朝日 透 | 早稲田大学 科健機構
スポンサーリンク
概要
関連著者
-
朝日 透
早稲田大学 科健機構
-
逢坂 哲彌
早稲田大学理工学部
-
逢坂 哲彌
早稲田大学
-
朝日 透
早大理工学術院:早大科健機構
-
川治 純
早稲田大学
-
佐山 淳一
早稲田大学 理工学術院
-
佐山 淳一
早稲田大学
-
本間 敬之
早稲田大学先進理工学部
-
本間 敬之
早稲田大学
-
平山 貴邦
早大理工
-
水谷 一貴
早稲田大学
-
水谷 一貴
早稲田大学大学院理工学研究科
-
松沼 悟
日立マクセル株式会社
-
松沼 悟
日立マクセル
-
木村 公治
早稲田大学
-
杉山 敦史
早稲田大学
-
田中 睦美
早稲田大学理工学部
-
田中 睦美
早大理工
-
尾上 貴弘
理総研
-
尾上 貴弘
早稲田大学生命医療工学研究所
-
尾上 貴弘
早稲田大学
-
本間 敬之
早稲田大学ナノテクノロジー研究所
-
田中 睦美
早稲田大学
-
杉山 敦史
早稲田大学 理工学術院
-
水牧 仁一朗
高輝度光セ
-
水牧 仁一朗
高輝度光科学研究センター利用促進部門
-
安居院 あかね
原子力機構放射光
-
安居院 あかね
日本原子力研究所・関西研究所・放射光科学研究センター
-
逢坂 哲彌
早稲田大学先進理工学部応用化学科
-
安居院 あかね
Uppsala University
-
吉野 正洋
早稲田大学 理工学部
-
安達 健
早稲田大学理工学術院
-
逢坂 哲彌
早稲田大学 理工学術院
-
吉野 正洋
Advanced Research Institute For Science & Engineering
-
法橋 滋郎
早大理工学術院
-
安居院 あかね
日本原子力研究所
-
水牧 仁一朗
高輝度光科学研究センター
-
有明 順
秋田県産業技術総合研究センター
-
安居院 あかね
JAEA
-
大内 一弘
秋田県高度技術研究所
-
津森 俊宏
信越化学工業(株)
-
有明 順
秋田県高度技術研究所
-
法橋 滋郎
早稲田大学-理工総研
-
津森 俊宏
信越化学工業
-
法橋 滋郎
早稲田大学
-
山下 勇気
早稲田大学
-
坂上 万里子
早稲田大学理工学術院
-
橋本 英樹
早稲田大学
-
菊池 雄太
早稲田大学理工学術院
-
菊池 雄太
早稲田大学大学院文学研究科博士課程
-
松本 幸治
山形富士通次世代媒体開発推進室
-
森河 剛
山形富士通次世代媒体開発推進室
-
松下 智裕
Jasri
-
横島 時彦
早稲田大学
-
森河 剛
富士通研
-
松下 智裕
高輝度光科学研究センター
-
松本 幸治
富士通研究所
-
森河 剛
富士通研究所
-
朝日 透
早大材研
-
朝日 透
早稲田大学各務記念材料技術研究所
-
小林 〓三
早大理工
-
小林 〓三
早大材研
-
堀 賢治
早稲田大学
-
小林 謙三
早大理工
-
本間 敬之
早大理工
-
Gyorgy Safran
ハンガリー科学アカデミー
-
本間 敬之
Department Of Applied Chemistry School Of Science And Engineering Waseda University
-
森田 善幸
早稲田大学理工学部応用化学科
-
奥尾 洋保
早稲田大学理工学総合研究センター
-
逢坂 哲爾
早稲田大学理工学部
-
倉持 健太郎
早稲田大学理工学部応用化学科
-
倉持 健太郎
早大理工
-
横島 時彦
早稲田大学 理工学術院
-
酒井 浩志
昭和電工
-
Safran G
Hungarian Acad. Sci.
