Sr_2Bi_2TaO_9薄膜の成膜におけるゾルーゲル法の利点
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
近年、SrBi_2Ta_2O_9(SBT)薄膜が膜疲労の起こらない強誘電体薄膜材料として注目を浴び活発に研究され始めた。この薄膜の成膜方法は有機金属分解(MOD)法が主流になっている。本報告では、我々が独自に開発した加水分解型ゾル-ゲル塗布液と、この塗布液から成膜したSBT薄膜のプロセス上の利点について紹介する。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1998-07-24
著者
-
逢坂 哲彌
早稲田大学理工学部
-
逢坂 哲彌
早稲田大学
-
橋本 晃
関東学院大学工学総合研究所
-
小岩 一郎
関東学院大学 大学院工学研究科
-
小岩 一郎
沖電気工業株式会社基盤技術研究所
-
金原 隆雄
沖電気工業株式会社研究開発本部半導体技術研究所
-
澤田 佳宏
東京応化工業株式会社
-
橋本 晃
東京応化工業株式会社
-
加藤 博代
沖電気工業株式会社研究開発本部半導体技術研究所
-
澤田 佳宏
東京応化工業株式会社 開発本部 特定研究一部
-
小岩 一郎
沖電気工業
-
加藤 博代
沖電気工業株式会社 研究開発本部 半導体技術研究所
関連論文
- めっき法により作製したカスプコイル励磁型単磁極ヘッド
- C-7-1 湿式法によるカスプ型垂直磁気記録ヘッドコアの磁区構造(C-7. 磁気記録, エレクトロニクス2)
- TbFeCo垂直磁化膜の磁気異方性エネルギーと軌道角運動量の相関
- CS-7-6 X線磁気円二色性吸収分光によるDy_xCo_垂直磁化膜の研究(CS-7.高密度垂直磁気記録方式に資する先端磁性薄膜材料開発,シンポジウム)
- Co-L_吸収端磁気円二色性測定を用いた[Co/Pd]_n多層垂直磁化膜の研究
- 高B_S-CoNiFe電析膜の軟磁気特性に及ぼす成膜条件の影響
- 垂直記録2層媒体系におけるヘッド磁界, 媒体反磁界, 再生応答に 対する解析解法(積分方程式/Fourier解析法)
- 電析法によるCoNiFe薄膜の作製とその磁気特性
- 電析法による軟磁性FeP/M (M=Ni, CoP)/FeP積層膜の磁歪制御
- ウェットプロセスによる磁性ナノドットパターン膜形成の試み(高密度記録媒体の開発とその関連技術の進展)
- 電解酸化重合法および電解還元重合法によるポリパラフェニレン薄膜の作製
- 電気自動車用パワーキャパシタ特性シミュレーション
- Sr_2Bi_2TaO_9薄膜の成膜におけるゾルーゲル法の利点
- 白金電極の配向性がゾル・ゲル法により作製したSrBi_2Ta_2O_9薄膜特性に与える影響
- ゾルゲル法によるPZT薄膜の構造および強誘電体特性に及ぼす仮焼成温度の効果
- 湿式法による導電性酸化物電極が強誘電体薄膜の特性に与える影響
- AC-PDP印刷保護膜に用いるMgO粉末の検討
- AC-PDP用MgO印刷保護層の膜質に対するMgOバインダ添加効果
- MgO粉末の製造方法がAC型PDP印刷保護膜の活性化に及ぼす影響
- CS-7-4 無電解Pd/CoNiFeB下地層を用いたCo/Pd多層膜媒体の作製(CS-7.高密度垂直磁気記録方式に資する先端磁性薄膜材料開発,シンポジウム)
- 高耐蝕性高BsめっきCoNiFe膜の作製
- 29aSL-11 超伝導遷移端(TES 型) X 線マイクロカロリメータの熱的・電気的応答とノイズ原因
- SmCo_5垂直磁気ストレージ媒体の磁気的性質
- 電気化学ナノテクノロジーの新展開
- エレクトロニクス分野における高機能性薄膜の形成技術
- SmCo_5垂直磁化膜の磁気特性に及ぼすCu添加の効果
- Cu/Ti下地層の適用によるSmCo_5垂直磁化膜の高磁気異方性化
- Cu下地層を有するSmCo_5垂直磁化膜の磁気特性
- Cu下地層を有するSmCo_5垂直磁化膜の磁気特性(垂直記録及び一般)
- SC-7-7 垂直磁気異方性を有するSmCo_5薄膜の作製(SC-7.垂直磁気記録HDDのための要素技術と最近の動向)
- C-7-2 SmCo_5垂直磁化膜の磁気特性に及ぼすCu下地層の影響(C-7.磁気記録)
- C-7-1 CoB/Pd 多層膜の磁気特性に及ぼすスパッタリング条件の影響
- 記録層への非磁性層導入による[Co/Pd]_n垂直磁気記録媒体の低ノイズ化(垂直記録および一般)
- 記録層への非磁性層導入による[Co/Pd]_n垂直磁気記録媒体の低ノイズ化
- SC-6-6 非磁性中間層付与によるCo/Pd多層垂直磁気記録媒体の低ノイズ化
- 高密度めっき垂直記録媒体 : 画像情報記録
- 無電解めっき法を用いた垂直2層膜媒体軟磁性裏打ち層の開発
- 無電解めっき法を用いた垂直2層膜媒体軟磁性裏打ち層の開発(画像記録装置及び一般)
