明渡 純 | (独)産業技術総合研究所グループ

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概要

• 同名の論文著者
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関連著者

• 明渡 純

  (独)産業技術総合研究所グループ

• 明渡 純

  産業技術総合研

• 明渡 純

  産業技術総合研究所

• 明渡 純

  (独)産業技術総合研究所

• 明渡 純

  産業技術総合研究所機械システム研究部門グループ

• 阿部 信行

  大阪大学接合科学研究所

• 塚本 雅裕

  大阪大学接合科学研究所

• 大橋 啓之

  日本電気(株)

• 大橋 啓之

  NEC

• 中田 正文

  日本電気(株)ナノエレクトロニクス研究所

• 津田 弘樹

  産業技術総合研究所

• 大橋 啓介

  MIRAI-Selete

• 田中 正文

  NEC機能デバイス研究所

• 中田 正文

  Mirai-selete

• 明渡 純

  産総研

• 中村 尚行

  大阪大学大学院

• 岩波 瑞樹

  日本電気株式会社システム実装研究所

• 岩波 瑞樹

  日本電気

• 森本 純司

  近畿大学理工学部

• 清水 隆徳

  MIRAI-Selete

• 阿部 信行

  大阪大学 接合科学研究所

• 森本 純司

  近畿大学

• 中田 正文

  NECナノエレクトロニクス研究所

• 岩波 瑞樹

  NECシステム実装研

• 大橋 啓之

  NECナノエレクトロニクス研究所

• 大橋 啓之

  日本電気株式会社

• 大橋 啓之

  日本電気株式会社 基礎・環境研究所

• 中野 禅

  産業技術総合研究所

• 馬場 創

  (独)産業技術総合研究所

• 岩波 瑞樹

  日本電気株式会社 生産技術研究所

• 中田 正文

  日本電気株式会社 基礎・環境研究所

• 杉本 諭

  東北大学大学院工学研究科知能デバイス材料学専攻

• 森 正和

  龍谷大学 理工学部 機械システム工学科

• 岩波 瑞樹

  日本電気株式会社

• 杉本 論

  東北大学大学院工学研究科

• 杉本 諭

  東北大

• 中野 人志

  近畿大学理工学部

• 朴 載赫

  産総研

• 藤田 雅之

  レーザー技術総合研究所

• 藤田 雅之

  大阪大学 レーザーエネルギー学研究センター

• 大橋 啓之

  Mirai-selete:日本電気株式会社

• 中野 禅

  産総研

• 小木曽 久人

  産総研

• 手束 展規

  東北大学大学院工学研究科材料物性学

• 杉本 諭

  東北大学大学院工学研究科材料物性学

• 曽我 幸弘

  阪大院工

• 吉田 実

  近畿大学理工学部

• 野口 真純

  東北大学

• 峯田 真悟

  東北大学

• 野口 真純

  東北大学大学院

• 峯田 真悟

  東北大学大学院

• 杉本 諭

  東北大学 大学院工学研究科 知能デバイス材料学専攻

• 藤原 俊明

  大阪大学大学院

• 手束 展規

  東北大学大学院工学研究科知能デバイス材料学専攻

• 中田 正文

  日本電気(株)基礎・環境研究所

• 中田 正文

  MIRAI-Selet

• 塚本 雅裕

  大阪大学 接合科学研究所

• 遠藤 聡人

  産業技術総合研究所

• 小木曽 久人

  産業技術総合研究所

• 手束 展規

  東北大・工

• 大橋 啓之

  Mirai-selete

• 小木曽 久人

  (独)産業技術総合研究所先進製造プロセス研究部門集積加工研究グループ

• 塚本 雅裕

  大阪大学溶接工学研究所

• 明渡 純

  (独)産業技術総合研究所先進製造プロセス研究部門集積加工研究グループ

• 中野 人志

  近畿大学大学院総合理工学研究科

• Fujita M

  Kyoto Univ. Kyoto Jpn

• Fujita Masayuki

  New Materials Research Center Sanyo Electric Co.

