有明 順 | 秋田県産業技術総合研究センター
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概要
関連著者
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有明 順
秋田県産業技術総合研究センター
-
有明 順
秋田県高度技術研究所
-
大内 一弘
秋田県高度技術研究所
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本多 直樹
東北工業大学工学部
-
本多 直樹
秋田県高度技術研究所
-
近藤 祐治
AIT
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大内 一弘
AIT(秋田県高度技術研究所)
-
有明 順
秋田県産業技術センター
-
本多 直樹
AIT(秋田県高度技術研究所)
-
有明 順
AIT(秋田県高度技術研究所
-
木谷 貴則
秋田県産業技術総合研究センター高度技術研究所
-
近藤 祐治
秋田県産業技術総合研究センター
-
経徳 敏明
秋田県産業技術総合研究センター高度技術研究所
-
近藤 祐治
秋田県産業技術センター
-
千葉 隆
秋田県産業技術総合研究センター
-
本多 直樹
東北工業大学
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渡辺 さおり
秋田県高度技術研究所
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木谷 貴則
秋田県高度技術研究所
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石尾 俊二
秋田大学工学資源学部
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経徳 敏明
AIT(秋田県高度技術研究所
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渡辺 さおり
秋田県高度技研
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石尾 俊二
秋田大学
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石尾 俊二
秋田大学大学院工学資源学研究科材料工学専攻
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石尾 俊二
秋田大
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山川 清志
秋田県産業技術総合研究センター
-
大内 一弘
秋田高技研
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本多 直樹
秋田高技研
-
有明 順
秋田高技研
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鈴木 基寛
高輝度光科学研究センター
-
河村 直己
高輝度光科学研究センター
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木谷 貴則
秋田県産業技術総合研究センター
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朝日 透
早大理工学術院:早大科健機構
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山川 清志
秋田県産業技術総合研究センタ
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木谷 貴則
秋田県高度技術研究所(AIT)
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鈴木 淑男
秋田県高度技術研究所
-
鈴木 淑男
秋田県産業技術総合研究センター高度技術研究所
-
千葉 隆
秋田県高度技術研究所(AIT)
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梁瀬 智
秋田大学 電気電子工学科:秋田県高度技術研究所
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山川 清志
秋田県産業技術総合研究センター 高度技術研究所
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山川 清志
秋田県産業技術センター
-
山川 清志
秋田県産業技術セ
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長谷川 崇
秋田大学
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河村 直己
高輝度光セ
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鈴木 基寛
(財)高輝度光科学研究センター
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保坂 純男
群馬大学大学院工学研究科
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鈴木 基寛
Jasri Spring-8
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逢坂 哲彌
早稲田大学理工学部
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河村 直巳
JASRI
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逢坂 哲彌
早稲田大学
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朝日 透
早稲田大学 科健機構
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松沼 悟
日立マクセル株式会社
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木谷 貴則
AIT(秋田県高度技術研究所)
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松沼 悟
日立マクセル
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Gyorgy Safran
ハンガリー科学アカデミー
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Safran G
Hungarian Acad. Sci.
