澤田 佳宏 | 東京応化工業株式会社

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概要

• 同名の論文著者
• 東京応化工業株式会社の論文著者

関連著者

• 逢坂 哲彌

  早稲田大学理工学部

• 逢坂 哲彌

  早稲田大学

• 橋本 晃

  関東学院大学工学総合研究所

• 小岩 一郎

  関東学院大学 大学院工学研究科

• 小岩 一郎

  沖電気工業株式会社基盤技術研究所

• 澤田 佳宏

  東京応化工業株式会社

• 橋本 晃

  東京応化工業株式会社

• 澤田 佳宏

  東京応化工業株式会社 開発本部 特定研究一部

• 小岩 一郎

  沖電気工業

• 加藤 博代

  沖電気工業株式会社研究開発本部半導体技術研究所

• 加藤 博代

  沖電気工業株式会社 研究開発本部 半導体技術研究所

• 金原 隆雄

  沖電気工業株式会社研究開発本部半導体技術研究所

• 一ノ瀬 昇

  早稲田大学 理工学術院

• 佐藤 善美

  東京応化工業株式会社開発本部

• 小針 英也

  東京応化工業株式会社 開発本部 特定研究一部

• 一ノ瀬 昇

  早稲田大学 理工学総合研究センター

• 一ノ瀬 昇

  早稲田大学理工学部物質開発工学科

• 小針 英也

  東京応化工業(株)

• 見田 充郎

  沖電気工業

• 見田 充郎

  沖電気工業(株)マイクロシステム技術研究所

• 小野 幸子

  早稲田大学理工学総合研究センター

• 前田 将克

  早稲田大学理工学部応用化学科

• 前田 将克

  早稲田大学理工学部

• 小野 幸子

  工学院大学工学部

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著作論文

• Sr_2Bi_2TaO_9薄膜の成膜におけるゾルーゲル法の利点
• 白金電極の配向性がゾル・ゲル法により作製したSrBi_2Ta_2O_9薄膜特性に与える影響
• ゾルゲル法によるPZT薄膜の構造および強誘電体特性に及ぼす仮焼成温度の効果
• Sr_2Bi_2TaO_9薄膜の成膜におけるゾルーゲル法の利点
• 白金電極の配向性がゾル・ゲル法により作製したSrBi_2Ta_2O_9薄膜特性に与える影響
• ゾル-ゲル法とスチーム処理を併用したSrBi_2Ta_2O_9薄膜の検討
• ゾル-ゲル法とスチーム処理を併用したSrBi_2Ta_2O_9薄膜の検討

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