大橋 啓之 | 日本電気株式会社 基礎・環境研究所
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概要
関連著者
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大橋 啓之
日本電気株式会社 基礎・環境研究所
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大橋 啓之
日本電気株式会社
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大橋 啓之
日本電気(株)基礎・環境研究所
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大橋 啓之
日本電気(株)
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大橋 啓之
NEC
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斎藤 美紀子
早稲田大学
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齋藤 美紀子
Nec・機能エレクトロニクス研究所
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齋藤 美紀子
日本電気(株)基礎・環境研究所
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逢坂 哲彌
早稲田大学理工学部
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逢坂 哲彌
早稲田大学
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大橋 啓之
NEC機能デバイス研究所
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曽川 禎道
早大理工
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大橋 啓介
MIRAI-Selete
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川島 麻子
早大理工
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山田 一彦
日本電気(株)
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曽川 禎道
早大理工, 材料技術研究所
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山田 一彦
日本電気株式会社 機能デバイス研究所
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明渡 純
(独)産業技術総合研究所グループ
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明渡 純
産業技術総合研究所機械システム研究部門グループ
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明渡 純
産業技術総合研究所
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斎藤 美紀子
NEC機能デバイス研究所
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中田 正文
日本電気(株)ナノエレクトロニクス研究所
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岩波 瑞樹
日本電気株式会社 生産技術研究所
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中田 正文
日本電気株式会社 基礎・環境研究所
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津田 弘樹
産業技術総合研究所
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中西 卓也
早大・材研
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高井 まどか
東京大学 大学院工学系研究科
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高井 まどか
早稲田大学理工学部応用化学科
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田中 正文
NEC機能デバイス研究所
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岩波 瑞樹
日本電気株式会社システム実装研究所
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岩波 瑞樹
日本電気株式会社
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横島 時彦
早稲田大学 理工学術院
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明渡 純
産業技術総合研
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中田 正文
Mirai-selete
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岩波 瑞樹
日本電気
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水谷 聡
日本医科大学武蔵小杉病院消化器病センター
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水谷 聡
神戸大学大学院自然科学研究科
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水谷 聡
水谷眼科診療所
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水谷 聡
早大理工
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山本 英文
Nec関西
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横島 時彦
早大理工
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逢坂 哲彌
早大理工
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曽川 禎道
早稲田大学
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斎藤 美紀子
NEC
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石綿 延行
日本電気株式会社シリコンシステム研究所
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高井 まどか
早稲田大学 理工学部 ; 各務記念材料技術研究所
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明渡 純
(独)産業技術総合研究所
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大嶋 則和
Nec
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石 勉
日本電気株式会社機能デバイス研究所
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大橋 啓之
日本電気株式会社:mirai-selete
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石 勉
MIRAI-Selete
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大橋 啓之
日本電気株式会社グリーンイノベーション研究所
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石綿 延行
日本電気株式会社 グリーンイノベーション研究所
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石綿 延行
日本電気株式会社
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高井 まどか
早稲田大学 理工学部
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新庄 輝也
京大化研
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石綿 延行
Necデバプラ研
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大嶋 則和
NECデバイスプラットフォーム研究所
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齊藤 信作
NECデバイスプラットフォーム研究所
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本庄 弘明
NECデバイスプラットフォーム研究所
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最上 徹
(株)半導体先端テクノロジーズ
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横島 時彦
早稲田大学
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逢坂 哲彌
早稲田大学先進理工学部応用化学科