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山川 清志
秋田県産業技術総合研究センター:東北大学電気通信研究所
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山根 治起
秋田県産業技術総合研究センター
-
鈴木 基寛
高輝度光科学セ
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山崎 大
原子力機構J-PARCセ
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曽山 和彦
原子力機構J-PARCセ
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平野 辰巳
日立製作所
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山崎 大
原研 東海研 大強度陽子加速器施設開セ
-
保坂 純男
群馬大学 大学院工学研究科
-
田口 香
秋田県産業技術総合研究センター
-
MOHAMAD Zulfakri
群馬大学
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伊勢 和幸
秋田県産業技術総合研究センター
-
保坂 純男
群馬大学 ; 工学部電気電子工学科
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鈴木 基寛
財団法人高輝度光科学研究センター
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田口 香
秋田県産業技術総合研究センター高度技術研究所
-
大内 一弘
秋田高度技研
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鳥飼 直也
高エネルギー加速器研究機構
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武田 全康
日本原子力機構
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佐藤 勇武
TDK応用製品研究所
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曽山 和彦
原子力機構
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曽山 和彦
原研 東海研 大強度陽子加速器施設開セ
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武田 全康
Jaea
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川村 直己
JASRI SPring-8
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佐山 淳一
早稲田大学 理工学術院
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川治 純
早稲田大学
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鳥飼 直也
三重大
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曽山 和彦
日本原子力研究所
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佐山 淳一
早稲田大学
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経徳 敏明
秋田県高度技術研究所
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新宅 一彦
秋田県高度技術研究所
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山根 治起
秋田県高度技術研究所
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西尾 博明
TDK (株) 基礎材料研究所
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渡辺 さおり
秋田高技研
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橋本 一慶
茨城大学大学院理工学研究科
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長崎 侑弥
茨城大学大学院理工学研究科
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大貫 仁
茨城大学工学部
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山崎 大
日本原子力研究開発機構
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戸田 哲也
(現)日立マクセル(株)
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青山 勉
Tdk
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青山 勉
Tdk(株)情報技術研究所
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山崎 大
日本原子力研究開発機構量子ビーム応用研究部門
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水谷 一貴
早稲田大学
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尾上 貴弘
理総研
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有明 順
秋田高度技研
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水谷 一貴
早稲田大学大学院理工学研究科
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西尾 博明
TDK(株)基礎材料研究所
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西尾 博明
Tdk
-
西尾 博明
Tdk 基礎材料研
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梁瀬 智
AIT(秋田県高度技術研究所)
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鈴木 淑男
AIT(秋田県高度技術研究所)
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河村 直已
高輝度光科学研究センター
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佐藤 勇武
Tdk
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曽山 和彦
J‐parcセ
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武田 全康
原子力機構
-
山崎 大
日本原子力研究開発機構j-parcセンター
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武田 全康
原子力機構j-parc:原子力機構量子ビーム
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山崎 大
日本原子力研究所・中性子利用研究センター
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鳥飼 直也
高エネルギー加速器研究所
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石尾 俊二
秋田大学工学資源学研究科
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伊勢 和幸
秋田県産業技術センター
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鳥飼 直也
高エネルギー加速器機構
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鈴木 基寛
SPring-8:JASRI
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河村 直己
高輝度光科学セ
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高橋 信吾
秋田大
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本多 直樹
秋田県産業技術総合研究センター高度技術研究所
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近藤 祐治
秋田研産業技術総合研究センター高度技術研究所
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千葉 隆
秋田研産業技術総合研究センター高度技術研究所
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有明 順
秋田研産業技術総合研究センター高度技術研究所
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田口 香
秋田研産業技術総合研究センター高度技術研究所
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Zulfakri Bin
群馬大学工学部
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保坂 純男
群馬大学工学部
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長谷川 崇
秋田大学工学資源学部
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保坂 純男
群馬大学大学院工学研究科ナノ材料システム工学専攻
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本多 直樹
秋田高度技研
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青山 勉
TDK株式会社応用製品研究所
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佐藤 勇武
TDK株式会社応用製品研究所
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高垣 昌史
高輝度光科学研究センター
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逢坂 哲彌
早大理工
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朝日 透
早大材研
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山川 清志
秋田県産業技術総合研究センター高度技術研究所
-
高垣 昌史
高輝度光科学研究センター利用研究促進部門
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青山 勉
TDK (株) 応用製品研究所
-
佐藤 勇武
TDK (株) 応用製品研究所
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本間 敬之
早稲田大学先進理工学部
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法橋 滋郎
早稲田大学-理工総研
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逢坂 哲彌
早大理工総研
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戸田 哲也
日立マクセル(株)
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山下 勇気
早稲田大学
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川治 純
早大理工
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朝日 透
早大理工総研
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梁瀬 智
秋田県高度技術研究所
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本間 敬之
早大理工
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橋本 英樹
早稲田大学
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尾上 貴弘
Twente 大
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SAFRAN G.
