中野 禅 | 産業技術総合研究所
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概要
関連著者
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中野 禅
産業技術総合研究所
-
小木曽 久人
産業技術総合研究所
-
小木曽 久人
(独)産業技術総合研究所先進製造プロセス研究部門集積加工研究グループ
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小木曽 久人
産総研
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中野 禅
産総研
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中野 禅
産業技術総合研
-
明渡 純
産総研
-
石川 晴雄
電気通信大学
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行村 建
産業技術総合研
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東 欣吾
兵庫県立大
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行村 建
産業技術総合研究所
-
行村 建
同志社大工
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行村 健
産業技術総合研究所
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明渡 純
(独)産業技術総合研究所先進製造プロセス研究部門集積加工研究グループ
-
東 欣吾
兵庫県立大学
-
行村 建
同志社大学工学部
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明渡 純
(独)産業技術総合研究所
-
明渡 純
産業技術総合研究所
-
結城 良治
東京大学生産技術研究所
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奥原 大地
兵庫県立大学
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鄭 南龍
崇田大学校
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中野 禅
機械技術研究所
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朴 載赫
産総研
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永田 可彦
産総研
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甲田 壽男
産総研
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石川 晴雄
電通大
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明渡 純
(独)産業技術総合研究所グループ
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山中 一司
機械技術研究所
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矢部 彰
機械技研
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永田 可彦
(独)産業技術総合研究所
-
中野 禅
工業技術院機械技術研究所
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小木曽 久人
工業技術院
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明渡 純
産業技術総合研
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鄭 南龍
東京大学生産技術研究所
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中野 禅
電気通信大学大学院
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清水 優
電通大院
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明渡 純
産業技術総合研究所機械システム研究部門グループ
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芦田 極
産総研
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原 史朗
産業技術総合研究所
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永田 可彦
機械技術研究所
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原 史朗
独立行政法人産業技術総合研究所
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中野 禅
機械技研
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小木曽 久人
機械技術研究所基礎機械部極限技術課
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佐藤 治道
産業技術総合研究所
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中川 幸子
岡山理科大学 理学研究科
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原 史朗
独立行政法人 産業技術総合研究所
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樋口 徹
兵庫県立大学
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渡邉 匡人
学習院大学理学部
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水野 章敏
学習院大学理学部
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吉田 知也
産業技術総合研究所
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高木 浩一
岩手大学
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秋元 俊彦
学習院大理
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渡辺 匡人
学習院大理
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芦田 極
産業技術総合研究所
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橋本 美絵
奈良先端大物質創成
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高木 浩一
岩手大学工学部
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井上 全人
電気通信大学
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井上 全人
電通大
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王 清
産総研
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根本 雅史
電通大院
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新保 浩史
電通大院
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結城 宏信
電気通信大学知能機械工学科
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多田 真一郎
電気通信大学大学院
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結城 宏信
電通大
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山中 一司
機械技研
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永田 可彦
工業技術院機械技術研究所
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甲田 壽男
工業技術院機械技術研究所
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長 秀雄
青山学院大
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岩木 正哉
理化学研究所
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水野. 章敏
学習院大学理学部物理学科
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中川 幸子
岡山理科大学
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馬場 創
(独)産業技術総合研究所
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結城 宏信
電気通信大学
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清原 正勝
東陶機器(株)
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鳩野 広典
東陶機器(株)
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渡辺 匡人
学習院大
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渡邉 匡人
学習院大学理学部物理学科
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矢部 彰
通産省工業技術院機械技術研究所エネルギー部流体工学研究室
-
川邉 裕大
学習院大
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池田 啓紀
学習院大
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小山 千尋
学習院大
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吉田 三喜子
