今井 庸二 | 物質工学工業技術研究所
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概要
関連著者
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今井 庸二
物質工学工業技術研究所
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今井 庸二
(独)産業技術総合研究所
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今井 庸二
産業技術総合研究所 先進製造プロセス研究部門
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渡邊 昭雄
(独)産業技術総合研究所
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中内 博二
化技研
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水田 進
(独)産業技術総合研究所
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大里 一夫
化技研
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土屋 哲男
産総研
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土屋 哲男
産業技術総合研究所
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向田 雅一
物質工学工業技術研究所無機材料部
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向田 雅一
物質工学工業技術研究所
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水田 進
物質工学工業技術研究所
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麻生 昇
物質工学工業技術研究所
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植田 稔
物質工学工業技術研究所
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本江 秋弘
物質工学工業技術研究所
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内田 邦夫
物質工学工業技術研究所
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若林 信一
新光電気工業(株)
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土屋 哲男
(独)産業技術総合研究所
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土屋 哲男
物質工学工業技術研究所
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渡邊 明雄
物質工学工業技術研究所
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内田 邦夫
産総研
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角田 達朗
産業技術総合研
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末益 崇
筑波大学大学院数理物質科学研究科電子・物理工学専攻
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末益 崇
筑波大学大学院・数理物質科学研究科
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若林 信一
新光電気工業
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渡邊 昭雄
物質工学工業技術研究所無機材料部
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角田 達朗
物質工学工業技術研究所無機材料部
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内田 邦夫
産技総研 物質プロセス研究部門
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吉谷 昌明
新光電気工業(株)
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吉谷 昌明
新光電気工業
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今井 基晴
(独)物質・材料研究機構 環境・エネルギー材料研究部門
著作論文
- チタン又は酸化チタン(IV)基板にヒドロキシアパタイトを熱プラズマで溶射した層の付着性
- レーザCVD法と塗布光分解法による成膜プロセス(成膜プロセスの新しい展開)
- レーザー化学プロセシングによる機能膜の作製-レーザーCVD法及び塗布光分解法-
- モリブデン膜及びタンタル酸化物膜のレ-ザ-CVD法による作製
- 二つの熱電変換相が直列及び並列に配置された場合の電位及び温度分布
- レ-ザ-による耐食性膜の作製 (セラミックスへのレ-ザ-利用)
- 水からの水素製造技術に関する材料問題--特に熱化学法について
- 多元系シリサイドの新展開 : 半導体BaSi_2を例に
- フルオロトリエトキシシランを用いたCVDによる酸化ケイ素薄膜の合成
- プラズマCVD法によるモリブデン薄膜の生成
- Ti基板のプラズマCVD法によるMo-Siコ-ティングとその高温酸化
- 金属-イオン-水系の電位-pH図の計算機作図アルゴリズムと,ヨウ素-ヨウ化物溶液中での腐食への応用〔英文〕
- 局部腐食モニタリング法の研究-1-直線分極法腐食モニタリングでの分極電流分布とその分極抵抗値への影響〔英文〕
- GP-IB付計測器のシステム化について(資料)
- マグネシウム-ヨウ素系熱化学水素製造法の中間操作段及び輸送過程に対する金属材料の耐食性と耐***-ジョン・コロ-ジョン性
- ヨウ素,酸素,水素,ヨウ化水素及び水蒸気からなるガス雰囲気中での腐食のGurry図による熱力学的考察〔英文〕
- ヨウ素,ヨウ化水素及び水を含む高温ガス(第3,4段反応環境)に対する金属材料の耐食性
- Siクラスレート化合物
- マグネシウム-ヨウ素系熱化学水素製造法の装置材料の耐食性及びプラズマCVD法による耐食性コ-ティング
- 熱化学法水素製造技術と材料問題