-
大森 将弘
昭和電工総研
-
太田 浩史
昭和電工
-
小林 〓三
早稲田大学教授;各務記念材料技術研究所
-
川治 純
理工学部
-
法橋 滋郎
理総研
-
逢坂 哲彌
理総研
-
大森 将弘
昭和電工
-
小林 甚三
早稲田大学
-
小林 甚三
早稲田大 各務記念材料技研
-
奥尾 洋保
早稲田大学理工学総合研究センター:ゼブラ株式会社
-
本間 敬之
Department Of Applied Chemistry Waseda University
-
朝日 透
早稲田大学先端生命医科学センター
-
田中 真人
(独)産業技術総合研究所
-
安居院 あかね
原子力機構量子ビーム
-
鈴木 清貴
早稲田大学博士キャリアセンター
-
中里 弘道
早稲醗大学博士キャリアセンター
-
松下 智裕
高輝度光科学研究セ
著作論文
- CS-7-6 X線磁気円二色性吸収分光によるDy_xCo_垂直磁化膜の研究(CS-7.高密度垂直磁気記録方式に資する先端磁性薄膜材料開発,シンポジウム)
- アモルファス希土類遷移金属合金垂直磁化膜のスペリ磁性 : 軟X線MCD測定をプローブとして
- 軟X線磁気円二色性分光で観る超高密度垂直磁気記録媒体
- Co-L_吸収端磁気円二色性測定を用いた[Co/Pd]_n多層垂直磁化膜の研究
- CS-7-4 無電解Pd/CoNiFeB下地層を用いたCo/Pd多層膜媒体の作製(CS-7.高密度垂直磁気記録方式に資する先端磁性薄膜材料開発,シンポジウム)
- SmCo_5垂直磁気ストレージ媒体の磁気的性質
- SmCo_5垂直磁化膜の磁気特性に及ぼすCu添加の効果
- Cu/Ti下地層の適用によるSmCo_5垂直磁化膜の高磁気異方性化
- Cu下地層を有するSmCo_5垂直磁化膜の磁気特性
- Cu下地層を有するSmCo_5垂直磁化膜の磁気特性(垂直記録及び一般)
- SC-7-7 垂直磁気異方性を有するSmCo_5薄膜の作製(SC-7.垂直磁気記録HDDのための要素技術と最近の動向)
- C-7-2 SmCo_5垂直磁化膜の磁気特性に及ぼすCu下地層の影響(C-7.磁気記録)
- C-7-1 CoB/Pd 多層膜の磁気特性に及ぼすスパッタリング条件の影響
- 記録層への非磁性層導入による[Co/Pd]_n垂直磁気記録媒体の低ノイズ化(垂直記録および一般)
- 無電解めっき法を用いた垂直2層膜媒体軟磁性裏打ち層の開発
- 無電解めっき法を用いた垂直2層膜媒体軟磁性裏打ち層の開発(画像記録装置及び一般)
- C-7-3 湿式法により形成したPdシードを有するCo/Pd多層膜媒体の作製(C-7.磁気記録)
- 電気化学的手法を用いた垂直二層膜媒体用下地層の作製(磁性薄膜,磁気記録一般)
- 電気化学的手法を用いた垂直二層膜媒体用下地層の作製
- [Co/Pd]_n垂直二層膜媒体用Pd/Siシード層の膜厚低減
- ウェットプロセスによる垂直二層膜媒体用シード層の作製
- C-7-2 Pd/Si シード層による [Co/Pd]_n-CoZrNb 垂直二層膜媒体の微細構造制御とノイズ低減
- MR2000-13 アモルファス下地層付与による垂直磁気記録単層媒体の微細構造制御
- 遷移金属・貴金属系磁気記録材料の磁気物性と磁区構造 : イントロダクション
- カーボン下地層を有するCo/Pd多層膜垂直磁気記録媒体の作製
- 軟磁性裏打ち層への無電解めっきCoNiFeBの適用 : デュアル膜による低ノイズ化
- 軟磁性裏打ち層への無電解めっきCoNiFeBの適用 : デュアル膜による低ノイズ化(磁気記録に関わる材料及びシステムの開発と評価)
- C-7-3 無電解めっき法による軟磁性裏打ち層を用いた垂直二層膜媒体の開発
- 固体の光学活性測定装置「ハウプ」
- CoCrPtTaおよび[Co/Pd]_n単層垂直媒体の電磁変換特性
- CoCrPtTaおよび[Co/Pd]_n単層垂直媒体の電磁変換特性
- アモルファス下地層Co/Pd多層膜垂直磁気記録媒体の磁気特性と微細構造
- ハウプ法の物質科学への応用
- Generalized High Accuracy Universal Polarimeter の測定法とその応用
- 理工系ポスドク・博士人材のキャリアデザインと大学院改革("ポスドク"問題 その28)