小岩 一郎 | 関東学院大学 大学院工学研究科
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概要
関連著者
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小岩 一郎
関東学院大学 大学院工学研究科
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小岩 一郎
関東学院大 大学院工学研究科
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小岩 一郎
沖電気工業株式会社基盤技術研究所
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小岩 一郎
沖電気工業
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本間 英夫
株式会社関東学院大学表面工学研究所
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本間 英夫
関東学院大学工学部物質生命科学科
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小岩 一郎
関東学院大学工学部物質生命科学科
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金原 隆雄
沖電気工業株式会社研究開発本部半導体技術研究所
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逢坂 哲彌
早稲田大学理工学部
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逢坂 哲彌
早稲田大学
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見田 充郎
沖電気工業(株)マイクロシステム技術研究所
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見田 充郎
沖電気工業
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本間 英夫
関東学院大学 工学部
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本間 英夫
関東学院大 工
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橋本 晃
関東学院大学工学総合研究所
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橋本 晃
東京応化工業株式会社
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澤田 佳宏
東京応化工業株式会社
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澤田 佳宏
東京応化工業株式会社 開発本部 特定研究一部
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加藤 博代
沖電気工業株式会社研究開発本部半導体技術研究所
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加藤 博代
沖電気工業株式会社 研究開発本部 半導体技術研究所
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小野 幸子
工学院大学工学部
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小野 幸子
早稲田大学理工学総合研究センター
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渡辺 充広
株式会社関東学院大学表面工学研究所
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佐藤 善美
東京応化工業株式会社開発本部
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杉山 武晴
関東学院大学 ハイテクリサーチセンター
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配島 雄樹
関東学院大学 大学院工学研究科
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別所 毅
トヨタ自動車(株)
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田代 雄彦
株式会社関東学院大学表面工学研究所
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小岩 ー郎
関東学院大学工学部
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角田 貴徳
関東学院大学 大学院工学研究科
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井上 浩徳
関東学院大学大学院工学研究科
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角田 貴徳
関東学院大学大学院 工学研究科
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一ノ瀬 昇
早稲田大学 理工学術院
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土橋 誠
三井金属鉱業(株)
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石田 卓也
株式会社関東学院大学表面工学研究所
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松村 綾香
関東学院大学 大学院工学研究科
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井上 浩徳
関東学院大学 大学院工学研究科
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杉本 将治
株式会社関東学院大学表面工学研究所
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小岩 一郎
株式会社関東学院大学表面工学研究所
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小岩 一郎
関東学院大学
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本間 英夫
(株)関東学院大学表面工学研究所
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前田 将克
早稲田大学理工学部応用化学科
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前田 将克
早稲田大学理工学部
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土橋 誠
三井金属鉱業(株)総合研究所
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足利 欣哉
沖電気工業株式会社シリコンソリューションカンパニー研究本部
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照井 誠
沖電気工業株式会社シリコンマニュファクチャリングカンパニーATPビジネス本部
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白石 靖
沖電気工業株式会社シリコンマニュファクチャリングカンパニーATPビジネス本部
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安在 憲隆
沖電気工業株式会社シリコンマニュファクチャリングカンパニーATPビジネス本部
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大角 卓史
