土屋 哲男 | 産総研

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概要

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関連著者

• 土屋 哲男

  産総研

• 土屋 哲男

  産業技術総合研究所

• 熊谷 俊弥

  産業技術総合研究所先進製造プロセス研究部門

• 熊谷 俊弥

  産業技術総合研

• 中島 智彦

  産総研

• 中島 智彦

  産業技術総合研究所先進製造プロセス研究部門

• 熊谷 俊弥

  産業技術総合研究所

• 中島 智彦

  産業技術総合研究所

• 真部 高明

  産業技術総合研究所 先進製造プロセス研究部門

• 真部 高明

  産総研

• 熊谷 俊弥

  産総研

• 水田 進

  National Institute of Advanced Industrial Science and Technology

• 土屋 哲男

  (独)産業技術総合研究所

• 上田 寛

  東大物性研

• 山口 巌

  産総研

• 相馬 貢

  産総研

• 塚田 謙一

  産総研

• 小柳 邦彦

  日本製鋼所

• 佐藤 亮介

  日本製鋼所

• 海老沢 孝

  日本製鋼所

• 大津 英彦

  日本製鋼所

• 今井 庸二

  物質工学工業技術研究所

• 大津 英彦

  (株)日本製鋼所室蘭製作所

• 今井 庸二

  (独)産業技術総合研究所

• 渡邊 昭雄

  (独)産業技術総合研究所

• 水田 進

  (独)産業技術総合研究所

• 山口 巌

  (独)産業技術総合研究所

• 今井 庸二

  産業技術総合研究所 先進製造プロセス研究部門

• 市原 正樹

  物性研

• 市原 正樹

  東大物性研

• 向田 昌志

  九大工

• 山口 巖

  産総研

• 真部 高明

  産業技術総合研究所

• 中村 進

  産総研

• 水田 進

  産総研

• 水田 進

  物質工学工業技術研究所

• ダウディ カイス

  産業技術総合研究所

• 小岩 一郎

  関東学院大学工学部物質生命科学科

• 土屋 哲男

  National Institute of Advanced Industrial Science and Technology

• 熊谷 俊弥

  National Institute of Advanced Industrial Science and Technology

• Uemura Y.J.

  Columbia大

• 土橋 誠

  三井金属鉱業(株)

• 安藤 聡

  JFEスチール(株)

• 小林 道雄

  (株)ヒキフネ

• 前川 武之

  三菱電機(株)

• 矢嶋 龍彦

  埼玉工業大学

• 土屋 哲男

  物質工学工業技術研究所

• 渡邊 明雄

  物質工学工業技術研究所

• 向田 昌志

  山形大

• 小岩 一郎

  関東学院大学 大学院工学研究科

• 小岩 一郎

  関東学院大学工学部

• 小岩 一郎

  関東学院大学

• 土橋 誠

  三井金属鉱業(株)総合研究所

• 向田 昌志

  山形大学工学部電気電子工学科

• 小岩 ー郎

  関東学院大学工学部

• Mukaida Masashi

  Kyushu Univ. Fukuoka Jpn

• 小林 道雄

  (株)ヒキフネ技術部

• 向田 昌志

  九州大学大学院工学研究院材料工学部門

• Mukaida M

  Department Of Materials Science And Engineering Kyushu University

• MUKAIDA Masashi

  NTT System Electronics Laboratories

• 小岩 一郎

  関東学院大 大学院工学研究科

• 向田 昌志

  九州大学・大学院工学研究院・材料工学部門

• 中島 智彦

  (独)産業技術総合研究所 先進製造プロセス研究部門

• 土橋 誠

  三井金属鉱業 (株) 総合研究所

• 土橋 誠

  三井金属鉱業 (株)

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著作論文

• 26aRK-7 マイクロパターニングしたペロブスカイトMn酸化物薄膜の物性(マンガン酸化物,領域8,強相関系:高温超伝導,強相関f電子系など)
• レーザ照射を併用したMOD法による高J_c-YBCO膜の作製 : 1. 高速成膜法の開発
• 含フッ素中性溶液を用いた塗布熱分解法によるY123膜の作製
• フィルタ・限流器に向けたPLD法,フッ素フリーMOD法によるREBa2Cu3O7-δ超電導薄膜 (特集 超電導材料)
• 特集「地球環境と表面処理技術」の企画に当たって
• 19aWG-12 Aサイト秩序型ペロブスカイトMn酸化物薄膜の製膜手法と結晶構造(19aWG Mn系2,領域8(強相関系:高温超伝導,強相関f電子系など))
• ペロブスカイトマンガン酸化物を用いた非冷却赤外センサの開発 (特集 安全・安心のためのセラミックセンサ(2)物理センサ)
• 20pPSA-13 パルスレーザー照射を用いた化学溶液法による新規製膜プロセス : ペロブスカイトMn酸化物薄膜のエピタキシャル・多結晶成長(20pPSA 領域8ポスターセッション(低温:Mn酸化物,V酸化物,鉄オキシニクタイドなど),領域8(強相関系:高温超伝導,強相関f電子系など))
• 24pTD-2 ELAMOD法におけるペロブスカイト型酸化物薄膜のエピタキシャル成長(結晶成長,領域9,表面・界面,結晶成長)
• レーザ照射を併用したMOD法による高Jc-YBCO膜の作製 : 2. 構造と特性
• エキシマレーザー照射によるセラミックス酸化物膜の低温結晶化とパターニング
• 新技術・新材料 エキシマレーザー照射によるセラミックス酸化物膜の低温結晶化とパターニング
• 温度センサ : 接触式と非接触式
• レーザCVD法と塗布光分解法による成膜プロセス(成膜プロセスの新しい展開)
• レーザー化学プロセシングによる機能膜の作製-レーザーCVD法及び塗布光分解法-
• ペロブスカイトマンガン酸化物を用いた非冷却赤外センサの開発
• レーザーアブレーション
• 塗布光照射法を用いた金属酸化物膜の有機基板上への作製 (特集 グリーンイノベーションを支える産総研の電子セラミックス研究)
• フィルタ・限流器に向けたPLD法, フッ素フリーMOD法によるREBa_2Cu_3O_超電導薄膜

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