対向電極型ハイパワーパルススパッタグロー放電における静電シールドの効果
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 2011-05-27
著者
-
小木曽 久人
産総研
-
中野 禅
産業技術総合研究所
-
東 欣吾
兵庫県立大
-
行村 建
産業技術総合研究所
-
小木曽 久人
産業技術総合研究所
-
行村 建
同志社大工
-
小木曽 久人
(独)産業技術総合研究所先進製造プロセス研究部門集積加工研究グループ
-
中野 禅
産業技術総合研
-
奥原 大地
兵庫県立大学
-
東 欣吾
兵庫県立大学
-
行村 健
産業技術総合研究所
-
行村 建
産業技術総合研
関連論文
- ハイパワーパルススパッタ(HPPS)グロー放電とパルスRF誘導プラズマ結合プラズマの電気的相互作用
- 21713 薄膜材の残留応力測定法(薄膜・計測,OS.12 機械工学が支援する微細加工技術(半導体・MEMS・NEMS))
- 20113 イオン注入を用いた構造部品の強度的リユース性評価方法(機械工学が支援する先端デバイス評価技術,OS1 機械工学が支援する微細加工技術(半導体・MEMS・NEMS))
- ニューラルネットワークによる超微小押込み曲線を用いた多層薄膜材の機械的特性評価
- (1)エアロゾルデポジション法による常温セラミックスコーティングとプラズマ耐食コーティングとしての実用化開発(技術,日本機械学会賞〔2008年度(平成20年度)審査経過報告〕)
- 大気圧プラズマジェットによる水溶性有機物の分解
- デュアルプラズマ法による絶縁物表面の加工特性
- 固相微粒子成膜エアロゾルデポジション法の現状と課題
- 不織布へのDLC薄膜成膜装置の開発(I) : プラズマの電気的特性
- ハイパワーパルススパッタ(HPPS)グロー放電プラズマの放電開始特性
- 単一イオン照射によるグラファイト表面の摩擦力変化--吸着力変化と垂直抗力依存性
- 微小重力下でのセラミックス製膜技術の開発
- 微小重力下におけるエアロゾル・デポジション法による薄膜形成
- 2807 マイクロスケール微粒子の圧縮破壊強度評価(J20 マイクロナノ理工学,2005年度年次大会)
- 517 マイクロプレス機を用いたメタルベースMEMS要素部品の製作(OS7 ナノ・マイクロ加工)
- B-2 超音波原子間力顕微鏡による圧電・強誘電材料のドメイン境界の評価(超音波物性・材料)
- イオン注入法を利用した金ナノ微粒子触媒の形成
- 大気圧非平衡プラズマによるH_2/N_2/O_2系水素酸化特性とその反応メカニズム
- デュアルプラズマ配位におけるイオンエネルギーのガス圧力依存性
- 対向電極型大電力パルススパッタ(HPPS)グロー放電と195kHz-RF放電のハイブリッド放電におけるガス変化による電気的特性の違い
- デュアルプラズマ配位における絶縁性基材の帯電中和条件の検討
- ハイパワーパルススパッタ(HPPS)マグネトロン放電装置の特性
- デュアルプラズマ配位の形成に対するグリッド粗さと印加電圧の効果
- 3G09 エアロゾルデポジション法によるナノコンポジット膜の作製(第 2 報) : 金属-セラミックスコンポジットの基礎的検討
- 3G07 エアロゾルデポジション法によるセラミックス薄膜形成メカニズム(第 2 報) : 原料微粒子前処理の成膜体微細構造への影響
- デュアルプラズマイオンプロセスにおける絶縁性基材の帯電制御
- デュアルプラズマ含浸イオンプロセスによる絶縁物の表面処理
- 対向電極型HPPSグロープラズマ源が放出するプラズマ流の電流電圧特性
- 誘導結合型RFパルス放電を重畳させたハイパワーパルススパッタ(HPPS)グロー放電のアルゴン雰囲気下における電気的特性
- 対向電極型ハイパワーパルススパッタ(HPPS)グロー放電からの金属イオンの引き出しおよび基材面における発光スペクトル
- 発光スペクトルにみるハイパワーパルススパッタ(HPPS)グロー放電における磁界の効果
- ハイパワーパルススパッタグロー放電(HPPS)から引き出されたプラズマとイオン電流に関する検討
- ハイパワーパルススパッタグロー放電(HPPS)におけるプラズマ負荷特性の検討
- C3 試料を超音波振動させる原子間力顕微鏡による表面下の映像法(超音波非破壊評価)
- エアロゾルデポジション法--高機能部品の低コスト、省エネ製造への取り組み
- イオンビームと微細加工--プレス加工へのイオンビームの可能性 (特集 ここまで進んだ高密度エネルギー加工技術)
- 4218 オンデマンド型メタルベースMEMS製造システムの開発(J24-1 生産機械のマイクロ化(1))
- 1201 オンデマンド型MEMS製造システムの開発(OS1-2 生産システムの運用)
- 20302 マイクロTAS用の触媒担持技術(OS14 機能性マイクロデバイスの創製・評価)
- イオンビームによる微細加工(イオンを用いた表面改質)
- イオン注入とエッチングにより作製するナノ粒子触媒のマイクロ化学分析システムへの応用に関する研究
- イオン照射によって生じた欠陥のX線による回復
- イオン注入層を用いたマイクロマシン構造作成の注入イオン種と熱処理の効果
- 26aYL-9 高エネルギーイオン注入によるAu-Si注入層の理論解析(II)
