シングルイオン照射によって形成される照射痕の生成確率計算
スポンサーリンク
概要
著者
関連論文
- 21713 薄膜材の残留応力測定法(薄膜・計測,OS.12 機械工学が支援する微細加工技術(半導体・MEMS・NEMS))
- 20113 イオン注入を用いた構造部品の強度的リユース性評価方法(機械工学が支援する先端デバイス評価技術,OS1 機械工学が支援する微細加工技術(半導体・MEMS・NEMS))
- ニューラルネットワークによる超微小押込み曲線を用いた多層薄膜材の機械的特性評価
- (1)エアロゾルデポジション法による常温セラミックスコーティングとプラズマ耐食コーティングとしての実用化開発(技術,日本機械学会賞〔2008年度(平成20年度)審査経過報告〕)
- 固相微粒子成膜エアロゾルデポジション法の現状と課題
- ハイパワーパルススパッタ(HPPS)グロー放電プラズマの放電開始特性
- 単一イオン照射によるグラファイト表面の摩擦力変化--吸着力変化と垂直抗力依存性
- 微小重力下でのセラミックス製膜技術の開発
- 微小重力下におけるエアロゾル・デポジション法による薄膜形成
- 2807 マイクロスケール微粒子の圧縮破壊強度評価(J20 マイクロナノ理工学,2005年度年次大会)
- 517 マイクロプレス機を用いたメタルベースMEMS要素部品の製作(OS7 ナノ・マイクロ加工)
- B-2 超音波原子間力顕微鏡による圧電・強誘電材料のドメイン境界の評価(超音波物性・材料)
- イオン注入法を利用した金ナノ微粒子触媒の形成
- 3G09 エアロゾルデポジション法によるナノコンポジット膜の作製(第 2 報) : 金属-セラミックスコンポジットの基礎的検討
- エアロゾルデポジション法--高機能部品の低コスト、省エネ製造への取り組み
- イオンビームと微細加工--プレス加工へのイオンビームの可能性 (特集 ここまで進んだ高密度エネルギー加工技術)
- 4218 オンデマンド型メタルベースMEMS製造システムの開発(J24-1 生産機械のマイクロ化(1))
- 1201 オンデマンド型MEMS製造システムの開発(OS1-2 生産システムの運用)
- 20302 マイクロTAS用の触媒担持技術(OS14 機能性マイクロデバイスの創製・評価)
- イオンビームによる微細加工(イオンを用いた表面改質)
- イオン注入とエッチングにより作製するナノ粒子触媒のマイクロ化学分析システムへの応用に関する研究
- イオン照射によって生じた欠陥のX線による回復
- イオン注入層を用いたマイクロマシン構造作成の注入イオン種と熱処理の効果
- 26aYL-9 高エネルギーイオン注入によるAu-Si注入層の理論解析(II)
- イオン注入改質材料の弾性率制御とマイクロマシンデバイスへの適用 (第15回イオン注入表層処理シンポジウム)
- 集束イオンビームを用いたAFM用カンチレバーの加工
- イオン注入層を用いたマイクロマシンの作成
- シングルイオン照射によって形成される照射痕の生成確率計算
- イオン注入層を用いたマイクロマシン構造の作成 : 金、チタンイオン注入によるマイクロカンチレバーの作成
- レーザー干渉縞の位相速度走査による薄膜試料の弾性表面波音速測定
- 心拍リズムで駆動する扇風機の特性
- 3G-2 MeV Siイオン注入Siのビーム音響法による評価(超音波顕微鏡)
- 1-B-1 イオンビーム励起音響による、イオン注入層のキャラクタリゼーション(B.音波物性)
- D-20 変調周波数による熱拡散長の差を利用した光音響映像作成法(ポスターセッション)
- D-4 探針の押し込みによる弾性変形の分子力学シミュレーション(D.超音波基礎・非線形)
- 接着継手の混合モード破壊基準
- 接着継手の強度評価への破壊力学の応用 : 第2報、各種接着継手の疲労き裂伝ぱ特性
- 要素剛性マトリックスの微分を用いた仮想き裂進展法の効率化
- 接着継手の強度評価への破壊力学の応用 : 第1報,DCB試験片と単純重ね継手の破壊靭性
- 金イオン注入したシリコンのエッチング特性
- PG5 レーザー干渉縞の位相速度走査法による弾性表面波を用いた標準欠陥の評価(ポスターセッション1)
- イオン注入技術と金型の改質
- MeVイオン注入装置〔含 資料〕
- 対向電極型ハイパワーパルススパッタグロー放電における静電シールドの効果
- Metal Ionization in a High-Power Pulsed Sputtering (HPPS) Penning Discharge
- ミニマルファブによる半導体工場イノベーション
- 内部電極が挿入された対向電極型大電力パルススパッタプラズマの電気的特性
- A new approach of high-power pulsed glow-plasma generation : shunting glow plasma
- 内部電極が挿入された対向電極型大電力パルススパッタ放電におけるイオン電流の圧力依存性
- 内部電極が挿入された対向電極型大電力パルススパッタ放電におけるイオン電流の圧力依存性