産総研
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MAXIM Levedev
産総研
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佐藤 治道
産総研
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馬場 創
産総研
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嘉数 智之
岡理大・理
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岩澤 順一
東陶機器(株)
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吉田 篤史
東陶機器(株)
-
岩田 篤
産業技術総合研究所
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LEBEDEV Maxim
産業技術総合研究所
-
長 秀雄
青山学院大学 理工学部 機械創造工学科
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Lebedev M
National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology (aist)
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朴 載赫
産業技術総合研究所
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橋本 美絵
岡山理科大理学部
-
嘉数 智之
岡山理科大理学部
-
波田 恭宏
岡山理科大理学部
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Eckstein W
Max-Planck Institut
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Koichi Takaki
Department Of Electrical And Electronic Engineering Faculty Of Engineering Iwata University
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吉田 知也
独立行政法人産業技術総合研究所
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小木 曽久人
JRCAT-融合研機械技研
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西野 秀郎
凸版印刷総合研究所
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塚原 祐輔
凸版印刷総合研究所
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佐藤 倬暢
フジクラ
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稲葉 正俊
フジクラ
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塚原 祐輔
凸版印刷(株)総合研究所
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池田 伸一
中央大理工
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甲田 壽男
機械技術研究所
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山中 一司
工業技術院機械技術研究所
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甲田 寿男
機械技術研究所
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佐藤 治道
機械技研
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波田 恭宏
岡山理科大学大学院理学研究科
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小木曽 久人
融合研
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高橋 正春
工業技術院機械技術研究所材料工学部
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渡邉 匡人
学習院大 理
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稲葉 正俊
株式会社フジクラ
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明渡 純
独立行政法人 産業技術総合研究所
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岩木 正哉
理化学研究所 表面解析室
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佐藤 倬暢
フジクラ 電子デバイス研
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水野 章敏
学習院大
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秋元 俊彦
学習院大学 理学部
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原 史朗
産業技術総合研
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池田 伸一
独立行政法人 産業技術総合研究所
-
中野 禅
独立行政法人 産業技術総合研究所
-
EHIASARIAN Arutiun
Sheffield Hallam University
-
前川 仁
独立行政法人 産業技術総合研究所
-
長尾 昌善
独立行政法人 産業技術総合研究所
-
KHUMPUANG Sommawan
独立行政法人 産業技術総合研究所
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小木曽 久人
独立行政法人 産業技術総合研究所
-
吉田 知也
独立行政法人 産業技術総合研究所
-
池田 伸一
独立行政法人 産業技術総合研究所
-
渡邉 匡人
学習院大
-
前川 仁
独立行政法人産業技術総合研究所ナノエレクトロニクス研究部門
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石川 晴雄
電気通信大
著作論文
- 21713 薄膜材の残留応力測定法(薄膜・計測,OS.12 機械工学が支援する微細加工技術(半導体・MEMS・NEMS))
- 20113 イオン注入を用いた構造部品の強度的リユース性評価方法(機械工学が支援する先端デバイス評価技術,OS1 機械工学が支援する微細加工技術(半導体・MEMS・NEMS))
- ニューラルネットワークによる超微小押込み曲線を用いた多層薄膜材の機械的特性評価
- ハイパワーパルススパッタ(HPPS)グロー放電プラズマの放電開始特性
- 単一イオン照射によるグラファイト表面の摩擦力変化--吸着力変化と垂直抗力依存性
- 微小重力下でのセラミックス製膜技術の開発
- 微小重力下におけるエアロゾル・デポジション法による薄膜形成
- 2807 マイクロスケール微粒子の圧縮破壊強度評価(J20 マイクロナノ理工学,2005年度年次大会)
- 517 マイクロプレス機を用いたメタルベースMEMS要素部品の製作(OS7 ナノ・マイクロ加工)
- イオン注入法を利用した金ナノ微粒子触媒の形成
- 3G09 エアロゾルデポジション法によるナノコンポジット膜の作製(第 2 報) : 金属-セラミックスコンポジットの基礎的検討
- エアロゾルデポジション法--高機能部品の低コスト、省エネ製造への取り組み
- イオンビームと微細加工--プレス加工へのイオンビームの可能性 (特集 ここまで進んだ高密度エネルギー加工技術)
- 4218 オンデマンド型メタルベースMEMS製造システムの開発(J24-1 生産機械のマイクロ化(1))
- 1201 オンデマンド型MEMS製造システムの開発(OS1-2 生産システムの運用)
- 20302 マイクロTAS用の触媒担持技術(OS14 機能性マイクロデバイスの創製・評価)
- イオンビームによる微細加工(イオンを用いた表面改質)
- イオン注入とエッチングにより作製するナノ粒子触媒のマイクロ化学分析システムへの応用に関する研究
- イオン照射によって生じた欠陥のX線による回復
- イオン注入層を用いたマイクロマシン構造作成の注入イオン種と熱処理の効果
- 26aYL-9 高エネルギーイオン注入によるAu-Si注入層の理論解析(II)
- イオン注入改質材料の弾性率制御とマイクロマシンデバイスへの適用 (第15回イオン注入表層処理シンポジウム)
- 集束イオンビームを用いたAFM用カンチレバーの加工
- イオン注入層を用いたマイクロマシンの作成
- シングルイオン照射によって形成される照射痕の生成確率計算
- イオン注入層を用いたマイクロマシン構造の作成 : 金、チタンイオン注入によるマイクロカンチレバーの作成
- レーザー干渉縞の位相速度走査による薄膜試料の弾性表面波音速測定
- 心拍リズムで駆動する扇風機の特性
- 3G-2 MeV Siイオン注入Siのビーム音響法による評価(超音波顕微鏡)
- 1-B-1 イオンビーム励起音響による、イオン注入層のキャラクタリゼーション(B.音波物性)
- 接着継手の混合モード破壊基準
- 接着継手の強度評価への破壊力学の応用 : 第2報、各種接着継手の疲労き裂伝ぱ特性
- 要素剛性マトリックスの微分を用いた仮想き裂進展法の効率化
- 接着継手の強度評価への破壊力学の応用 : 第1報,DCB試験片と単純重ね継手の破壊靭性
- 金イオン注入したシリコンのエッチング特性
- PG5 レーザー干渉縞の位相速度走査法による弾性表面波を用いた標準欠陥の評価(ポスターセッション1)
- イオン注入技術と金型の改質
- MeVイオン注入装置〔含 資料〕
- 対向電極型ハイパワーパルススパッタグロー放電における静電シールドの効果
- Metal Ionization in a High-Power Pulsed Sputtering (HPPS) Penning Discharge
- ミニマルファブによる半導体工場イノベーション
- 内部電極が挿入された対向電極型大電力パルススパッタプラズマの電気的特性
- A new approach of high-power pulsed glow-plasma generation : shunting glow plasma
- 内部電極が挿入された対向電極型大電力パルススパッタ放電におけるイオン電流の圧力依存性
- 内部電極が挿入された対向電極型大電力パルススパッタ放電におけるイオン電流の圧力依存性