ゾル-ゲル法とスチーム処理を併用したSrBi_2Ta_2O_9薄膜の検討
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概要
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近年、SrBi_2Ta_2O_9(SBT)薄膜が膜疲労の起こらない強誘電体薄膜材料として注目を浴び活発に研究されている。我々は、加水分解を行い分子構造の組成制御性を高めた加水分解型ゾル-ゲル塗布液を独自に開発してきた。今回、この塗布液とスチーム処理を併用するSBT薄膜の成膜プロセスを検討した。その結果、ゾル-ゲル法の改良による低温結晶化およびスチーム処理により配向性が改善することを見出したので報告する。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1999-02-15
著者
-
逢坂 哲彌
早稲田大学理工学部
-
逢坂 哲彌
早稲田大学
-
橋本 晃
関東学院大学工学総合研究所
-
小岩 一郎
関東学院大学 大学院工学研究科
-
小岩 一郎
沖電気工業株式会社基盤技術研究所
-
澤田 佳宏
東京応化工業株式会社
-
橋本 晃
東京応化工業株式会社
-
加藤 博代
沖電気工業株式会社研究開発本部半導体技術研究所
-
澤田 佳宏
東京応化工業株式会社 開発本部 特定研究一部
-
小岩 一郎
沖電気工業
-
佐藤 善美
東京応化工業株式会社開発本部
-
小針 英也
東京応化工業株式会社 開発本部 特定研究一部
-
加藤 博代
沖電気工業株式会社 研究開発本部 半導体技術研究所
-
小針 英也
東京応化工業(株)
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