渡邊 昭雄 | (独)産業技術総合研究所
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概要
関連著者
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今井 庸二
(独)産業技術総合研究所
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渡邊 昭雄
(独)産業技術総合研究所
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今井 庸二
物質工学工業技術研究所
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今井 庸二
産業技術総合研究所 先進製造プロセス研究部門
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産総研
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(独)産業技術総合研究所
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物質工学工業技術研究所
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角田 達朗
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渡邊 昭雄
物質工学工業技術研究所無機材料部
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向田 雅一
物質工学工業技術研究所無機材料部
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角田 達朗
物質工学工業技術研究所無機材料部
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向田 雅一
化技研
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渡邊 昭雄
化技研
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大里 一夫
化技研
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今井 庸二
化技研
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亀山 哲也
化技研
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福田 健三
化技研
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向田 雅一
物質工学工業技術研究所
著作論文
- レーザCVD法と塗布光分解法による成膜プロセス(成膜プロセスの新しい展開)
- レーザー化学プロセシングによる機能膜の作製-レーザーCVD法及び塗布光分解法-
- モリブデン膜及びタンタル酸化物膜のレ-ザ-CVD法による作製
- 二つの熱電変換相が直列及び並列に配置された場合の電位及び温度分布
- 3E39 Ta(OCH_3)_5 の KrF レーザー光分解によるタンタル酸化物膜の作製 (2)
- レ-ザ-による耐食性膜の作製 (セラミックスへのレ-ザ-利用)