めっき法による磁性ナノドットアレイの作製
- 走査トンネル顕微鏡による銀電析過程の観察
- Pd/Sn混合触媒を用いた銅ダイレクトプレーティングにおける導体化過程の解析
- CoCrPtTaおよび[Co/Pd]_n単層垂直媒体の電磁変換特性
- CoCrPtTaおよび[Co/Pd]_n単層垂直媒体の電磁変換特性
- 高速銅電析によるプリント配線板用銅箔のモルフォロジーに及ぼす塩素イオンとにかわの相乗作用
- スパッタ法により作製した垂直面内複合型媒体のノイズ特性
- 無電解析出法による傾斜機能磁性薄膜の作製
- 2010年7月 国際化学オリンピック日本大会開催に向けて
- 国際化学オリンピック(IChO)日本大会2010年開催決定!
- 無電解CoNiP傾斜機能磁性薄膜の断面構造解析
- 電気化学的手法による磁気的機能傾斜薄膜の作製
- 化学グランプリとオリンピック
- 微小構造体形成手法としての無電解析出プロセス
- 統計に見る日米研究環境事情
- '99アジア電気化学国際会議('99ACEC)開催報告
- Electrochemistry 誌をご活用下さい!
- 化学グランプリ・オリンピック委員会から
- 固液界面反応を用いたナノファブリケーションとデバイス構築
- 電解・無電解析出法を用いた微小機能構造体の形成
- めっき技術の基礎(材料基礎講座第12回)
- ナノ構造・機能デバイス形成のための電解・無電解プロセス
- 無電解CoNiP垂直磁気記録媒体の微細構造解析
- リングヘッド/垂直面内複合型媒体系のピークシフト特性
- めっき析出過程の基礎解析手法
- 「小特集/めっき析出機構の基礎解析」の企画に当たって
- 垂直面内複合型媒体の記録再生特性 (垂直磁気記録の進展)
- CoCrTa/Cr磁性薄膜におけるSi基板前処理効果の検討 (磁気記録媒体)
- CoCrTa/Cr磁性薄膜のSi(100)基板上への成膜における基板前処理効果
- 半導体・エレクトロニクス分野における微細構造形成のためのめっきプロセス
- 無電解CoB薄膜の軟磁気特性と微細構造
- 無電解NiCr合金めっき浴の検討
- リングヘッド/垂直単層磁気記録媒体系におけるトラック端部磁化状態の解析
- 国際化学オリンピックへの代表派遣3年目を終えて(ヘッドライン:科学オリンピックへの各分野の取り組みと今後の課題)
- 化学グランプリ・オリンピック委員会から(協議会だより)
- 化学グランプリ・オリンピック委員会から(協議会だより)
- 走査トンネル顕微鏡による無電解めっき薄膜析出過程の In Situ 観察
- 電気化学的手法による機能マイクロ・ナノ構造体形成プロセス
- 量子化学計算手法による無電解析出プロセスの解析
- 成長の節目を刻むこと
- 無電解コバルト合金2層膜の結晶配向制御
- テクスチャ-処理基板上に成膜した無電解CoP薄膜媒体の磁気特性と微細構造 (湿式法による磁気記録媒体)
- 無電解Co合金めっき垂直磁気記録媒体 (湿式法による磁気記録媒体)
- 磁気ディスク界面の測定技術:プラズモンセンサの応用 : サブナノメートルへの挑戦(ハードディスクドライブ,一般)
- 無電解Co合金垂直磁気異方性薄膜作製のための新めっき浴の試み
- Electrochemistry誌をご活用下さい!
- 機能性薄膜材料の評価(1)磁性薄膜材料
- 電気化学的手法により形成した超高記録密度強磁性ナノドットアレイの初期析出過程の解析及び特性評価(固体メモリ・媒体,一般)