本間 敬之 | 早稲田大学先進理工学部
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概要
関連著者
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本間 敬之
早稲田大学先進理工学部
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平山 貴邦
早大理工
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本間 敬之
早稲田大学
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本間 敬之
早稲田大学ナノテクノロジー研究所
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本間 敬之
早大理工
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逢坂 哲彌
早稲田大学
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本間 敬之
Department Of Applied Chemistry School Of Science And Engineering Waseda University
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逢坂 哲彌
早稲田大学理工学部
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逢坂 哲彌
早大理工
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川治 純
早稲田大学
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佐藤 裕崇
Department of Applied Chemistry, Waseda University
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尾上 貴弘
早大理工
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尾上 貴弘
早稲田大学
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池田 真
早稲田大学理工学部応用化学科
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朝日 透
早稲田大学 科健機構
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尾上 貴弘
早大理工総研
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尾上 貴弘
早稲田大学生命医療工学研究所
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石崎 欣尚
首都大理工
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藤本 龍一
金沢大理工
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朝日 透
早大理工学術院:早大科健機構
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庄子 習一
早大理工
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藤本 龍一
Department Of Physics Kanazawa University
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木村 公治
早稲田大学
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満田 和久
ISAS/JAXA
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庄子 習一
早稲田大学理工学術院
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尾上 貴弘
理総研
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森田 善幸
早稲田大学理工学部応用化学科
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庄子 習一
早稲田大学
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竹井 洋
ISAS JAXA
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山崎 典子
ISAS JAXA
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黒田 能克
三菱重工業
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大西 光延
三菱重工業
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伊予本 直子
宇宙研
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森田 うめ代
都立大理
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伊豫本 直子
宇宙科学研究所
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大西 光伸
三菱重工業
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田中 睦美
早大理工
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庄子 習一
早稲田大学理工学術院ナノ理工学専攻
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朝日 透
早大理工, 材研
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伊予本 直A
宇宙研
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倉持 健太郎
早大理工
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大橋 隆哉
首都大理工
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逢坂 哲彌
早大理工, 材料技術研究所
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朝日 透
早大材研
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大橋 隆哉
都立大理
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満田 和久
宇宙研
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大島 泰
宇宙研
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二元 和朗
宇宙研
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竹井 洋
宇宙研
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中村 友亮
早稲田大
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田中 睦美
早稲田大学理工学部
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朝日 透
各務記念材料技術研究所
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倉持 健太郎
早大理工, 材研
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尾上 貴弘
早大理工, 材研
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本間 敬之
早大理工, 材研
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朝日 透
材研
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藤本 龍一
宇宙研
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山崎 典子
都立大理
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工藤 寛之
早大理工
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大内 隆成
早稲田大学先進理工学部
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本間 敬之
早大
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川上 勝
早稲田大学理工学部応用化学科
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泉 俊光