ハンガリー科学アカデミー
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倉持 健太郎
早大理工, 材研
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平山 貴邦
早大理工
-
倉持 健太郎
早大理工
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荒川 明
秋田大学医学部第1外科
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中村 勇希
秋田大学工学資源学部
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経徳 敏明
秋田高度技研
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鈴木 淑男
秋田高度技研
-
田中 保成
群馬大学大学院工学研究科
-
MOHAMAD Z.
群馬大学大学院工学研究科
-
三富 直彦
工学部電気電子工学科
-
YIN Y.
群馬大学大学院工学研究科
-
近藤 祐司
秋田県産業技術総合研究センター
-
法橋 滋郎
早大理工学術院
-
尾上 貴弘
理工総研
-
SAFRAN G.
秋田県高度技術研究所
-
本多 直樹
AIT (秋田県高度技術研究所)
-
大内 一弘
AIT (秋田県高度技術研究所)
-
本多 章人
東北工業大学工学部
-
梁瀬 智
AIT (秋田県高度技術研究所)
-
有明 順
AIT (秋田県高度技術研究所)
-
法橋 滋郎
早稲田大学
-
山根 治起
秋田産業技術センター
-
高橋 信吾
秋田大学
-
佐々木 博美
秋田大学
-
有明 順
秋田産業技術センター
-
近藤 祐治
秋田産業技術センター
-
経徳 敏明
秋田高技研
-
荒川 明
秋田大学
-
保坂 純男
群馬大学大学院
-
戸田 哲也
日立マクセル
著作論文
- 異常ホール効果を用いた微細磁性ドットの評価(記録システムおよび一般)
- ビットパターン媒体用1Tbit/in^2級Co-Ptドットアレイの作製(ヘッド・媒体および一般)
- ビットパターン媒体用1Tbit/in^2級Co-Ptドットアレイの作製(ヘッド・媒体及び一般)
- 低エネルギーイオンエッチングを用いたビットパターン媒体用1Tdot/in2級 Co-Ptドットアレイの作製
- 1Tbit/in^2級微細磁性ドットアレイの形状が磁気特性、記録特性に及ぼす影響(ハードディスクドライブおよび一般)
- 1Tbit/in^2級微細磁性ドットアレイの形状が磁気特性、記録特性に及ぼす影響(ハードディスクドライブ及び一般)
- ビットパターン媒体のためのナノ磁性ドットの作製と磁気特性評価 (特集 2 Tbit/inch[2]を超える密度を目指すハードディスク記録技術)
- 垂直磁気記録媒体用Co-Pt-TiO_2グラニュラ膜への熱処理による磁気特性・記録再生特性の改善(ハードディスクドライブおよび一般)
- 垂直磁気記録媒体用Co-Pt-TiO_2グラニュラ膜への熱処理による磁気特性・記録再生特性の改善(ハードディスクドライブ及び一般)
- Gaイオンを用いて作製したCoPtドットのmicro-XMCDによる磁気特性評価(垂直磁気記録及び一般)
- Gaイオンを用いて作製したCoPtドットのmicro-XMCDによる磁気特性評価 (マルチメディアストレージ)
- Fe-Co-Al-O高飽和磁化膜の微細構造に及ぼす下地層の効果
