大内 一弘 | 秋田高度技研
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概要
関連著者
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大内 一弘
秋田高度技研
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山川 清志
秋田高度技研
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田口 香
秋田県産業技術総合研究センター
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田口 香
秋田県産業技術総合研究センター高度技術研究所
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田口 香
秋田高度技研
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山川 清志
秋田県産業技術総合研究センター 高度技術研究所
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伊勢 和幸
秋田県産業技術総合研究センター
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伊勢 和幸
秋田高度技研
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本多 直樹
秋田高度技研
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有明 順
秋田県産業技術総合研究センター
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本多 直樹
東北工業大学工学部
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高橋 慎吾
秋田県産業技術総合研究センター
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高橋 慎吾
秋田高度技研
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有明 順
秋田高度技研
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石尾 俊二
秋田大
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斉藤 準
秋田大学工学資源学部
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長谷川 崇
秋田大学
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斎藤 準
秋田大学工学資源学部材料工学科
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大内 一弘
秋田県高度技術研究所
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伊藤 弘高
秋田大
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川治 純
早稲田大学
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朝日 透
早大理工学術院:早大科健機構
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経徳 敏明
秋田県産業技術総合研究センター高度技術研究所
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山川 清志
秋田県産業技術総合研究センター高度技術研究所
-
伊藤 弘高
秋田大学工学資源学部
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逢坂 哲彌
早大理工総研
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川治 純
早大理工
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朝日 透
早大理工総研
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尾上 貴弘
理総研
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Gyorgy Safran
ハンガリー科学アカデミー
-
尾上 貴弘
Twente 大
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SAFRAN G.
ハンガリー科学アカデミー
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鈴木 淑男
秋田県高度技術研究所
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鈴木 淑男
秋田県産業技術総合研究センター高度技術研究所
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Safran G
Hungarian Acad. Sci.
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経徳 敏明
秋田高度技研
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鈴木 淑男
秋田高度技研
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山川 清志
秋田県産業技術総合研究センター:東北大学電気通信研究所
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斉藤 準
秋田大 大学院工学資源学研究科
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石尾 俊二
秋田大学
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山川 清志
秋田県産業技術センター
著作論文
- L1_0型FePt薄膜へのGaイオン照射によるA1型不規則相の形成
- 直流バイアス記録による転移点シフトの改善
- 高トラック密度化のための単磁極ヘッド設計
- 狭トラック垂直磁気記録での媒体裏打ち層厚効果
- C及びSi下地層を有するCo/Pd多層膜の磁気異方性及び微細構造の研究
- 高垂直抗磁力Co-Cr-Pt薄膜の薄層化
- 高記録分解能カスプコイル励磁型単磁極ヘッド
- 外部磁界耐性を有する単磁極ヘッド