小岩 一郎 | 沖電気工業
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概要
関連著者
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小岩 一郎
沖電気工業
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小岩 一郎
沖電気工業株式会社基盤技術研究所
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小岩 一郎
関東学院大学 大学院工学研究科
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金原 隆雄
沖電気工業株式会社研究開発本部半導体技術研究所
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逢坂 哲彌
早稲田大学理工学部
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逢坂 哲彌
早稲田大学
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見田 充郎
沖電気工業
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見田 充郎
沖電気工業(株)マイクロシステム技術研究所
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澤井 秀夫
沖電気工業
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澤井 秀夫
沖電気工業株式会社デバイス技術研究所
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橋本 晃
関東学院大学工学総合研究所
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橋本 晃
東京応化工業株式会社
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寺尾 芳孝
沖電気工業株式会社 研究開発本部
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澤井 秀夫
沖電気工業株式会社基盤技術研究所
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寺尾 芳孝
沖電気工業 (株) 基盤技術研究所
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澤田 佳宏
東京応化工業株式会社
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澤田 佳宏
東京応化工業株式会社 開発本部 特定研究一部
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加藤 博代
沖電気工業株式会社研究開発本部半導体技術研究所
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髭本 信雅
沖電気工業株式会社電子部品事業部
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寺尾 芳孝
沖電気工業株式会社基盤技術研究所
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髭本 信雅
沖電気工業
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加藤 博代
沖電気工業株式会社 研究開発本部 半導体技術研究所
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小野 幸子
早稲田大学理工学総合研究センター
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小野 幸子
工学院大学工学部
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佐々木 健介
沖電気工業株式会社
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武田 太一
沖電気
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佐々木 健介
沖電気
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武田 太一
沖電気工業株式会社電子部品事業部
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佐藤 善美
東京応化工業株式会社開発本部
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小林 広美
沖電気工業株式会社基盤技術研究所
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小林 広美
沖電気工業 (株) 基盤技術研究所
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一ノ瀬 昇
早稲田大学 理工学術院
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小岩 一郎
沖電気工業株式会社半導体技術研究所
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前田 将克
早稲田大学理工学部応用化学科
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前田 将克
早稲田大学理工学部
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小針 英也
東京応化工業株式会社 開発本部 特定研究一部
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一ノ瀬 昇
早稲田大学 理工学総合研究センター
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一ノ瀬 昇
早稲田大学理工学部物質開発工学科
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小林 広美
沖電気
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小針 英也
東京応化工業(株)
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岡野 光夫
東京女子医科大学先端生命医科学研究所
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湯浅 真
東京理科大学理工学部工業化学科
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藤井 浩三
沖電気工業株式会社 ISCネットワークインキュベーション本部
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小岩 一郎
関東学院大学
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佐藤 豊作
沖電気工業(株)マイクロシステム技術研究所
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縄舟 秀美
甲南大学 理学部
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増田 良一
沖電気工業株式会社 電子デバイス事業本部
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岡野 光夫
東京女子医科大学医用工学研究施設 施設長 教授/米国ユタ大学教授
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小原 勝彦
上村工業 中研
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足利 欣哉
沖電気工業株式会社シリコンソリューションカンパニー研究本部
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照井 誠
沖電気工業株式会社シリコンマニュファクチャリングカンパニーATPビジネス本部
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白石 靖
沖電気工業株式会社シリコンマニュファクチャリングカンパニーATPビジネス本部
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安在 憲隆
沖電気工業株式会社シリコンマニュファクチャリングカンパニーATPビジネス本部
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大角 卓史