早稲田大
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北泉 太士
早稲田大学理工学部
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NIWA Daisuke
Institute for Biomedical Engineering, Waseda University
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HOMMA Takayuki
Major in Nano-Science and Nano-Engineering, Waseda University
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逢坂 哲彌
Department of Applied Chemistry, Waseda University
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森田 善幸
早大理工
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広池 哲平
都立大理
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佐藤 裕崇
早大理工
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中村 友亮
早大理工
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小林 秀臣
早大理工
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後藤 雅也
三菱重工
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田中 啓一
SIIナノテク
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田中 啓一
エスアイアイ・ナノテクノロジー(株)
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中山 哲
エスアイアイ・ナノテクノロジー(株)
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高梨 弘毅
東北大金研
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高梨 弘毅
東北大学金属材料研究所
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逢坂 哲彌
早稲田大学先進理工学部応用化学科
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石崎 欣尚
都立大
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前川 武之
三菱電機(株)
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津森 俊宏
信越化学工業(株)
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工藤 寛之
早稲田大学
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安仁屋 政憲
HOYA株式会社MD事業部
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島田 明
HOYA株式会社MD事業部
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園部 義明
HOYA株式会社MD事業部
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佐藤 浩太郎
東北学院大学工学部
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嶋 敏之
東北学院大学工学部
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石崎 欣尚
都立大理
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中山 哲
セイコーインスツルメンツ
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師岡 利光
セイコーインスツルメンツ
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茅根 一夫
セイコーインスツルメンツ
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水野 潤
早大理工
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園部 義明
Hoya株式会社
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藤森 玉行
都立大理
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師岡 利光
Sii
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齋藤 美紀子
早稲田大学ナノテクノロジー研究所
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齋藤 美紀子
早大
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水野 潤
早大院・ナノ理工
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上村 光宏
東大生研
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加藤 邦男
早大
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水野 潤
早大NTF
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Takanashi K
Institute For Solid State Physics University Of Tokyo:the Research Institute For Iron Steel And Othe
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荒川 貴博
早稲田大学理工学術院
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荒川 貴博
東京医科歯科大学
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佐藤 裕崇
早稲田大
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小林 秀臣
早稲田大
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大塚 真一郎
早稲田大
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森 健太郎
早稲田大
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市坪 太郎
宇宙科学研究所
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古賀 丈雄
東京都立大
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市坪 太郎
宇宙研
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田中 啓一
セイコーインスツルメンツ
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川治 純
早大理工
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田中 啓一
(株)エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社研究開発部
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丹羽 大介
早稲田大学理工学部
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柳沢 雅広
早稲田大学生命医療工学研究所
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久保 暢宏
早稲田大学理工学術院
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阪田 薫穂
早稲田大学理工学術院
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FUKUNAGA Hiroshi
Major in Nano-Science and Nano-Engineering, Waseda University
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庄子 習一
Department of Electrical Engineering and Bioscience, Waseda University