• Fujita Masayuki

  Yokohama National University Department Of Electrical And Computer Engineering

• Fujita Masayuki

  School Of Information Science Japan Advanced Institute Of Science And Technology

• Sugimoto Satoshi

  Department Of Materials Science Graduate School Of Engineering Tohoku University

• 水野 章敏

  学習院大学理学部

• 井上 光輝

  豊橋技科大

• 西村 一寛

  豊橋技科大

• 鶴見 敬章

  東工大理工

• 秋元 俊彦

  学習院大理

• 渡辺 匡人

  学習院大理

• 芦田 極

  産業技術総合研究所

• 藤田 雅之

  レーザー総研

• 黄地 尚義

  大阪大学大学院

• 猪俣 浩一郎

  東北大学大学院工学研究科知能デバイス材料学専攻

• 猪俣 浩一郎

  東北大工

• 猪俣 浩一郎

  (株)東芝研究開発センター

• 猪俣 浩一郎

  都立大理学部

• 猪俣 浩一郎

  独立行政法人物質・材料研究機構 磁性材料センター

• 阿部 伸行

  大阪大学

• 猪俣 浩一郎

  東芝研究開発センター

• 猪俣 浩一郎

  東北大学大学院工学研究科

• 内田 裕久

  豊橋技術科学大学

• 内田 裕久

  豊橋技科大

• 内田 裕久

  東北工業大学

• 溝口 真彦

  豊橋技科大

• 明渡 純

  独立行政法人産業技術総合研究所 先進製造プロセス研究部門

• 原田 高志

  日本電気株式会社

• 芦田 極

  産総研

• 水野. 章敏

  学習院大学理学部物理学科

• 小木曽 久人

  (独)産業技術総合研究所

• 清原 正勝

  TOTO(株)

• 鳩野 広典

  TOTO(株)

• 岩澤 順一

  TOTO(株)

• 曽我 幸弘

  大阪大学大学院工学研究科

• 平山 亨

  東北大学 大学院工学研究科 知能デバイス材料学専攻

• 槙 智仁

  東北大学 大学院工学研究科 知能デバイス材料学専攻

• 籠谷 登志夫

  東北大学 大学院工学研究科 知能デバイス材料学専攻

• 猪俣 浩一郎

  東北大学 大学院工学研究科 知能デバイス材料学専攻

• 森 正和

  産業技術総合研究所

• 馬場 創

  産業技術総合研究所

• 寺田 健吾

  大阪大学大学院

• 槙 智仁

  東北大学大学院工学研究科

• 西 研一

  MIRAI-Selete

• 増田 則夫

  日本電気株式会社 生産技術研究所

• 掛本 博文

  東工大院理工

• 西村 一寛

  鈴鹿工業高等専門学校電気電子工学科

• 西 研一

  (株)半導体先端テクノロジーズ技術戦略室

• 中野 裕美

  豊橋技術科学大学

• 今中 佳彦

  (株)富士通研究所 メディアデバイス研究部

• 廣瀬 伸吾

  独立行政法人 産業技術総合研究所

• 廣瀬 伸吾

  (独)産業技術総合研究所先進製造プロセス研究部門集積加工研究グループ

• 塚越 常雄

  日本電気株式会社

• 塚本 雅裕

  阪大接合研

• 阿倍 信行

  阪大接合研

• 中野 人志

  近大理工

• 吉田 実

  近大理工

• Watanabe Satoshi

  Department Of Materials Science University Of Tokyo

• Watanabe Satoshi

  Advanced Research Laboratory Hitachi Ltd.

