電子線描画法を用いた2Tb/in^2超高密度パターンドメディア形成の可能性
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概要
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- 2009-03-13
著者
-
有明 順
秋田県産業技術総合研究センター
-
保坂 純男
群馬大学大学院工学研究科ナノ材料システム工学専攻
-
保坂 純男
群馬大学大学院工学研究科
-
田中 保成
群馬大学大学院工学研究科
-
MOHAMAD Z.
群馬大学大学院工学研究科
-
三富 直彦
工学部電気電子工学科
-
YIN Y.
群馬大学大学院工学研究科
-
近藤 祐司
秋田県産業技術総合研究センター
-
保坂 純男
群馬大学大学院
-
有明 順
秋田県産業技術センター
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