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佐藤 裕崇
早稲田大学 理工学部
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大西 光延
三菱重工名誘
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黒田 能克
三菱重工名誘
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有明 順
秋田県産業技術総合研究センター
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尾崎 肇
早大理工
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大内 一弘
秋田県高度技術研究所
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後藤 文男
日電
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逢坂 哲彌
早大院
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内藤 和久
早稲田大学 理工学部 理工学総合研究センター
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藤本 龍一
宇宙科学研究所
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有明 順
秋田県高度技術研究所
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広池 哲平
都立大
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満田 和久
宇宙科学研究所
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大島 泰
宇宙科学研究所
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石崎 欣尚
東京都立大学
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逢坂 哲彌
早大材研
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斎藤 景一
早大
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西尾 茂文
東京大学生産技術研究所
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松沼 悟
日立マクセル株式会社
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本間 英夫
関東学院大学 工学部
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本間 英夫
株式会社関東学院大学表面工学研究所
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森 健太郎
Department Of Neurosurgery Juntendo University Shizuoka Hospital
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篠崎 慶亮
Ard Jaxa
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飯塚 淳
早稲田大学 理工学部総合研究センター
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佐藤 浩介
都立大理
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吉田 清典
JSAS JAXA
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山崎 典子
宇宙研
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西尾 茂文
東大
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INOUE TOMOYUKI
Department of Bioengineering, Tokyo Institute of Technology
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AKASAKA Toru
Department of Pediatrics, Medical Support Center for Children and Families
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Fukunaga Hiroshi
Department Of Cardiology Mito-saiseikai General Hospital
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尾崎 肇
早大先進理工
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西尾 茂文
東大生研
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松沼 悟
日立マクセル
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堀 賢治
早稲田大学
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杉山 敦史
早稲田大学
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山崎 典子
宇宙科学研究所
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二元 和郎
宇宙科学研究所
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竹井 洋
宇宙科学研究所
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藤森 玉行
宇宙科学研究所
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吉田 清典
宇宙科学研究所
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森田 うめ代
東京都立大
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篠崎 慶亮
東京都立大
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佐藤 浩介
東京都立大
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高井 基充
東京都立大
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別府 史章
パナソニックコミュニケーションズ
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藤森 玉行
宇宙研
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古賀 丈雄
都立大
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逢坂 哲彌
早大院理工
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本間 英夫
関東学院大学工学部物質生命科学科
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朝日 透
早大理工総研
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法橋 滋郎
理工総研
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野田 和宏
早大
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塩田 則男
日電
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奥野 和義
奥野製薬工業(株)
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及川 英幸
早稲田大学理工学部
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亀尾 亮平
早稲田大学理工学部
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木村 公治
早大理工
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Gyorgy Safran
ハンガリー科学アカデミー
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北泉 太士
早大理工
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斎藤 景一
早稲田大学理工学部
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野田 和宏
早稲田大学理工学部