沖電気工業株式会社シリコンマニュファクチャリングカンパニーATPビジネス本部
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熊谷 智弥
東京応化工業株式会社開発本部
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足利 欣哉
沖電気工業 半導体事業グループ 研究本部
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金森 孝史
沖電気工業
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川上 浩良
東京都立大学
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湯浅 真
東京理科大学
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藤井 浩三
沖電気工業
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中井 健二郎
沖電気工業株式会社電子部品事業部
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池端 昌夫
沖電気工業株式会社
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佐藤 豊作
沖電気工業
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川上 浩良
首都大学東京
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光田 好孝
東京大学 生産技術研究所
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岡野 光夫
東京女子医大
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小岩 一郎
関東学院大 大学院工学研究科
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大角 卓史
沖電気工業
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上谷 正明
荏原ユージライト(株) 中央研究所
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君塚 亮一
荏原ユージライト 総合研
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松岡 政夫
大阪府立大学工学部
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佐藤 登
(株) 本田技術研究所和光研究センター
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上野 和良
日本電気 (株)
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中島 弘
イデヤ (株)
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播 直規
日本ノベラスシステムズ (株)
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兼松 秀行
名古屋大学工学部
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佐倉 康男
ヤマハ (株) 基礎研究所
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金森 孝史
沖電気工業株式会社デバイス技術研究所
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縄舟 秀美
甲南大学 フロンティアサイエンス学部
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上谷 正明
荏原ユージライト(株)
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藤井 浩三
沖電気工業 (株) 基盤技術研究所
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小岩 一郎
沖電気工業 (株)
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池端 昌夫
沖電気工業 (株) 基盤技術研究所
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佐倉 康男
ヤマハ (株)
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上谷 正明
荏原ユージライト (株)
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松岡 政夫
大阪府立大学 工学部
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澤井 秀夫
沖電気工業 (株) 基盤技術研究所
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佐藤 登
(株) 本田技術研究所
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縄舟 秀美
甲南大学
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小原 勝彦
上村工業 (株)
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君塚 亮一
荏原ユージライト (株)
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光田 好孝
東京大学
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岡野 光夫
東京女子医・先端生命
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増田 良一
沖電気工業 (株)
著作論文
- Sr_2Bi_2TaO_9薄膜の成膜におけるゾルーゲル法の利点
- 白金電極の配向性がゾル・ゲル法により作製したSrBi_2Ta_2O_9薄膜特性に与える影響
- ゾルゲル法によるPZT薄膜の構造および強誘電体特性に及ぼす仮焼成温度の効果
- 湿式法による導電性酸化物電極が強誘電体薄膜の特性に与える影響
- 希土類元素酸化物粉末のAC-PDP印刷保護膜への適用
- アルカリ土類金属-希土類元素複合酸化物粉末のAC-PDP印刷保護膜への適用
- AC-PDP印刷保護膜に用いるMgO粉末の検討
- AC-PDP用MgO印刷保護層の膜質に対するMgOバインダ添加効果
- アルカリ土類金属-希土類元素複合酸化物形成液のAC-PDP保護膜への適用
- MgO粉末の製造方法がAC型PDP印刷保護膜の活性化に及ぼす影響
- AC型PDP用のスクリーン印刷保護膜におけるMgO液体バインダの検討
- AC-PDP用印刷MgO保護膜の均一性向上の検討
- AC-PDPのMgOスクリーン印刷保護膜におけるバインダーの添加効果
- 半導体技術を用いた薄膜キャパシタ受動部品の作製
- Sr_2Bi_2TaO_9薄膜の成膜におけるゾルーゲル法の利点
- 白金電極の配向性がゾル・ゲル法により作製したSrBi_2Ta_2O_9薄膜特性に与える影響
- ゾル-ゲル法とスチーム処理を併用したSrBi_2Ta_2O_9薄膜の検討
- ゾル-ゲル法とスチーム処理を併用したSrBi_2Ta_2O_9薄膜の検討
- DC型プラズマディスプレイパネル(PDP)のハイコントラスト化の研究 : 高輝度化と低反射率化の研究
- 9インチマルチカラーPDPのフィルターとZnO陰極の効果 : ハイコントラストとパネル内からの水銀の除去
- カルシウムランタンクロマイト陰極のDC型モノカラープラズマディスプレイパネル(PDP)への適用(ディスプレイJapan Display'92を中心として)
- サンドブラスト法によるカラープラズマディスプレイパネルの高精細隔壁の形成 : 情報ディスプレイ
- 透過型マルチカラープラズマディスプレイパネルの研究
- 4-4 透過型マルチカラープラズマディスプレイパネルの研究
- 不揮発性メモリ用強誘電体薄膜-特にビスマス層状化合物について-
- Section 3 : Application of Displays/related posters (Repot on EURODISPLAY '90)
- DC型プラズマディスプレイパネルの封入ガスの経時変化に対する陰極材料の影響
- DC型プラズマディスプレイパネルの陰極厚膜用バインダの研究
- サイボーグ材料への表面技術に思うこと : 今, アクティブアドヒージョンへの理解を!
- DC型カラープラズマディスプレイパネル厚膜陰極へのめっき効果
- 無電解Ni-W-Pめっき皮膜の透明電極上における異常析出の研究
- LSI微細銅配線技術の将来
- 表面技術協会へ期待する