多元系シリサイドの新展開 : 半導体BaSi_2を例に
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概要
著者
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今井 庸二
物質工学工業技術研究所
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今井 庸二
(独)産業技術総合研究所
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末益 崇
筑波大学大学院数理物質科学研究科電子・物理工学専攻
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末益 崇
筑波大学大学院・数理物質科学研究科
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今井 庸二
産業技術総合研究所 先進製造プロセス研究部門
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