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後藤 文男
日本電気(株)機能エレクトロニクス研究所
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塩田 則男
日本電気(株)機能エレクトロニクス研究所
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山本 武彦
日本電気(株)機能エレクトロニクス研究所
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加藤 真裕
早稲田大学理工学術院
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柳沢 雅広
早大
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久保 暢宏
早大
-
阪田 薫穂
早大
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OSAKA Tetsuya
Institute for Biomedical Engineering, Waseda University
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大日向 陽
早稲田大学 理工学部
-
倉持 健太郎
早稲田大学理工学部応用化学科
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森田 善幸
早大理工, 材研
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川治 純
早稲田大学理工学部
-
中尾 英弘
メルテックス株式会社研究部
-
藤本 龍
宇宙研
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庄子 習
早大理工
-
後藤 雅也
三菱重工業
-
黒田 能克
(株) 三菱重工業
著作論文
- Al-si合金膜表面のジンケート処理に対する下地Si基板の影響
- フィニッシュからスタートまで
- ソフトガードバンドを有する垂直磁気記録媒体の磁化反転機構(ハードディスクドライブおよび一般)
- ソフトガードバンドを有する垂直磁気記録媒体の磁化反転機構(ハードディスクドライブ及び一般)
- ウェットプロセスによる磁性ナノドットパターン膜形成の試み(高密度記録媒体の開発とその関連技術の進展)
- G154 めっき並びに切削加工で製作したサブミリチャネルCOSMOS heat pipeの熱輸送能力検証試験(一般セッション 熱機関・システムII)
- 118 めっき並びに切削加工によるサブミリチャネルCOSMOS heat pipeの試作(材料力学(4),加工,材料)
- CS-7-4 無電解Pd/CoNiFeB下地層を用いたCo/Pd多層膜媒体の作製(CS-7.高密度垂直磁気記録方式に資する先端磁性薄膜材料開発,シンポジウム)
- 超伝導遷移端を用いた撮像型放射線検出器の開発
- 29aSL-11 超伝導遷移端(TES 型) X 線マイクロカロリメータの熱的・電気的応答とノイズ原因
- 高密度めっき垂直記録媒体 : 画像情報記録
- 電気化学プロセスによるPd/CoNiFeB下地層の作製
- C-7-3 湿式法により形成したPdシードを有するCo/Pd多層膜媒体の作製(C-7.磁気記録)
- 電気化学的手法を用いた垂直二層膜媒体用下地層の作製(磁性薄膜,磁気記録一般)
- 電気化学的手法を用いた垂直二層膜媒体用下地層の作製
- ウェットプロセスによる垂直二層膜媒体用シード層の作製
- 無電解めっき法による磁性ナノドットアレイの作製(垂直記録,一般)
- パターン媒体作製を目的とした無電解CoNiP析出前処理条件の検討
- ウェットプロセスによる強磁性ナノドットアレイ構造体の形成
- Si圧痕のラマン分光解析(トライボロジー/一般)
- 無電解プロセスによるマスクレスナノファブリケーション
- 2204 Si表面インデンテーション痕の共焦点ラマン散乱分光(要旨講演,マイクロナノ理工学)
- 最近の無電解めっき技術
- ウェットプロセスによる微細加工とマイクロ・ナノ構造形成
- 国際化学オリンピックへの代表派遣3年目を終えて
- ウェットプロセスによる機能ナノ構造薄膜形成(「磁性薄膜作製技術II」)
- Surface Conductivity in Methyl-monolayer/Si Heterojunction Structure in the Presence of Water
- 高アスペクト比構造の作製を目的としたSi微細孔形成および金属埋込みの電気化学的一括プロセス
- ウェットプロセスによる磁性ナノドットパターン膜形成の試み
- 微小流路を用いた無電解析出プロセスによる複合金属ナノ粒子の作製
- ウェットプロセスによる機能ナノ構造の形成
- Al-Si合金膜表面のジンケート処理に対する下地Si基板の影響
- アモルファスSi中間層を用いた垂直面内複合型媒体の作製
- アモルファスSi中間層を用いた垂直面内複合型媒体の作製
- Ge 下地層を有する垂直単層磁気記録媒体の作製
- CoCrPtTa/CoCr/Ge垂直単層媒体の記録再生特性に及ぼすGe下地層厚の効果
- Ge下地層を有する垂直単層磁気記録媒体の作製
- 垂直単層磁気記録媒体における結晶配向分散の効果
- 27pXD-5 TES型X線マイクロカロイメータの開発(VII) : エネルギー分解能の追求
- 25pSG-5 TES型X線マイクロカロリメータの開発 (VI) : X線分光性能の評価
- 25pSG-4 TES型X線マイクロカロリメータの開発V : TES温度計の性能向上
- 無電解めっき法による磁性ナノドットアレイの作製
- 19aWD-13 電気化学手法によりSi(111)表面スクラッチに形成したNiドット・アレイのMFMによる評価
- Electrochemical Behavior of Methyl- and Butyl- Terminated Si(111) in Aqueous Solution
- Pd/Sn混合触媒を用いた銅ダイレクトプレーティングにおける導体化過程の解析
- 無電解めっき法によるCoNiP磁性ドット媒体の作製
- CおよびSi下地層を有するCo/Pd多層垂直磁気記録媒体の微細構造解析
- CoCrPtTaおよび[Co/Pd]_n単層垂直媒体の電磁変換特性
- CoCrPtTaおよび[Co/Pd]_n単層垂直媒体の電磁変換特性
- Ab initio 分子軌道法による無電解めっきにおける還元剤ヒドラジン及びヒドロキシルアミンの酸化反応機構の検討
- 高感度X線画像センサーの作製を目的としたBi電解析出プロセスの研究
- CoCrPtTa/NiCr/Ti媒体におけるTi下地層へのN_2添加効果
- CoCrPtTa/Ni及びCoCrPtTa/Ni/Ti垂直面内複合型媒体の作製
- C-7-15 NiCr磁性下地層を付与した垂直面内複合型媒体の作製
- 無電解析出プロセスにおける還元剤TiCl_3の電子放出機構の ab initio 分子軌道法による検討
- 垂直単層媒体および垂直面内複合型媒体におけるベースラインシフト
- スパッタ法により作製した垂直面内複合型媒体のノイズ特性
- スパッタ法による垂直面内複合型媒体の作製
- スパッタ法により作製した垂直面内複合型媒体における面内下地層保磁力の影響
- スパッタ法により作製した垂直面内複合型媒体のノイズ特性
- スパッタ法による垂直面内複合型媒体の作製
- 高アスペクト比構造の作製を目的としたSi微細孔形成および金属埋込みの電気化学的一括プロセス
- 無電解析出法による傾斜機能磁性薄膜の作製
- Formation of Micro and Nanoscale Patterns of Monolayer Templates for Position Selective Immobilization of Oligonucleotide Using Ultraviolet and Electron Beam Lithography
- 無電解CoNiP傾斜機能磁性薄膜の断面構造解析
- 電気化学的手法による磁気的機能傾斜薄膜の作製
- Electrochemistry 誌をご活用下さい!
- 化学グランプリ・オリンピック委員会から
- 固液界面反応を用いたナノファブリケーションとデバイス構築
- 電解・無電解析出法を用いた微小機能構造体の形成
- Fabrication of Organic Monolayer Modified Ion-Sensitive Field Effect Transistors with High Chemical Durability
- めっき技術の基礎(材料基礎講座第12回)
- ナノ構造・機能デバイス形成のための電解・無電解プロセス
- めっき析出過程の基礎解析手法
- 「小特集/めっき析出機構の基礎解析」の企画に当たって
- 垂直面内複合型媒体の記録再生特性 (垂直磁気記録の進展)
- 半導体・エレクトロニクス分野における微細構造形成のためのめっきプロセス
- リングヘッド/垂直単層磁気記録媒体系におけるトラック端部磁化状態の解析
- リングヘッド/垂直単層記録媒体系における記録ヘッドパラメータの影響
- リングヘッド/垂直単層磁気記録媒体におけるトラック端部磁化状態の解析
- 国際化学オリンピックへの代表派遣3年目を終えて(ヘッドライン:科学オリンピックへの各分野の取り組みと今後の課題)
- 化学グランプリ・オリンピック委員会から(協議会だより)
- 化学グランプリ・オリンピック委員会から(協議会だより)
- 水和次亜リン酸のPd(111)表面に対する吸着構造の理論解析
- 電気化学的手法による機能マイクロ・ナノ構造体形成プロセス
- 次亜リン酸の酸化反応に対する金属表面の触媒活性の理論的解析
- 量子化学計算手法による無電解析出プロセスの解析
- 成長の節目を刻むこと
- 解説 湿式プロセスによる磁性薄膜の形成 (特集 ソフト溶液プロセス)