沖電気工業株式会社シリコンマニュファクチャリングカンパニーATPビジネス本部
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熊谷 智弥
東京応化工業株式会社開発本部
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田代 雄彦
(株)関東学院大学表面工学研究所
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小山田 仁子
Graduate school, Kanto Gakuin University
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足利 欣哉
沖電気工業 半導体事業グループ 研究本部
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小針 英也
東京応化工業株式会社 開発本部 特定研究一部
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一ノ瀬 昇
早稲田大学 理工学総合研究センター
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一ノ瀬 昇
早稲田大学理工学部物質開発工学科
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小針 英也
東京応化工業(株)
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大角 卓史
沖電気工業
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小岩 一郎
関東学院大学工学部 物質生命科学科 小岩研究室
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小山田 仁子
関東学院大学大学院
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小山田 仁子
Graduate School of Engineering, Kanto Gakuin University
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田代 雄彦
(株)関東学院大学 表面工学研究所
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土橋 誠
三井金属鉱業 (株) 総合研究所
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本間 英夫
(株)関東学院大学 表面工学研究所
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土橋 誠
三井金属鉱業 (株)
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土屋 哲男
産総研
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岡野 光夫
東京女子医科大学先端生命医科学研究所
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山下 嗣人
関東学院大学 工学部
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土屋 哲男
産業技術総合研究所
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湯浅 真
東京理科大学理工学部工業化学科
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逢坂 哲彌
早稲田大学先進理工学部応用化学科
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渡辺 秀人
小島化学薬品(株)ケミカル事業部
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安藤 聡
JFEスチール(株)
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小林 道雄
(株)ヒキフネ
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前川 武之
三菱電機(株)
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矢嶋 龍彦
埼玉工業大学
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朝長 咲子
三井金属鉱業(株)総合研究所
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渡辺 充広
(株)関東学院大学表面工学研究所
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石田 卓也
(株)関東学院大学表面工学研究所
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小岩 一郎
関東学院大学工学部
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杉本 将治
(株)関東学院大学表面工学研究所
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中丸 弥一郎
関東学院大学工学部物質生命科学科
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齋藤 裕一
関東学院大学大学院工学研究科:株式会社関東学院大学表面工学研究所
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金原 隆雄
Micro System Technology Laboratory, OKI Electric Industry, Co., Ltd.
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小岩 一郎
Micro System Technology Laboratory, OKI Electric Industry, Co., Ltd.
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見田 充郎
Micro System Technology Laboratory, OKI Electric Industry, Co., Ltd.
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小野 幸子
Advanced Research Institute for Science and Engineering, Waseda University
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逢坂 哲彌
Faculty of Science and Engineering, Waseda University
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佐藤 豊作
沖電気工業(株)マイクロシステム技術研究所
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山下 嗣人
関東学院大学工学部物質生命科学科
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岡野 光夫
東京女子医科大学医用工学研究施設 施設長 教授/米国ユタ大学教授
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和久田 陽平
関東学院大学 大学院工学研究科
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別所 毅
Toyota Motor Corporation
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井上 浩徳