- SC-7-4 CoPtCr-SiO_2薄膜の磁気特性に与える成膜条件の影響(SC-7.垂直磁気記録HDDのための要素技術と最近の動向)
- 微量Al_2O_3添加Fe-Co系高飽和磁化膜の微細構造
- 超高分解能二層膜垂直磁気記録媒体の作製
- Co-Cr/Ti系垂直磁気記録媒体の熱安定性
- CoCr/Ti系垂直磁気記録媒体の熱安定性
- Co-Cr-Y垂直磁気記録媒体における抗磁力の膜厚依存性
- Co-Cr-Y垂直磁気記録媒体抗磁力の膜厚依存性
- CoPt-TiO_2垂直磁気記録薄膜の磁気特性と膜構造(媒体および一般)
- CoPt-TiO_2垂直磁気記録薄膜の磁気特性と膜構造(媒体及び一般)
- SmCo_5垂直磁化膜の磁気特性に及ぼすCu添加の効果
- C-7-2 SmCo_5垂直磁化膜の磁気特性に及ぼすCu下地層の影響(C-7.磁気記録)
- C-7-2 Pd/Si シード層による [Co/Pd]_n-CoZrNb 垂直二層膜媒体の微細構造制御とノイズ低減
- C及びSi下地層を有するCo/Pd多層膜の磁気異方性及び微細構造の研究
- 異常ホール効果を用いた微細磁性ドットの評価(記録システム及び一般)
- 反射型結像鏡を用いた顕微カー効果磁気計測装置の開発
- 電子線描画法を用いた2Tb/in^2超高密度パターンドメディア形成の可能性
- Pt系中間層を用いたCo-Cr-Pt-Nb垂直二層膜媒体(磁性薄膜及び一般)
- 2層膜垂直媒体と単磁極ヘッドによる50Gbit/inch^2を目指した記録特性
- 低ノイズ化二層膜垂直磁気記録媒体の作製
- 低ノイズ化二層膜垂直磁気記録媒体の作製
- 高垂直抗磁力Co-Cr-Pt薄膜の薄層化 : 垂直磁気記録媒体
- 高垂直抗磁力Co-Cr-Pt薄膜の薄層化
- 高垂直磁気異方性Co-Cr-Pt薄膜媒体の作製
- 高垂直磁気異方性Co-Cr-Pt薄膜媒体の作製
- CおよびSi下地層を有するCo/Pd多層垂直磁気記録媒体の微細構造解析
- ビットパターン媒体のためのナノ磁性ドットの作製と磁気特性評価
- 超高密度ストレージの研究開発
- Co-Pt-Ta_2O_5膜の磁気特性と膜構造
- 磁気記録媒体の表面保護膜と下地記録層との界面構造(垂直記録および一般)
- 磁気記録媒体の表面保護膜と下地記録層との界面構造
- SC-6-1 下地材料によるカーボン保護膜の耐久性向上
- 極薄軟磁性裏打ち膜を持つ垂直磁気記録媒体の高面密度記録特性
- 極薄軟磁性裏打ち膜を持つ垂直磁気記録媒体の高面密度記録特性
- Co-Cr-Nb系垂直磁気記録媒体による高面密度記録
- Co-Cr-Y垂直磁気記録媒体の構造と磁気特性
- 高垂直磁気異方性Co-Cr-Pt薄膜
- MR2000-5 高垂直磁気異方性Co-Cr-Pt薄膜
- Co-Cr-M垂直異方性膜の構造と磁気特性
- Co-Cr-M垂直異方性膜の構造と磁気特性
- 4) Co-Cr-Nb系垂直磁気記録媒体による高面密度記録(画像情報記録研究会)
- [001]高配向L1_0FePtドットパターンの作製とその磁気特性
- 極薄Co-Cr-Pt膜による高Hc・高SQ垂直磁気記録媒体の検討
- ビットパターン媒体の課題と将来展望
- 2層膜垂直磁気記録媒体のノイズ
- 2層膜垂直磁気記録媒体のノイズ
- Pt/Pd中間層によるCo-Cr系二層膜垂直記録媒体の粒経制御と熱安定性
- Pt/Pd中間層によるCo-Cr系二層膜垂直記録媒体の粒径制御と熱安定性
- コリメータスパッタによる傾斜異方性膜の作製 (磁気記録・情報ストレージ)
- Co-Cr-Pt-Nb二層膜垂直磁気記録媒体の熱安定性の検討
- Co-Cr-Nb垂直磁気記録媒体の磁気特性と磁気的構造