- イオン注入改質材料の弾性率制御とマイクロマシンデバイスへの適用 (第15回イオン注入表層処理シンポジウム)
- 集束イオンビームを用いたAFM用カンチレバーの加工
- イオン注入層を用いたマイクロマシンの作成
- シングルイオン照射によって形成される照射痕の生成確率計算
- イオン注入層を用いたマイクロマシン構造の作成 : 金、チタンイオン注入によるマイクロカンチレバーの作成
- レーザー干渉縞の位相速度走査による薄膜試料の弾性表面波音速測定
- 心拍リズムで駆動する扇風機の特性
- 3G-2 MeV Siイオン注入Siのビーム音響法による評価(超音波顕微鏡)
- 1-B-1 イオンビーム励起音響による、イオン注入層のキャラクタリゼーション(B.音波物性)
- D-20 変調周波数による熱拡散長の差を利用した光音響映像作成法(ポスターセッション)
- PE-12 レーザー干渉縞の位相速度走査法による弾性波を用いたマイクロマシン構造要素の欠陥検出
- P2-18 位相速度走査法レーザー超音波による微小表面欠陥検出の有限要素解析(ポスターセッション2,ポスター発表)
- P1-29 高アスペクト比マイクロ構造要素の突起状欠陥からの弾性波散乱の有限要素解析(ポスターセッション1,ポスター発表)
- PE9 レーザー干渉縞の位相速度走査法を用いた弾性表面波発生法の高周波化(SAWデバイス,ポスターセッション1)
- OF3 シンプレックス法を用いた逆解析による弾性表面波の音速からの弾性率推定(非破壊評価)
- PD1 レーザー干渉縞の位相速度走査により発生した弾性表面波を用いた表面欠陥の評価(ポスターセッション1-概要講演・展示)
- D-4 探針の押し込みによる弾性変形の分子力学シミュレーション(D.超音波基礎・非線形)
- 接着継手の混合モード破壊基準
- 接着継手の強度評価への破壊力学の応用 : 第2報、各種接着継手の疲労き裂伝ぱ特性
- 要素剛性マトリックスの微分を用いた仮想き裂進展法の効率化
- 接着継手の強度評価への破壊力学の応用 : 第1報,DCB試験片と単純重ね継手の破壊靭性
- 金イオン注入したシリコンのエッチング特性
- 3G08 エアロゾルデポジション法によるナノコンポジット膜の作製(第 1 報) : ナノ結晶セラミックスコンポジットの基礎的検討
- PG5 レーザー干渉縞の位相速度走査法による弾性表面波を用いた標準欠陥の評価(ポスターセッション1)
- イオン注入技術と金型の改質
- MeVイオン注入装置〔含 資料〕
- 水素・アルゴン混合パルスプラズマによるスズ薄膜のエッチングに関する研究
- 大面積容量結合型高周波プラズマへの束縛条件付き補間プロファイル法の適用可能性の検討
- 大気圧プラズマジェットへの投入エネルギーの増大
- 大電力パルスマグネトロンスパッタによる高密度メタルプラズマの生成と空間分布
- 対向電極型ハイパワーパルススパッタグロー放電における静電シールドの効果
- ハイパワーパルスマグネトロンスパッタプラズマ源のガス圧力依存性
- 束縛条件付き補間プロファイル法による一次元荷電粒子流の流体的解析
- 高密度パルスプラズマ生成用高電圧 - 大電流パルス電源の開発
- 対向電極型大電力パルススパッタグロー放電のガス変化における発光スペクトルの解析
- 誘導結合型RFパルス放電を重畳させたハイパワーパルススパッタ(HPPS)グロー放電のアルゴン/窒素雰囲気下における電気的特性
- Metal Ionization in a High-Power Pulsed Sputtering (HPPS) Penning Discharge
- 大気圧非平衡プラズマによる燃料電池水素オフガスの酸化特性
- ミニマルファブによる半導体工場イノベーション
- 大電力パルスマグネトロンスパッタリングにおける磁界分布の影響
- 内部電極が挿入された対向電極型大電力パルススパッタプラズマの電気的特性
- A new approach of high-power pulsed glow-plasma generation : shunting glow plasma
- 内部電極が挿入された対向電極型大電力パルススパッタ放電におけるイオン電流の圧力依存性
- 大電力パルスアンバランスドマグネトロンスパッタリングにおける磁界分布依存性
- 大電力パルススパッタリングプラズマ源
- 中央に穴のあるターゲットがパルススパッタリングの電気的特性に及ぼす影響
- 大電力パルスマグネトロンスパッタによる高密度メタルプラズマの生成と空間分布
- 大気圧プラズマジェットへの投入エネルギーの増大
- 2P2-5 パイプを伝搬するガイド波の減衰を考慮した解析(ポスターセッション)
- 内部電極が挿入された対向電極型大電力パルススパッタ放電におけるイオン電流の圧力依存性
- 大電力パルスアンバランスドマグネトロンスパッタリングにおける磁界分布依存性
- パルススパッタペニング放電におけるイオン電流の圧力依存性
- 中央に窪みのあるターゲットを用いた不平衡型パルスマグネトロンスパッタの圧力特性
- 中央に窪みのあるターゲットを用いた不平衡型パルスマグネトロンスパッタの圧力特性
- パルススパッタペニング放電における内部電極の接地抵抗が放電特性に及ぼす影響