CoCrPtTa/CoCr/Ge垂直単層媒体の記録再生特性に及ぼすGe下地層厚の効果
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2000-03-07
著者
-
逢坂 哲彌
早大理工, 材料技術研究所
-
本間 敬之
早稲田大学先進理工学部
-
森田 善幸
早稲田大学理工学部応用化学科
-
倉持 健太郎
早大理工, 材研
-
森田 善幸
早大理工, 材研
-
尾上 貴弘
早大理工, 材研
-
朝日 透
早大理工, 材研
-
本間 敬之
早大理工, 材研
-
平山 貴邦
早大理工
-
倉持 健太郎
早大理工
関連論文
- Al-si合金膜表面のジンケート処理に対する下地Si基板の影響
- フィニッシュからスタートまで
- ソフトガードバンドを有する垂直磁気記録媒体の磁化反転機構(ハードディスクドライブおよび一般)
- 電析CoNiFe薄膜の軟磁気特性に及ぼす水素共析の影響
- ソフトガードバンドを有する垂直磁気記録媒体の磁化反転機構(ハードディスクドライブ及び一般)
- 垂直記録孤立波磁化のMR再生特性の解析解
- 電析法により作製したBs=2.1T軟磁性薄膜の磁気特性
- 電析法によるCoNiFe薄膜の作製と磁気特性
- 電析法による軟磁性FeP/Ni/FeP積層膜の磁歪制御
- ウェットプロセスによる磁性ナノドットパターン膜形成の試み(高密度記録媒体の開発とその関連技術の進展)
- G154 めっき並びに切削加工で製作したサブミリチャネルCOSMOS heat pipeの熱輸送能力検証試験(一般セッション 熱機関・システムII)
- 118 めっき並びに切削加工によるサブミリチャネルCOSMOS heat pipeの試作(材料力学(4),加工,材料)
- CS-7-4 無電解Pd/CoNiFeB下地層を用いたCo/Pd多層膜媒体の作製(CS-7.高密度垂直磁気記録方式に資する先端磁性薄膜材料開発,シンポジウム)
- 超伝導遷移端を用いた撮像型放射線検出器の開発
- 29aSL-11 超伝導遷移端(TES 型) X 線マイクロカロリメータの熱的・電気的応答とノイズ原因
- 高密度めっき垂直記録媒体 : 画像情報記録
- 電気化学プロセスによるPd/CoNiFeB下地層の作製
- C-7-3 湿式法により形成したPdシードを有するCo/Pd多層膜媒体の作製(C-7.磁気記録)
- 電気化学的手法を用いた垂直二層膜媒体用下地層の作製(磁性薄膜,磁気記録一般)
- 電気化学的手法を用いた垂直二層膜媒体用下地層の作製
- ウェットプロセスによる垂直二層膜媒体用シード層の作製
- 無電解めっき法による磁性ナノドットアレイの作製(垂直記録,一般)
- パターン媒体作製を目的とした無電解CoNiP析出前処理条件の検討
- ウェットプロセスによる強磁性ナノドットアレイ構造体の形成
- Si圧痕のラマン分光解析(トライボロジー/一般)
- 無電解プロセスによるマスクレスナノファブリケーション
- 2204 Si表面インデンテーション痕の共焦点ラマン散乱分光(要旨講演,マイクロナノ理工学)
- 最近の無電解めっき技術
- ウェットプロセスによる微細加工とマイクロ・ナノ構造形成
- 国際化学オリンピックへの代表派遣3年目を終えて
- ウェットプロセスによる機能ナノ構造薄膜形成(「磁性薄膜作製技術II」)
- Surface Conductivity in Methyl-monolayer/Si Heterojunction Structure in the Presence of Water
- 高アスペクト比構造の作製を目的としたSi微細孔形成および金属埋込みの電気化学的一括プロセス
- ウェットプロセスによる磁性ナノドットパターン膜形成の試み
- 微小流路を用いた無電解析出プロセスによる複合金属ナノ粒子の作製
- ウェットプロセスによる機能ナノ構造の形成
- Al-Si合金膜表面のジンケート処理に対する下地Si基板の影響
- アモルファスSi中間層を用いた垂直面内複合型媒体の作製
- アモルファスSi中間層を用いた垂直面内複合型媒体の作製
- Ge 下地層を有する垂直単層磁気記録媒体の作製
- CoCrPtTa/CoCr/Ge垂直単層媒体の記録再生特性に及ぼすGe下地層厚の効果
- Ge下地層を有する垂直単層磁気記録媒体の作製
- 垂直単層磁気記録媒体における結晶配向分散の効果
- 27pXD-5 TES型X線マイクロカロイメータの開発(VII) : エネルギー分解能の追求
- 25pSG-5 TES型X線マイクロカロリメータの開発 (VI) : X線分光性能の評価
- 25pSG-4 TES型X線マイクロカロリメータの開発V : TES温度計の性能向上
- 無電解めっき法による磁性ナノドットアレイの作製
