20pPSA-13 パルスレーザー照射を用いた化学溶液法による新規製膜プロセス : ペロブスカイトMn酸化物薄膜のエピタキシャル・多結晶成長(20pPSA 領域8ポスターセッション(低温:Mn酸化物,V酸化物,鉄オキシニクタイドなど),領域8(強相関系:高温超伝導,強相関f電子系など))
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概要
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- 社団法人日本物理学会の論文
- 2008-08-25
著者
-
中島 智彦
産総研
-
土屋 哲男
産総研
-
熊谷 俊弥
産業技術総合研究所
-
土屋 哲男
産業技術総合研究所
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中島 智彦
産業技術総合研究所
-
熊谷 俊弥
産業技術総合研究所先進製造プロセス研究部門
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中島 智彦
産業技術総合研究所先進製造プロセス研究部門
-
熊谷 俊弥
産業技術総合研
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