• 渡辺 匡人

  学習院大

• 原田 高志

  日本電気株式会社システム実装研究所

• 阿部 信行

  大阪大学

• 増田 則夫

  日本電気株式会社

• 猪俣 浩一郎

  東芝総研

• 川邉 裕大

  学習院大

• 池田 啓紀

  学習院大

• 小山 千尋

  学習院大

• 佐藤 治道

  産総研

• 手束 展規

  東北大学大学院工学研究科

• 手束 展規

  東北大学・工

• 岩田 篤

  産業技術総合研究所

• 宮崎 博史

  MIRAI-Selete

• レベデフ マキシム

  東京計装

• 和田 智志

  Department Of Metallurgy And Ceramics Science Graduate School Of Science And Engineering Tokyo Insti

• 和田 智史

  東京工業大学大学院理工学研究科材料工学専攻

• 掛本 博文

  Department Of Inorganic Materials Faculty Of Engineering Tokyo Institute Of Technology

• 中野 禅

  産業技術総合研

• 鶴見 敬章

  東京工業大学工学部無機材料工学科

• 猪俣 浩一郎

  東芝 総研

• 朴 載赫

  産業技術総合研究所

• 塚越 常雄

  (株)NECシステム実装研究所

• 寺西 貴志

  東京工業大学大学院理工学研究科

• 和田 智志

  東京工業大学大学院理工学研究科

• 掛本 博文

  東京工業大学大学院理工学研究科

• 福長 脩

  エーステック(株)

• Wada S

  Faculty Of Engineering Yokohama National University

• 黄地 尚義

  (株)バーチャルウェルド

• 黄地 尚義

  大阪大学大学院 知能・機能創成工学専攻

• 黄池 尚義

  大阪大学大学院

• Wada Satoshi

  Department Of Physics Graduate School Of Science Tokyo University Of Science

• Wada Satoshi

  Riken

• 籠谷 登志夫

  東北大学大学院工学研究科 知能デバイス材料学専攻

• 和田 智志

  東京工業大学 工学部無機材料工学科

• 鶴見 敬章

  東京工業大学 大学院理工学研究科 材料工学専攻

• 黄地 尚義

  大阪大学 大学院工学研究科知能・機能創成工学専攻

• Kagotani T.

  Graduate School Of Engineering Tohoku University

• 中野 裕美

  豊橋技術科学大学・研究基盤センター

• Wada S

  Hokkaido Univ. Hakodate Jpn

• 明渡 純

  独立行政法人 産業技術総合研究所

• 塚越 常雄

  Nec

• 水野 章敏

  学習院大

• 岩澤 順一

  Toto(株)セラミック事業部セラミック技術部

• 秋元 俊彦

  学習院大学 理学部

• 鳩野 広典

  Toto(株)総合研究所素材研究部

• Wada Satoshi

  Material Sci. And Technol. Interdisciplinary Graduate School Of Medical And Engineering Univ. Of Yam

