分子線エピタキシー法によるβ-FeSi_2球のSi中埋込み構造作製と高温アニールによる赤外フォトルミネッセンスの増大
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概要
著者
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末益 崇
筑波大学大学院数理物質科学研究科電子・物理工学専攻
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末益 崇
筑波大学 物理工学系
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飯倉 祐介
筑波大学 物理工学系
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高倉 健一郎
筑波大学 物理工学系
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長谷川 文夫
筑波大学 物理工学系
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長谷川 文夫
筑波大学
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