電析法によるNi-Fe系軟磁性薄膜の高比抵抗化
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 1997-10-01
著者
-
逢坂 哲彌
早大理工, 材料技術研究所
-
高井 まどか
早大理工, 材料技術研究所
-
高井 まどか
東京大学 大学院工学系研究科
-
高井 まどか
早稲田大学理工学部応用化学科
-
加世田 学
早大理工, 材料技術研究所
-
目羅 史明
早大理工, 材料技術研究所
-
加世田 学
早大理工 材料技術研究所
-
目羅 史明
早稲田大学 理工学部
関連論文
- 電析CoNiFe薄膜の軟磁気特性に及ぼす水素共析の影響
- 電析法により作製したBs=2.1T軟磁性薄膜の磁気特性
- 電析法によるCoNiFe薄膜の作製とその磁気特性
- 電析法によるCoNiFe薄膜の作製と磁気特性
- 電析法による軟磁性FeP/M (M=Ni, CoP)/FeP積層膜の磁歪制御
- 電析法による軟磁性FeP/Ni/FeP積層膜の磁歪制御
- CoCrPtTa/CoCr/Ge垂直単層媒体の記録再生特性に及ぼすGe下地層厚の効果
- 高密度用超小型磁気ヘッドの開発研究と実用化
- 電気めっき法による高飽和磁束密度ソフト材料の開発とMRヘッドコアへの応用
- ヘッド用新高B_S めっき材料
- 高比抵抗を有する高Bs CoNiFe電析膜の磁気特性
- リングヘッド/垂直面内複合型媒体系のピークシフト特性
- 電析法による NiFeP 軟磁性薄膜の高比抵抗化
- 電析法による高比抵抗Ni-Fe系軟磁性薄膜の作製
- 電析法によるNi-Fe系軟磁性薄膜の高比抵抗化
- 高比抵抗無電解NiP薄膜の熱安定性
- 無電解NiBめっきによるマイクロパターニング
- 湿式法による高機能性薄膜形成とその応用 (特集 表面技術の現状と話題)
- CoB軟磁性膜の磁場中熱処理による透磁率の制御
- CoCrPtTa/NiCr/Ti媒体におけるTi下地層へのN_2添加効果
- C-7-15 NiCr磁性下地層を付与した垂直面内複合型媒体の作製
- 湿式法による高B_sヘッド磁極材料の開発
- Si基板上に成膜したCoCrTa/Cr磁性薄膜の熱処理における下地層へのTi添加効果
- CoCrTa/Cr磁性薄膜におけるSi基板前処理効果の検討
- C-7-14 単層垂直磁気記録媒体の磁気特性に及ぼすカーボン下地層厚の効果
- CoB軟磁性膜の磁場中熱処理による透磁率の制御
- 無電解CoB薄膜の軟磁気特性と微細構造
- リングヘッド/垂直単層記録媒体系における記録ヘッドパラメータの影響