• 清原 正勝

  Toto(株)セラミック事業部セラミック技術部

• 阿部 信行

  白鴎大学

• 小野 きとみ

  名古屋市工業研究所・材料化学部 材料応用化学研究室

• 津田 弘樹

  独立行政法人 産業技術総合研究所

• 阿部 信行

  大阪大学 接合科学研究科

• 杉本 諭

  東北大学

• 塚越 常雄

  NECキャピタルソリューション株式会社

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著作論文

• AD法による磁性ガーネット膜の熱処理及び研磨効果
• (1)エアロゾルデポジション法による常温セラミックスコーティングとプラズマ耐食コーティングとしての実用化開発(技術,日本機械学会賞〔2008年度(平成20年度)審査経過報告〕)
• レーザー援用エアロゾルデポジション法による基材の熱ダメージを抑えた電子セラミックス厚膜の熱処理プロセス
• フェムト秒レーザーによる酸化チタン膜の電気抵抗制御
• エアロゾル・デポジション法によるFe/酸化物複合膜の作製
• 202 半導体レーザ照射によるチタン酸バリウム薄膜の誘電特性向上(レーザー溶接)
• エアロゾル・デポジション法によるFe/NiZnCuフェライト複合膜の成膜過程
• 半導体レーザ照射による精細アニーリング
• 401 プラスチック基板表面上へのマイクロ周期構造形成 : 超微粒子ビームによる材料加工の基礎的研究(第18報)(薄膜,平成18年度春季全国大会)
• Sm-Fe-N系エアロゾル・デポジション厚膜の面直方向異方性化
• 常温衝撃固化現象とエアロゾルデポジション法によるナノ結晶セラミックス膜形成
• 108 超微粒子ビームにより作製したPZT皮膜への半導体レーザ照射 : 超微粒子ビームによる材料加工の基礎的研究(第17報)(表面改質)
• 107 酸化チタン・ハイドロキシアパタイト複合皮膜形成のビーム入射角度依存性 : 超微粒子ビームによる材料加工の基礎的研究(第16報)(表面改質)
• 421 多機能光触媒特性を有するチタニア/アパタイト複合膜形成(薄膜)
• C-14-4 エアロゾルデポジション法により作製された超小型光ファイバ端電気光学プローブ(C-14.マイクロ波フォトニクス,一般講演)
• エアロゾルデポジション(AD)法
• エアロゾルデポジション(AD)を用いた高周波フィルターのエンベッディド化技術 (特集 マイクロ波・ミリ波誘電体)
• AD法によるEO/MO材料を用いた小型高速光素子(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
• BS-3-3 光ファイバ型電気光学/磁気光学プローブによる高周波電界/磁界計測(BS-3.GHz超の電磁波計測技術,シンポジウム)
• C-3-58 エアロゾルデポジション法を用いた光配線用PLZT変調器のデバイス設計と導波路特性(光スイッチ・変調器,C-3.光エレクトロニクス,一般講演)
• C-14-9 エアロゾルデポジション法により作成した超小型光ファイバ端磁気光学プローブ(C-14.マイクロ波フォトニクス,一般講演)
• エアロゾルビーム照射により形成されたTiO_2膜の短パルスレーザを用いた電気抵抗制御
• レーザ援用インクジェット法による微細配線描画(先端電子デバイスパッケージと高密度実装における評価・解析技術論文)
• 微小重力下でのセラミックス製膜技術の開発
• C-3-75 エアロゾルデポジション法により作製されたマッハツェンダー型PLZT変調器のGHz変調動作(光変調器,C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
• AD法によるEO/MO材料を用いた小型高速光素子(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
• AD法によるEO/MO材料を用いた小型高速光素子(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
• AD法によるEO/MO材料を用いた小型高速光素子(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
• 4218 オンデマンド型メタルベースMEMS製造システムの開発(J24-1 生産機械のマイクロ化(1))
• 1201 オンデマンド型MEMS製造システムの開発(OS1-2 生産システムの運用)
• チタン酸ストロンチウム-チタン酸ジルコニウム固溶体の超広帯域誘電スペクトロスコピー
• AD法による電気光学薄膜の形成と光デバイス応用の可能性
• 3J8-4 エアロゾルデポジション法によるPZT膜を用いた高周波超音波プローブの音響特性(強力超音波)
• エアロゾルデポジション(AD)法の高度化プロセス技術
• 室温成形セラミックス大面積膜の厚さ分布
• AD法におけるプラズマ援用効果 (特集 ナノレベル電子セラミックス材料低温・集積化技術)
• エアロゾルデポジション法による常温衝撃固化現象とその応用(粒子積層プロセスの新しいトレンド)
• P3-52 液体を満たしたパイプを伝搬するガイド波の解析(ポスターセッション3(概要講演))
• 圧電・超音波材料 エアロゾルデポジション(AD)法と圧電デバイスへの応用
• 常温衝撃固化現象とエアロゾルデポジション(AD)法による厚膜コーティング
• 半導体レーザによる機能性セラミックス皮膜への精細アニーリング
• エアロゾルビームを用いたプラスチック基板の表面微細加工
• エアロゾルビーム照射によるポリ乳酸基板へのハイドロキシアパタイトコーティング
• 常温衝撃固化現象とエアロゾルデポジション(AD)法によるセラミックスコーティング
• エアロゾルデポジション法により作製した赤外透過セラミックス・コーティングの検討
• どのように「ブレークスルー」しますか?

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