松沼 悟 | 日立マクセル株式会社
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概要
関連著者
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松沼 悟
日立マクセル株式会社
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松沼 悟
日立マクセル
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松沼 悟
日立マクセル開発本部
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松沼 悟
Hitachi Maxell Development & Technology Division
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矢野 亮
日立マクセル 開発本部
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矢野 亮
日立マクセル開発本部
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矢野 亮
日立マクセル
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神田 哲典
日立マクセル
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神田 哲典
日立マクセル開発本部
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神田 哲典
日立マクセル 開発本部
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山中 英明
日立マクセル開発本部
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中川 茂樹
東京工業大学大学院理工学研究科電子物理工学専攻
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中川 茂樹
東京工業大学
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平田 健一郎
東京工業大学
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井上 鉄太郎
日立マクセルアドバンストメディア事業部
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土井 嗣裕
日立マクセルアドバンストメディア事業部
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松鵜 利光
東京工業大学大学院理工学研究科電子物理工学専攻
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藤田 塩地
日立マクセル株式会社 開発本部
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小沼 剛
日立マクセル開発本部
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小沼 剛
Plasma Research Center University Of Tsukuba:(present Address) Tsukuba Research Laboratory Hitachi M
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井上 鉄太郎
日立マクセル アドバンストメディア事業部
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松鵜 利光
東京工業大学大学院 理工学研究科 電子情報物理専攻
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土井 嗣裕
日立マクセル アドバンストメディア事業部
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中川 茂樹
東工大
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中川 茂樹
東京工業大学大学院電子物理工学専攻
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逢坂 哲彌
早稲田大学理工学部
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逢坂 哲彌
早稲田大学
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朝日 透
早稲田大学 科健機構
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朝日 透
早大理工学術院:早大科健機構
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橋本 篤人
東京工業大学
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橋本 篤人
東京工業大学電子物理工学専攻
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有明 順
秋田県産業技術総合研究センター
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大内 一弘
秋田県高度技術研究所
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佐山 淳一
早稲田大学 理工学術院
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川治 純
早稲田大学
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佐山 淳一
早稲田大学
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太田 憲雄
日立マクセル
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有明 順
秋田県高度技術研究所
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五味 俊輔
東京工業大学大学院理工学研究科電子物理工学専攻
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太田 憲雄
日立マクセル株式会社開発本部
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太田 憲雄
日立マクセル株式会社 開発本部
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太田 憲雄
日立マクセル(株)
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Ota Norio
R&d Division Hitach Maxell Ltd.
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Ota Norio
Development & Technology Division Hitachi Maxell. Ltd.
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Ota Norio
Development & Technology Division Hitachi Maxell Ltd.
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太田 憲雄
日立 中研
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Ohta Norio
Central Research Laboratory Hitachi Ltd.
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Ohta Norio
Tsukuba Research Lab. Hitachi Maxell Ltd.
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Ohta Norio
Department Of Physics Faculty Of Science Tohoku University:central Research Laboratory Hitachi Ltd.
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Ota N
Hitachi Maxell Ltd.
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Ota N
Hitachi Maxell Ltd. Ibaraki Jpn
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太田 憲雄
日立マクセル株式会社
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中川 茂樹
東京工業大学大学院
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太田 憲雄
日立マクセル(株)情報メディア開発研究所
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島崎 勝輔
日立マクセル
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渡辺 利幸
日立マクセルアドバンストメディア事業部
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西田 靖孝
(株)日立製作所
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水谷 一貴
早稲田大学
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田中 睦美
早稲田大学理工学部
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田中 睦美
早大理工
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水谷 一貴
早稲田大学大学院理工学研究科
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島崎 勝輔
日立マクセル株式会社 開発本部
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藤裏 弘樹
東京工業大学大学院理工学研究科電子情報物理専攻
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田中 睦美
早稲田大学
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田川 育也
(株)日立製作所 研究開発本部 ストレージテクノロジー研究センタ
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西田 靖孝
(株)日立製作所 研究開発本部 ストレージテクノロジー研究センタ
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藤裏 弘樹
東京工業大学大学院 理工学研究科 電子情報物理専攻
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本間 敬之
早稲田大学先進理工学部
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法橋 滋郎
早稲田大学-理工総研
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木村 公治
早稲田大学
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山下 勇気
早稲田大学
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橋本 英樹
早稲田大学
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Gyorgy Safran
ハンガリー科学アカデミー
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本間 敬之
早稲田大学
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本間 敬之
早稲田大学ナノテクノロジー研究所
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平山 貴邦
早大理工
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高山 孝信
日立マクセル
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若林 康一郎
日立マクセル
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Safran G
Hungarian Acad. Sci.
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法橋 滋郎
早大理工学術院
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高山 孝信
(株)日立製作所中央研究所
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法橋 滋郎
早稲田大学
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平田 健一郎
東京工業大学大学院理工学研究科電子物理工学専攻
著作論文
- 結晶性Si/NiFe/FeCoB裏打ち軟磁性層を用いた垂直磁気記録媒体
- 対向ターゲット式スパッタ法によるグラニュラテープメディアの搬送成膜(媒体および一般)
- 対向ターゲット式スパッタ法によるグラニュラテープメディアの搬送成膜(媒体及び一般)
- 結晶性FeCoB裏打ち軟磁性層によるグラニュラー垂直磁気記録媒体の特性改善(ヘッド・媒体および一般)
- 結晶性FeCoB裏打ち軟磁性層によるグラニュラー垂直磁気記録媒体の特性改善(ヘッド・媒体及び一般)
- 高異方性磁界を有する結晶質FeCoB裏打ち軟磁性層上の垂直グラニュラー膜の配向制御(ハードディスクドライブおよび一般)
- SmCo_5垂直磁化膜の磁気特性に及ぼすCu添加の効果
- C-7-2 SmCo_5垂直磁化膜の磁気特性に及ぼすCu下地層の影響(C-7.磁気記録)
- C-7-1 CoB/Pd 多層膜の磁気特性に及ぼすスパッタリング条件の影響
- C-7-3 湿式法により形成したPdシードを有するCo/Pd多層膜媒体の作製(C-7.磁気記録)
- C-7-2 Pd/Si シード層による [Co/Pd]_n-CoZrNb 垂直二層膜媒体の微細構造制御とノイズ低減
- 高記録密度対応磁気記録媒体
- CoPtCr-SiO_2スパッタテープ媒体の作製
- FePt規則合金薄膜のc軸配向に及ぼすFe-O下地層の効果
- 新しい構造の中間層を含むCoPtCr合金酸化物垂直磁気記録媒体
- 新しい構造の中間層を含むCoPtCr合金酸化物垂直磁気記録媒体(垂直記録及び一般)
- SC-7-5 傾斜機能型ボロン添加Co/Pd多層膜媒体(SC-7.垂直磁気記録HDDのための要素技術と最近の動向)
- 実験計画法を用いた垂直磁気記録媒体の磁気特性の解析
- 実験計画法を用いた垂直磁気記録媒体の磁気特性の解析(画像記録装置及び一般)
- 膜面鉛直方向に濃度勾配を持つボロン添加Co/Pd多層膜垂直磁気記録媒体
- Co/Pd 多層膜垂直磁気記録媒体の微細構造と偏析効果
- Co/Pd多層膜垂直磁気記録媒体の微細構造と偏析効果(垂直記録,一般)
- Co/Pd積層膜型垂直磁気記録媒体の作製と特性
- 高異方性磁界を有する結晶質FeCoB裏打ち軟磁性層上の垂直グラニュラー膜の配向制御(ハードディスクドライブ及び一般)