高井 まどか | 早稲田大学 理工学部 ; 各務記念材料技術研究所
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概要
関連著者
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高井 まどか
早稲田大学 理工学部 ; 各務記念材料技術研究所
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高井 まどか
東京大学 大学院工学系研究科
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高井 まどか
早稲田大学理工学部応用化学科
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高井 まどか
早稲田大学 理工学部
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逢坂 哲彌
早稲田大学
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逢坂 哲彌
早稲田大学理工学部
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大橋 啓之
日本電気(株)基礎・環境研究所
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大橋 啓之
日本電気株式会社 基礎・環境研究所
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林 勝義
早大理工 材料技術研究所
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中村 明義
早稲田大学 理工学部 ; 各務記念材料技術研究所
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林 勝義
早稲田大学 理工学部 ; 各務記念材料技術研究所
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加世田 学
早大理工, 材料技術研究所
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目羅 史明
早稲田大学理工学部応用化学科
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加世田 学
早稲田大学理工学部応用化学科
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加世田 学
早大理工 材料技術研究所
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目羅 史明
早稲田大学 理工学部
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影山 謙介
早稲田大学理工学部
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影山 謙介
早稲田大学 理工学部
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横島 時彦
早稲田大学
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大橋 啓之
NEC茨城
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浅 富士夫
早稲田大学理工学部応用化学科;各務記念材料技術研究所
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飯塚 淳
早稲田大学 理工学部総合研究センター
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本間 敬之
早稲田大学
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竹房 さなえ
富士通研究所
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横島 時彦
早稲田大学 理工学術院
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大橋 啓之
茨城日本電気(株)
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東川 太一
早稲田大学 理工学部
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近藤 祥
早稲田大学 理工学部
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竹房 さなえ
早稲田大学 理工学部 ; 各務記念材料技術研究所
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〓坂 哲彌
早稲田大学理工学部応用化学科
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東川 太一
早稲田大学理工学部
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本間 敬之
早稲田大学 理工学部
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逢坂 哲彌
早稲田大学 理工学部
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高井 まどか
早稲田大学理工学部
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浅 富士夫
早稲田大学 理工学部 各務記念材料技術研究所
著作論文
- 電析法によるCoNiFe薄膜の作製とその磁気特性
- 電析法による軟磁性FeP/M (M=Ni, CoP)/FeP積層膜の磁歪制御
- 電気めっき法による高飽和磁束密度ソフト材料の開発とMRヘッドコアへの応用
- ヘッド用新高B_S めっき材料
- 電析法による NiFeP 軟磁性薄膜の高比抵抗化
- 電析法による高比抵抗Ni-Fe系軟磁性薄膜の作製
- 高比抵抗無電解NiP薄膜の熱安定性
- 無電解NiBめっきによるマイクロパターニング
- 湿式法による高B_sヘッド磁極材料の開発
- CoB軟磁性膜の磁場中熱処理による透磁率の制御
- 無電解CoB薄膜の軟磁気特性と微細構造