- 19aWD-13 電気化学手法によりSi(111)表面スクラッチに形成したNiドット・アレイのMFMによる評価
- Electrochemical Behavior of Methyl- and Butyl- Terminated Si(111) in Aqueous Solution
- 高比抵抗を有する高Bs CoNiFe電析膜の磁気特性
- Pd/Sn混合触媒を用いた銅ダイレクトプレーティングにおける導体化過程の解析
- リングヘッド/垂直面内複合型媒体系のピークシフト特性
- 無電解めっき法によるCoNiP磁性ドット媒体の作製
- CおよびSi下地層を有するCo/Pd多層垂直磁気記録媒体の微細構造解析
- CoCrPtTaおよび[Co/Pd]_n単層垂直媒体の電磁変換特性
- CoCrPtTaおよび[Co/Pd]_n単層垂直媒体の電磁変換特性
- 電析法によるNi-Fe系軟磁性薄膜の高比抵抗化
- Ab initio 分子軌道法による無電解めっきにおける還元剤ヒドラジン及びヒドロキシルアミンの酸化反応機構の検討
- 高感度X線画像センサーの作製を目的としたBi電解析出プロセスの研究
- CoCrPtTa/NiCr/Ti媒体におけるTi下地層へのN_2添加効果
- CoCrPtTa/Ni及びCoCrPtTa/Ni/Ti垂直面内複合型媒体の作製
- C-7-15 NiCr磁性下地層を付与した垂直面内複合型媒体の作製
- 無電解析出プロセスにおける還元剤TiCl_3の電子放出機構の ab initio 分子軌道法による検討
- 垂直単層媒体および垂直面内複合型媒体におけるベースラインシフト
- スパッタ法により作製した垂直面内複合型媒体のノイズ特性
- スパッタ法による垂直面内複合型媒体の作製
- スパッタ法により作製した垂直面内複合型媒体における面内下地層保磁力の影響
- スパッタ法により作製した垂直面内複合型媒体のノイズ特性
- スパッタ法による垂直面内複合型媒体の作製
- 高アスペクト比構造の作製を目的としたSi微細孔形成および金属埋込みの電気化学的一括プロセス
- 無電解析出法による傾斜機能磁性薄膜の作製
- Formation of Micro and Nanoscale Patterns of Monolayer Templates for Position Selective Immobilization of Oligonucleotide Using Ultraviolet and Electron Beam Lithography
- 無電解CoNiP傾斜機能磁性薄膜の断面構造解析
- 電気化学的手法による磁気的機能傾斜薄膜の作製
- Electrochemistry 誌をご活用下さい!
- 化学グランプリ・オリンピック委員会から
- 固液界面反応を用いたナノファブリケーションとデバイス構築
- 電解・無電解析出法を用いた微小機能構造体の形成
- Fabrication of Organic Monolayer Modified Ion-Sensitive Field Effect Transistors with High Chemical Durability
- めっき技術の基礎(材料基礎講座第12回)
- ナノ構造・機能デバイス形成のための電解・無電解プロセス
- めっき析出過程の基礎解析手法
- 「小特集/めっき析出機構の基礎解析」の企画に当たって
- 垂直面内複合型媒体の記録再生特性 (垂直磁気記録の進展)
- Si基板上に成膜したCoCrTa/Cr磁性薄膜の熱処理における下地層へのTi添加効果
- CoCrTa/Cr磁性薄膜におけるSi基板前処理効果の検討
- 半導体・エレクトロニクス分野における微細構造形成のためのめっきプロセス
- C-7-14 単層垂直磁気記録媒体の磁気特性に及ぼすカーボン下地層厚の効果
- リングヘッド/垂直単層磁気記録媒体系におけるトラック端部磁化状態の解析
- リングヘッド/垂直単層記録媒体系における記録ヘッドパラメータの影響
- リングヘッド/垂直単層磁気記録媒体におけるトラック端部磁化状態の解析
- 国際化学オリンピックへの代表派遣3年目を終えて(ヘッドライン:科学オリンピックへの各分野の取り組みと今後の課題)
- 化学グランプリ・オリンピック委員会から(協議会だより)
- 化学グランプリ・オリンピック委員会から(協議会だより)
- 水和次亜リン酸のPd(111)表面に対する吸着構造の理論解析
- 電気化学的手法による機能マイクロ・ナノ構造体形成プロセス
- 次亜リン酸の酸化反応に対する金属表面の触媒活性の理論的解析
- 量子化学計算手法による無電解析出プロセスの解析
- 成長の節目を刻むこと
- 解説 湿式プロセスによる磁性薄膜の形成 (特集 ソフト溶液プロセス)