電析法による NiFeP 軟磁性薄膜の高比抵抗化
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概要
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NiFeP films were electrodeposited based on the FeP film in order to decrease their saturation magnetostriction (λ_s) and increase their resistivity (ρ). Ni_<11>Fe_<65>P_<24> films with low λ_s(=8.2×10^<-6>) were obtained, because they contained 11 at%Ni. The films have suitable soft magnetic properties and thermal stability after annealing at under 250℃ in vacuum. In order to increase the resistivity of Ni_<11>Fe_<65>P_<24> film, an organic additive such as diethylenetriamine (DET) was added to the plating bath. A new type of soft magnetic NiFeP film with a higher resistivity of 170μΩcm was developed from a bath containing DET, because of the 0.2 at% carbon content of the deposited film.
- 社団法人日本磁気学会の論文
- 1998-04-15
著者
-
逢坂 哲彌
早稲田大学理工学部
-
逢坂 哲彌
早稲田大学
-
高井 まどか
早稲田大学 理工学部 ; 各務記念材料技術研究所
-
高井 まどか
東京大学 大学院工学系研究科
-
高井 まどか
早稲田大学理工学部応用化学科
-
加世田 学
早大理工, 材料技術研究所
-
目羅 史明
早稲田大学理工学部応用化学科
-
加世田 学
早稲田大学理工学部応用化学科
-
加世田 学
早大理工 材料技術研究所
-
目羅 史明
早稲田大学 理工学部
-
高井 まどか
早稲田大学 理工学部
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