Al_2O_3基板上にY, Cu, BaF_2をスパッタ成膜した前駆体膜の後熱処理によるYBCO薄膜の作製(超伝導エレクトロニクス)
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概要
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Y,BaF_2,Cuのターゲットを用いた同時スパッタリング法により,Al_2O_3基板上に前駆体薄膜を成膜し,酸素中の後熱処理を施しYBCO膜を作製した.本手法により得られたYBCO超伝導膜の臨界温度(T_c)は75Kであった.Al_2O_3基板を使用し,前駆体薄膜を後熱処理によりYBCO膜を形成する従来の報告例と比較して,15K高い値が得られた.厚さ方向のAES測定を行うことにより,YBCO膜の部分には,Fは存在せず,YBCO膜とAl_2O_3基板との界面部には,BaF_2としてFが存在することが分かった.この界面部に存在するBaF_2が中間層あるいはバリヤ層として作用することによって,膜と基板の間での反応が抑制され,Al_2O_3基板上での高いT_cが実証できたものと考える.
- 2010-09-01
著者
-
保坂 純男
群馬大学大学院工学研究科ナノ材料システム工学専攻
-
保坂 純男
群馬大学大学院工学研究科
-
佐藤 淳一
日立電線株式会社
-
羽多野 毅
(独)物質・材料研究機構
-
佐藤 孝一
北大院工
-
佐藤 淳一
日立電線
-
保坂 純男
群馬大学大学院
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