Formation of Micro and Nanoscale Patterns of Monolayer Templates for Position Selective Immobilization of Oligonucleotide Using Ultraviolet and Electron Beam Lithography
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概要
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- 2004-02-05
著者
-
本間 敬之
早稲田大学先進理工学部
-
NIWA Daisuke
Institute for Biomedical Engineering, Waseda University
-
HOMMA Takayuki
Major in Nano-Science and Nano-Engineering, Waseda University
-
OMICHI Kaoru
Department of Environmental Sciences,Faculty of Science, Osaka Women's University
-
Omichi Kaoru
Department Of Applied Chemistry Waseda University
-
Niwa Daisuke
Department Of Applied Chemistry Waseda University
-
Osaka T
Department Of Applied Chemistry School Of Science And Engineering Waseda University
-
Osaka Tetsuya
Department Of Applied Chemistry School Of Science And Engineering Waseda University
-
Osaka Tetsuya
Department Of Applied Chemistry School Of Science And Engineering Kagami Memorial Laboratory For Mat
-
Homma Takayuki
Department Of Applied Chemistry School Of Science And Engineering Waseda University
-
Homma Takayuki
Department Of Applied Chemistry Waseda University
-
MOTOHASHI Norikazu
Department of Applied Chemistry, Waseda University
-
Osaka Tetsuya
Department Of Applied Chemistry Faculty Of Science And Engineering Waseda University
-
Motohashi Norikazu
Department Of Applied Chemistry Waseda University
-
Osaka T
Research Institute For Science And Engineering Waseda University
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