大橋 啓之 | 日本電気株式会社

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概要

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• 大橋 啓之

  日本電気株式会社

• 大橋 啓之

  日本電気株式会社 基礎・環境研究所

• 大橋 啓之

  日本電気(株)

• 大橋 啓之

  NEC

• 大橋 啓介

  MIRAI-Selete

• 明渡 純

  (独)産業技術総合研究所グループ

• 明渡 純

  産業技術総合研究所

• 津田 弘樹

  産業技術総合研究所

• 大橋 啓之

  日本電気株式会社グリーンイノベーション研究所

• 明渡 純

  産業技術総合研

• 明渡 純

  産業技術総合研究所機械システム研究部門グループ

• 中田 正文

  日本電気(株)ナノエレクトロニクス研究所

• 岩波 瑞樹

  日本電気株式会社 生産技術研究所

• 中田 正文

  日本電気株式会社 基礎・環境研究所

• 田中 正文

  NEC機能デバイス研究所

• 岩波 瑞樹

  日本電気株式会社システム実装研究所

• 岩波 瑞樹

  日本電気株式会社

• 中田 正文

  Mirai-selete

• 大橋 啓之

  日本電気(株) グリーンイノベーション研究所

• 岩波 瑞樹

  日本電気

• 石綿 延行

  日本電気株式会社シリコンシステム研究所

• 明渡 純

  (独)産業技術総合研究所

• 石 勉

  日本電気株式会社機能デバイス研究所

• 大橋 啓之

  日本電気株式会社:mirai-selete

• 石 勉

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• 石綿 延行

  日本電気株式会社 グリーンイノベーション研究所

• 石綿 延行

  日本電気株式会社

• 石綿 延行

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• 齊藤 信作

  NECデバイスプラットフォーム研究所

• 本庄 弘明

  NECデバイスプラットフォーム研究所

• 最上 徹

  (株)半導体先端テクノロジーズ

• 山田 一彦

  日本電気(株)

• 山田 一彦

  日本電気株式会社 機能デバイス研究所

• 斉藤 信作

  日本電気(株)

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• 齋藤 信作

  日本電気(株)システムデバイス研究所

• 原田 高志

  日本電気株式会社

• 増田 則夫

  日本電気株式会社 生産技術研究所

• 野中 義弘

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• 鳥羽 環

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• 野中 義弘

  日本電気株式会社機能デバイス研究所

• 鳥羽 環

  日本電気株式会社機能デバイス研究所

• 斉藤 信作

  日本電気株式会社機能デバイス研究所

• 斎藤 美紀子

  日本電気株式会社機能デバイス研究所

• 斎藤 信作

  Nec

• 石綿 延行

  日本電気株式会社 機能デバイス研究所

• 斎藤 美紀子

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• 齋藤 美紀子

  Nec・機能エレクトロニクス研究所

• 廣瀬 伸吾

  独立行政法人 産業技術総合研究所

• 廣瀬 伸吾

  (独)産業技術総合研究所先進製造プロセス研究部門集積加工研究グループ

• 塚越 常雄

  日本電気株式会社

• 藤方 潤一

  日本電気(株)

• 鳥居 淳

  ルネサスエレクトロニクス株式会社技術開発本部

• 原田 高志

  日本電気株式会社システム実装研究所

• 増田 則夫

  日本電気株式会社

• 齋藤 美紀子

  日本電気(株)基礎・環境研究所

• 最上 徹

  MIRAI-Selete

• 大橋 啓之

  日本電気株式会社ナノエレクトロニクス研究所:株式会社半導体先端テクノロジーズ第四研究部nsiプロジェクト光配線プログラム

• 大橋 啓之

  日本電気(株)ナノエレクトロニクス研究所

• 木下 雅夫

  日本電気株式会社システム実装研究所

• 塚越 常雄

  (株)NECシステム実装研究所

• 藤方 潤一

  日本電気株式会社 基礎研究所

• 明渡 純

  独立行政法人 産業技術総合研究所

• 塚越 常雄

  Nec

• 木下 雅夫

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  ルネサスエレクトロニクス株式会社

• 津田 弘樹

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著作論文

• C-14-4 エアロゾルデポジション法により作製された超小型光ファイバ端電気光学プローブ(C-14.マイクロ波フォトニクス,一般講演)
• MR2000-15 高速記録用小型コア高Bsヘッドの記録特性
• オンチップ光配線開発の動向(光パッシブコンポーネント(フィルタ,コネクタ,MEMS),シリコンフォトニクス,光ファイバ,一般)
• CS-3-2 チップ上光配線へ向けたシリコン・フォトニクスデバイス(CS-3.シリコン・フォトニクス技術の最新動向,シンポジウム)
• BS-3-3 光ファイバ型電気光学/磁気光学プローブによる高周波電界/磁界計測(BS-3.GHz超の電磁波計測技術,シンポジウム)
• C-14-9 エアロゾルデポジション法により作成した超小型光ファイバ端磁気光学プローブ(C-14.マイクロ波フォトニクス,一般講演)
• 7.オンチップ光配線導入の課題検討(エレクトロニクスの多様化を支える新デバイス技術-2020年を見据えて-)
• 磁気ヘッドにおけるフォトリソ技術
• チップ内応用への課題と展望(LSIチップ光配線)(次世代光インタコネクション技術,光回路実装の現状と将来展望)
• 表面プラズモンのストレージ技術への適用
• CI-1-4 表面プラズモンデバイス(CI-1.ナノフォトニクス技術のアクションアイテムズ,依頼シンポジウム,シンポジウムセッション)
• CI-3-7 LSIと光の結合(CI-3.接合技術を用いた新規集積光デバイス,依頼シンポジウム,ソサイエティ企画)
• エアロゾルデポジション法により作製した赤外透過セラミックス・コーティングの検討
• プラズモン増強を用いた光検出

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