多元系シリサイドの新展開 : 半導体BaSi_2を例に

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概要

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• 応用物理学会の論文
• 2007-03-10

著者

• 今井 庸二

  物質工学工業技術研究所

• 今井 庸二

  (独)産業技術総合研究所

• 末益 崇

  筑波大学大学院数理物質科学研究科電子・物理工学専攻

• 末益 崇

  筑波大学大学院・数理物質科学研究科

• 今井 庸二

  産業技術総合研究所 先進製造プロセス研究部門

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