- C-7-3 湿式法により形成したPdシードを有するCo/Pd多層膜媒体の作製(C-7.磁気記録)
- 電気化学的手法を用いた垂直二層膜媒体用下地層の作製(磁性薄膜,磁気記録一般)
- 電気化学的手法を用いた垂直二層膜媒体用下地層の作製
- [Co/Pd]_n垂直二層膜媒体用Pd/Siシード層の膜厚低減
- ウェットプロセスによる垂直二層膜媒体用シード層の作製
- 無電解めっき法による磁性ナノドットアレイの作製(垂直記録,一般)
- C-7-2 Pd/Si シード層による [Co/Pd]_n-CoZrNb 垂直二層膜媒体の微細構造制御とノイズ低減
- Si圧痕のラマン分光解析(トライボロジー/一般)
- 微小流路を用いた無電解析出プロセスによる複合金属ナノ粒子の作製
- アモルファスSi中間層を用いた垂直面内複合型媒体の作製
- Ge 下地層を有する垂直単層磁気記録媒体の作製
- 半導体技術を用いて作製した薄膜キャパシタの実装方法の検討
- 半導体技術を用いた薄膜キャパシタ受動部品の作製
- Sr_2Bi_2TaO_9薄膜の成膜におけるゾルーゲル法の利点
- 白金電極の配向性がゾル・ゲル法により作製したSrBi_2Ta_2O_9薄膜特性に与える影響
- 高密度用超小型磁気ヘッドの開発研究と実用化
- SC-6-2 垂直二層膜媒体への応用を目的としたCo/Pd多層垂直媒体用Pdシード層の開発
- カーボン下地層を有するCo/Pd多層膜垂直磁気記録媒体の作製
- Mo共析による高B_s高ρ CoNiFe系電析薄膜の作製
- 電気めっき法による高飽和磁束密度ソフト材料の開発とMRヘッドコアへの応用
- ヘッド用新高B_S めっき材料
- ポリイオンコンプレックス複合電解重合絶縁性ポリ-1-アミノピロールを用いたポテンショメトリックアセチルコリンセンサの作製
- ゾル-ゲル法とスチーム処理を併用したSrBi_2Ta_2O_9薄膜の検討
- ゾル-ゲル法とスチーム処理を併用したSrBi_2Ta_2O_9薄膜の検討
- 無電解NiReBC合金皮膜の結晶構造に及ぼす共析元素の影響
- 走査トンネル顕微鏡による銀電析過程の観察
- Pd/Sn混合触媒を用いた銅ダイレクトプレーティングにおける導体化過程の解析
- 無電解析出法による高比抵抗NiP皮膜の作製とその特性
- 化学的手法によるFePtナノ粒子の均一配列と結晶構造の単一配向化(ハードディスクドライブ+一般)
- 粒径を制御したマグネタイトナノ粒子の合成とそのバイオ・医療応用に向けた検討(ハードディスクドライブ+一般)
- 有機分子修飾を用いた平滑ポリイミド樹脂上への高密着性Cuめっき膜の作製
- 軟磁性裏打ち層への無電解めっきCoNiFeBの適用 : デュアル膜による低ノイズ化
- 軟磁性裏打ち層への無電解めっきCoNiFeBの適用 : デュアル膜による低ノイズ化(磁気記録に関わる材料及びシステムの開発と評価)
- ポリイミド樹脂上への直接銅成膜の検討
- 高飽和磁束密度軟磁性薄膜の開発とその波及的応用(ハードディスクドライブおよび一般)
- 高飽和磁束密度軟磁性薄膜の開発とその波及的応用(ハードディスクドライブ及び一般)
- 高機能デバイスのための電気化学的薄膜形成プロセス
- キャパシタ技術委員会設立にあたって
- '97電気化学秋季大会を早稲田大学理工学部で迎えるにあたって
- 木の葉と葉脈の化学めつき(やってみよう界面の実験)(界面のはたらき)
- C-7-3 無電解めっき法による軟磁性裏打ち層を用いた垂直二層膜媒体の開発
- パッシブ型DMFCの発電性能における電解質膜厚の影響
- ニッケル電析抑制機能に及ぼすプロパギルアルコールの拡散速度, 被覆率および還元速度の影響
- μ-DMFC用マイクロチャネル電極作製条件の考察
- 電析ニッケルマイクロプローブの形状制御に及ぼす添加剤構造の影響
- 高アスペクト比を有する電析Niマイクロプローブの試作
- CoCrPtTaおよび[Co/Pd]_n単層垂直媒体の電磁変換特性
- CoCrPtTaおよび[Co/Pd]_n単層垂直媒体の電磁変換特性
- CoCrPtTa/NiCr媒体における膜厚方向の微細構造変化
- MFMによる垂直磁気記録媒体の磁化状態の解析手法の検討
- アモルファス下地層Co/Pd多層膜垂直磁気記録媒体の磁気特性と微細構造
- 電気化学的手法による高機能材料の創製
- 新しい時代の変革期に
- 電析法による NiFeP 軟磁性薄膜の高比抵抗化
- 電析法による高比抵抗Ni-Fe系軟磁性薄膜の作製
- 高比抵抗無電解NiP薄膜の熱安定性
- 無電解NiBめっきによるマイクロパターニング
- 無電解CoFCBめっきを用いた磁気ヘッドコア作製プロセスの基礎的検討
- Pd/Sn混合触媒を利用した銅のダイレクトプレーティング導体化過程の解析
- 高飽和磁束密度を有する軟磁性めっき膜
- 磁性めっき膜の動向
- 無電解NiB皮膜の結晶構造に及ぼす共析元素の影響