熊谷 俊弥 | 産業技術総合研究所先進製造プロセス研究部門

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概要

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• 同名の論文著者
• 産業技術総合研究所先進製造プロセス研究部門の論文著者

関連著者

• 土屋 哲男

  産総研

• 熊谷 俊弥

  産業技術総合研究所先進製造プロセス研究部門

• 中島 智彦

  産総研

• 中島 智彦

  産業技術総合研究所先進製造プロセス研究部門

• 熊谷 俊弥

  産業技術総合研究所

• 土屋 哲男

  産業技術総合研究所

• 中島 智彦

  産業技術総合研究所

• 熊谷 俊弥

  産業技術総合研

• 水田 進

  National Institute of Advanced Industrial Science and Technology

• 上田 寛

  東大物性研

• 市原 正樹

  物性研

• 市原 正樹

  東大物性研

• ダウディ カイス

  産業技術総合研究所

• 土屋 哲男

  National Institute of Advanced Industrial Science and Technology

• 熊谷 俊弥

  National Institute of Advanced Industrial Science and Technology

• 中島 智彦

  (独)産業技術総合研究所 先進製造プロセス研究部門

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著作論文

• 19aWG-12 Aサイト秩序型ペロブスカイトMn酸化物薄膜の製膜手法と結晶構造(19aWG Mn系2,領域8(強相関系:高温超伝導,強相関f電子系など))
• 20pPSA-13 パルスレーザー照射を用いた化学溶液法による新規製膜プロセス : ペロブスカイトMn酸化物薄膜のエピタキシャル・多結晶成長(20pPSA 領域8ポスターセッション(低温:Mn酸化物,V酸化物,鉄オキシニクタイドなど),領域8(強相関系:高温超伝導,強相関f電子系など))
• 24pTD-2 ELAMOD法におけるペロブスカイト型酸化物薄膜のエピタキシャル成長(結晶成長,領域9,表面・界面,結晶成長)
• エキシマレーザー照射によるセラミックス酸化物膜の低温結晶化とパターニング
• 新技術・新材料 エキシマレーザー照射によるセラミックス酸化物膜の低温結晶化とパターニング
• ペロブスカイトマンガン酸化物を用いた非冷却赤外センサの開発
• 塗布光照射法を用いた金属酸化物膜の有機基板上への作製 (特集 グリーンイノベーションを支える産総研の電子セラミックス研究)

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