軟磁性裏打ち層への無電解めっきCoNiFeBの適用 : デュアル膜による低ノイズ化(磁気記録に関わる材料及びシステムの開発と評価)
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概要
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垂直二層磁気記録媒体の記録層の下層に位置する軟磁性裏打ち層の作製に無電解めっき法の適用を図った.無電解めっき法により作製したCoNiFe膜の保磁力は膜厚およびめっき時の基板の自回転速度に大きく依存する.40rpmまでの低自回転速度のときには0.7μm以上の膜厚で縞状磁区形成が見られ10Oe以上の保磁力を示すのに対して,45rpmから120rpmまでの高自回転速度のときは,0.3μm以下の膜厚で2Oe程度の低い保磁力を示す.縞状磁区の形成はスパイクノイズを抑制する一方,縞状磁区の漏洩磁界に起因するDCノイズの増大が問題となる.そこで,DCノイズの低減を図るため,デュアルSUL膜の提案を行った.即ち,下層に低自回転速度で作製した縞状磁区層,上層に高自回転速度で作製した低保磁力層の2層型のSULを作製し縞状磁区由来の漏洩磁界を上方膜で環流させることによりDCノイズ低減を達成した.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2006-06-29
著者
-
逢坂 哲彌
早稲田大学理工学部
-
逢坂 哲彌
早稲田大学先進理工学部応用化学科
-
逢坂 哲彌
早稲田大学
-
朝日 透
早稲田大学 科健機構
-
朝日 透
早大理工学術院:早大科健機構
-
杉山 敦史
早稲田大学
-
吉野 正洋
早稲田大学 理工学部
-
安達 健
早稲田大学理工学術院
-
逢坂 哲彌
早稲田大学 理工学術院
-
吉野 正洋
Advanced Research Institute For Science & Engineering
-
菊池 雄太
早稲田大学理工学術院
-
杉山 敦史
早稲田大学 理工学術院
-
菊池 雄太
早稲田大学大学院文学研究科博士課程
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