Graduate School of Engineering, Kanto Gakuin University
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小岩 一郎
Graduate School of Engineering, Kanto Gakuin University
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本間 英夫
Graduate School of Engineering, Kanto Gakuin University
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小岩 一郎
Faculty of Engineering, Kanto Gakuin University
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本間 英夫
Faculty of Engineering, Kanto Gakuin University
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小岩 一郎
(株)関東学院大学表面工学研究所
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石川 久美子
関東学院大学 大学院工学研究科
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本間 英夫
Surface Engineering Research Institute, Kanto Gakuin University
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小岩 一郎
Surface Engineering Research Institute, Kanto Gakuin University
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長島 弘季
関東学院大学 大学院工学研究科
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逢坂 哲彌
早稲田大学 理工学術院
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山下 嗣人
関東学院大 工
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渡辺 秀人
小島化学薬品(株)
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川上 浩良
東京都立大学
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長島 弘季
関東学院大学大学院 工学研究科
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小林 道雄
(株)ヒキフネ技術部
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湯浅 真
東京理科大学
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佐藤 豊作
沖電気工業
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川上 浩良
首都大学東京
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岡野 光夫
東京女子医大
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渡辺 秀人
小島化学薬品
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山下 嗣人
関東学院大学 工学部 物質生命科学科
-
小岩 一郎
早稲田大学理工学部
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川口 純
早稲田大学理工学研究所
-
小岩 一郎
関東学院大学 工学部
-
渡辺 充広
(株)関東学院大学 表面工学研究所
-
岡野 光夫
東京女子医・先端生命
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橋本 晃
関東学院大学 工学総合研究所
著作論文
- 分極曲線・サイクリックボルタンメトリー (13) : 電気化学測定法のめっきへの応用
- MgO粉末の製造方法がAC型PDP印刷保護膜の活性化に与える影響
- 変色した銅箔表面の解析
- 特集「地球環境と表面処理技術」の企画に当たって
- Nbナノ粒子を用いた反応性複合無電解Ni-Pめっき膜の合金化
- ニオブナノ粒子を用いたニッケル無電解分散めっきのNi-Nb合金化過程
- 絶縁樹脂との接着性向上のためのアルミニウム表面粗化方法
- 樹脂との接着性向上の為のアルミニウム表面粗化方法
- Sr_2Bi_2TaO_9薄膜の成膜におけるゾルーゲル法の利点
- 白金電極の配向性がゾル・ゲル法により作製したSrBi_2Ta_2O_9薄膜特性に与える影響
- ゾルゲル法によるPZT薄膜の構造および強誘電体特性に及ぼす仮焼成温度の効果
- 湿式法による導電性酸化物電極が強誘電体薄膜の特性に与える影響
- 希土類元素酸化物粉末のAC-PDP印刷保護膜への適用
- アルカリ土類金属-希土類元素複合酸化物粉末のAC-PDP印刷保護膜への適用
- AC-PDP印刷保護膜に用いるMgO粉末の検討
- AC-PDP用MgO印刷保護層の膜質に対するMgOバインダ添加効果
- アルカリ土類金属-希土類元素複合酸化物形成液のAC-PDP保護膜への適用
- MgO粉末の製造方法がAC型PDP印刷保護膜の活性化に及ぼす影響
- AC型PDP用のスクリーン印刷保護膜におけるMgO液体バインダの検討
- AC-PDP用印刷MgO保護膜の均一性向上の検討
- AC-PDPのMgOスクリーン印刷保護膜におけるバインダーの添加効果
- ヒドラジンと次亜リン酸の混合めっき浴による微細配線上の無電解ニッケルめっき
- 無電解めっきを用いたFPCとITOの新しい接続方法
- IT化社会とめっき技術
- 半導体技術を用いて作製した薄膜キャパシタの実装方法の検討
- 光触媒を用いた低環境負荷めっき技術
- めっき法と光触媒を用いた低環境負荷接着技術
- めっき技術の新しい展開
- TiO_2を光触媒として用いたビルドアップ用絶縁樹脂の表面修飾とメタライゼーション
- 電気銅めっきによる電流波形制御を用いたビアフィリング
- UVおよびTiO_2を用いたABS樹脂の改質効果
- 光触媒としてTiO_2を用いたビルドアップ法による絶縁材料への無電解銅めっき
- 電子デバイス用先端めっき技術
- 電気銅めっきによる電流波形制御を用いたビアフィリング
- 電子デバイス用先端めっき技術
- 厚付けノーシアン型無電解金めっきプロセス
- ニッケルマイクロバンプの形状に及ぼすピリジニウムプロピルスルホネイト添加の影響
- 半導体技術を用いた薄膜キャパシタ受動部品の作製
- Sr_2Bi_2TaO_9薄膜の成膜におけるゾルーゲル法の利点
- 白金電極の配向性がゾル・ゲル法により作製したSrBi_2Ta_2O_9薄膜特性に与える影響
- ゾル-ゲル法とスチーム処理を併用したSrBi_2Ta_2O_9薄膜の検討
- ゾル-ゲル法とスチーム処理を併用したSrBi_2Ta_2O_9薄膜の検討
- 高アスペクト比トレンチ内における無電解めっき反応の解析
- サイボーグ材料への表面技術に思うこと : 今, アクティブアドヒージョンへの理解を!
- 垂直磁気異方性コバルト合金薄膜作製のための無電解めっき浴における錯化剤の役割
- 無電解めっき法による垂直磁気記録媒体の作製と評価--磁気特性の膜厚方向依存性を考慮しためっき媒体 (磁気ディスクと光ディスク--素材と膜形成) -- (磁気ディスク)
- 非晶質無電解Ni-W-P皮膜の抵抗値の熱変化特性
- 垂直磁気記録媒体としての無電解Co-Ni-Re-P合金の初期析出膜に関する研究 (磁気ディスクと光ディスク--素材と膜形成)
- 無電解Ni-B皮膜へのクロム粒子の共析
- 無電解Ni-P皮膜の磁器特性に及ぼす熱処理効果 (エレクトロニクスと表面処理技術特集号)
- 関東学院大学工学部物質生命科学科小岩研究室
- 抵抗材料としての無電解Ni系合金薄膜の作製と評価