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水谷 聡
早稲田大学
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門間 聰之
早稲田大学
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斎藤 美紀子
日本電気(株)
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水谷 聡
早大理工, 材料技術研究所
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門間 聰之
早大理工, 材料技術研究所
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逢坂 哲彌
早大理工, 材料技術研究所
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山田 一彦
NEC
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溝下 義文
富士通(株)ストレージプロダクト事業本部
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壬生 攻
京大化研
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赤井 久純
阪大院理
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斉藤 信作
日本電気(株)
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本庄 弘明
日本電気株式会社
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齋藤 信作
日本電気(株)システムデバイス研究所
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大嶋 則和
NEC機能エレクトロニクス研究所
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大橋 啓之
NEC茨城
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原田 高志
日本電気株式会社
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増田 則夫
日本電気株式会社 生産技術研究所
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野中 義弘
NEC機能デバイス研究所
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鳥羽 環
NEC機能デバイス研究所
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野中 義弘
日本電気株式会社機能デバイス研究所
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鳥羽 環
日本電気株式会社機能デバイス研究所
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斉藤 信作
日本電気株式会社機能デバイス研究所
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斎藤 美紀子
日本電気株式会社機能デバイス研究所
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赤井 久純
大阪大院理
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斎藤 信作
Nec
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石綿 延行
日本電気株式会社 機能デバイス研究所
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中西 卓也
早稲田大学各務記念材料技術研究所
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塚越 常雄
日本電気株式会社
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藤方 潤一
日本電気(株)
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鳥居 淳
ルネサスエレクトロニクス株式会社技術開発本部
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原田 高志
日本電気株式会社システム実装研究所
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増田 則夫
日本電気株式会社
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斎藤 美紀子
Nec機能エレクトロニクス研究所
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逢坂 哲彌
早稲田大学 理工学術院
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越川 誉生
富士通(株)ストレージ事業本部ヘッド事業部
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最上 徹
MIRAI-Selete
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中西 卓也
材研
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川島 麻子
早稲田大学
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南 孝昇
早稲田大学
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中西 卓也
早大材料技術研究所
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大橋 啓之
茨城日本電気(株)
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大橋 啓之
日本電気株式会社ナノエレクトロニクス研究所:株式会社半導体先端テクノロジーズ第四研究部nsiプロジェクト光配線プログラム
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大橋 啓之
日本電気(株)ナノエレクトロニクス研究所
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木下 雅夫
日本電気株式会社システム実装研究所
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塚越 常雄
(株)NECシステム実装研究所
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赤井 久純
阪大 理院 物理
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藤方 潤一
日本電気株式会社 基礎研究所
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塚越 常雄
Nec
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木下 雅夫
日本電気株式会社システム実装研究所:株式会社半導体先端テクノロジーズ第四研究部nsiプロジェクト光配線プログラム
-
鳥居 淳
ルネサスエレクトロニクス株式会社
-
大橋 啓之
日本電気(株) グリーンイノベーション研究所
-
塚越 常雄
NECキャピタルソリューション株式会社
-
赤井 久純
阪大
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本庄 弘明
日本電気株式会社グリーンプラットフォーム研究所
著作論文
- 高B_S-CoNiFe電析膜の軟磁気特性に及ぼす成膜条件の影響
- 電析CoNiFe薄膜の軟磁気特性に及ぼす水素共析の影響
- C-14-4 エアロゾルデポジション法により作製された超小型光ファイバ端電気光学プローブ(C-14.マイクロ波フォトニクス,一般講演)
- CoNiFeめっき合金膜の磁気特性とメスバウア効果
- 高B_s CoNiFe磁性体の電子状態
- MR2000-15 高速記録用小型コア高Bsヘッドの記録特性
- オンチップ光配線開発の動向(光パッシブコンポーネント(フィルタ,コネクタ,MEMS),シリコンフォトニクス,光ファイバ,一般)
- CS-3-2 チップ上光配線へ向けたシリコン・フォトニクスデバイス(CS-3.シリコン・フォトニクス技術の最新動向,シンポジウム)
- BS-3-3 光ファイバ型電気光学/磁気光学プローブによる高周波電界/磁界計測(BS-3.GHz超の電磁波計測技術,シンポジウム)
- C-14-9 エアロゾルデポジション法により作成した超小型光ファイバ端磁気光学プローブ(C-14.マイクロ波フォトニクス,一般講演)
- 7.オンチップ光配線導入の課題検討(エレクトロニクスの多様化を支える新デバイス技術-2020年を見据えて-)
- 磁気ヘッドにおけるフォトリソ技術
- 高密度用超小型磁気ヘッドの開発研究と実用化
- 高B_s高ρを有する電析CoNiFeMoC軟磁性薄膜の磁気特性及び熱安定性
- Mo共析による高B_s高ρ CoNiFe系電析薄膜の作製
- 電析CoNiFe軟磁性薄膜へのMo添加による高比抵抗化
- 電気めっき法による高飽和磁束密度ソフト材料の開発とMRヘッドコアへの応用
- ヘッド用新高B_S めっき材料
- チップ内応用への課題と展望(LSIチップ光配線)(次世代光インタコネクション技術,光回路実装の現状と将来展望)
- 表面プラズモンのストレージ技術への適用
- CI-1-4 表面プラズモンデバイス(CI-1.ナノフォトニクス技術のアクションアイテムズ,依頼シンポジウム,シンポジウムセッション)