逢坂 哲彌 | 早大理工, 材料技術研究所
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概要
関連著者
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逢坂 哲彌
早大理工, 材料技術研究所
-
本間 敬之
早大理工, 材研
-
平山 貴邦
早大理工
-
尾上 貴弘
早大理工, 材研
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朝日 透
早大理工, 材研
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本間 敬之
早稲田大学先進理工学部
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高井 まどか
早大理工, 材料技術研究所
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高井 まどか
東京大学 大学院工学系研究科
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高井 まどか
早稲田大学理工学部応用化学科
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瀧澤 敦尚
早大理工, 材研
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瀧澤 敦尚
早大理工
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林 勝義
早大理工 材料技術研究所
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林 勝義
早大理工, 材料技術研究所
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黒川 義昭
早大理工,材研
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黒川 義昭
早稲田大学理工学部応用化学科; 各務記念材料技術研究所
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大橋 啓之
日本電気(株)基礎・環境研究所
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曽川 禎道
早大理工, 材料技術研究所
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中村 明義
早稲田大学 理工学部 ; 各務記念材料技術研究所
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中村 明義
早大理工, 材料技術研究所
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曽川 禎道
早大理工
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川上 勝
早稲田大学理工学部応用化学科
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加世田 学
早大理工, 材料技術研究所
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川上 勝
早大理工, 材研
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加世田 学
早大理工 材料技術研究所
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田口 智一
早稲田大学理工学部応用化学科; 各務記念材料技術研究所
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田口 智一
早大理工,材研
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林 大作
大阪電気通信大学
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水谷 聡
日本医科大学武蔵小杉病院消化器病センター
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水谷 聡
神戸大学大学院自然科学研究科
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水谷 聡
水谷眼科診療所
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水谷 聡
早大理工
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大橋 啓之
日本電気(株)
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大橋 啓之
日本電気株式会社 基礎・環境研究所
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山田 一彦
日本電気(株)
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水谷 聡
早大理工, 材料技術研究所
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門間 聰之
早大理工, 材料技術研究所
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斎藤 美紀子
NEC
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大橋 啓之
NEC
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山田 一彦
NEC
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山田 一彦
日本電気株式会社 機能デバイス研究所
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安江 義彦
NEC茨城
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大橋 啓之
NEC茨城
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浅 富士夫
早稲田大学理工学部応用化学科;各務記念材料技術研究所
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浅 富士夫
早大理工, 材料技術研究所
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斎藤 美紀子
NEC機能デバイス研究所
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大橋 啓之
NEC機能デバイス研究所
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中西 卓也
早大・材研
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斎藤 美紀子
早稲田大学
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齋藤 美紀子
Nec・機能エレクトロニクス研究所
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森田 善幸
早稲田大学理工学部応用化学科
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池田 真
早稲田大学理工学部応用化学科
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倉持 健太郎
早大理工, 材研
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森田 善幸
早大理工, 材研
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倉持 健太郎
早大理工
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横島 時彦
早稲田大学 理工学術院
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齋藤 美紀子
日本電気(株)基礎・環境研究所
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吉満 然
早大理工, 材料技術研究所
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横島 時彦
早大理工, 材料技術研究所
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中西 卓也
早大理工, 材料技術研究所
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法橋 滋郎
早大理工学術院
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倉澤 紘己
早稲田大学理工学部
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長崎 顕
早大理工,材研
-
林 大作
早大理工,材研
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目羅 史明
早大理工, 材料技術研究所
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倉澤 紘己
早大理工, 材研
-
池田 真
早大理工, 材研
-
目羅 史明
早稲田大学 理工学部
-
長崎 顕
早稲田大学理工学部
-
吉満 然
早大理工 材料技術研究所
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平山 貴邦
早大理工, 材研
-
法橋 滋郎
早大理工, 材研
著作論文
- 電析CoNiFe薄膜の軟磁気特性に及ぼす水素共析の影響
- 電析法により作製したBs=2.1T軟磁性薄膜の磁気特性
- 電析法によるCoNiFe薄膜の作製と磁気特性
- 電析法による軟磁性FeP/Ni/FeP積層膜の磁歪制御
- CoCrPtTa/CoCr/Ge垂直単層媒体の記録再生特性に及ぼすGe下地層厚の効果
- 高比抵抗を有する高Bs CoNiFe電析膜の磁気特性
- リングヘッド/垂直面内複合型媒体系のピークシフト特性
- 電析法によるNi-Fe系軟磁性薄膜の高比抵抗化
- CoCrPtTa/NiCr/Ti媒体におけるTi下地層へのN_2添加効果
- C-7-15 NiCr磁性下地層を付与した垂直面内複合型媒体の作製
- Si基板上に成膜したCoCrTa/Cr磁性薄膜の熱処理における下地層へのTi添加効果
- CoCrTa/Cr磁性薄膜におけるSi基板前処理効果の検討
- C-7-14 単層垂直磁気記録媒体の磁気特性に及ぼすカーボン下地層厚の効果
- リングヘッド/垂直単層記録媒体系における記録ヘッドパラメータの影響