高密度パルスプラズマ生成用高電圧 - 大電流パルス電源の開発
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 2009-08-08
著者
-
行村 建
産業技術総合研究所
-
中森 秀樹
ナノテック
-
平塚 傑工
ナノテック
-
行村 建
同志社大工
-
平塚 傑工
ナノテック(株)
-
行村 健
同志社大学工学部
-
行村 健
産業技術総合研究所
-
林 剛
平和電源(株)
-
横田 達也
平和電源(株)
-
坂本 哲也
平和電源(株)
-
豊田 光廣
平和電源(株)
-
坪井 仁美
ナノテック(株)
-
中森 秀樹
ナノテック(株)
-
行村 建
産業技術総合研
関連論文
- ハイパワーパルススパッタ(HPPS)グロー放電とパルスRF誘導プラズマ結合プラズマの電気的相互作用
- 正パルスバイアスPBII&D法によるTiNコーティングの予備実験
- デュアルプラズマ法による絶縁物表面の加工特性
- CNx成膜のためのシャンティングアークを用いた炭素・窒素混合プラズマの生成
- 負パルスバイアスを利用したイオンビーム蒸着法によって生成したダイヤモンド状炭素膜の特性
- 107 ポストアニールしたDLC膜の機械的物性の研究(OS 材料の超精密加工とマイクロ加工)
- プラズマイオン注入によるDLC(ダイヤモンド状炭素)成膜
- 磁気駆動型シャンティングアークプラズマからのイオン引き出しとシース近辺の密度の算定
- 正バイアス電極を用いたシャンティングアークによる誘起プラズマの生成
- シャンティングアーク放電誘起プラズマの電流特性
- 全方位シャンティングアーク放電による窒素を含むアモルファスカーボン薄膜生成
- ターゲット電流を用いたシャンティングアークプラズマの密度計測
- シャンティングアークアシストRF(195kHz)放電のイオン電流とイオン密度
- シャンティングアークアシストRF(195kHz)放電の発光スペクトル
- ハイパワーパルススパッタ(HPPS)グロー放電プラズマの放電開始特性
- 大気圧非平衡プラズマによるH_2/N_2/O_2系水素酸化特性とその反応メカニズム
- デュアルプラズマ配位におけるイオンエネルギーのガス圧力依存性
- 対向電極型大電力パルススパッタ(HPPS)グロー放電と195kHz-RF放電のハイブリッド放電におけるガス変化による電気的特性の違い
- デュアルプラズマ配位における絶縁性基材の帯電中和条件の検討
- ハイパワーパルススパッタ(HPPS)マグネトロン放電装置の特性
- 対向電極型ハイパワーパルススパッタ(HPPS)グロー放電からの金属イオンの引き出しおよび基材面のプラズマ密度
- ハイパワーパルススパッタ(HPPS)マグネトロン放電の電気的特性および発光スペクトル
- 対向電極型大電力パルススパッタ(HPPS)グロー放電と195kHz-RF放電によるハイブリッド放電の電気的特性
- シャンティングアーク放電プラズマの構造解析
- グリッド制御を用いたプラズマイオンプロセス
- ハイパワーパルススパッタグロー放電(HPPS)による発光スペクトルの観測およびプラズマ密度の検討
- 負パルス-デュアルプラズマ法の基礎特性とポリマー表面改質への応用
- 大気圧非平衡プラズマによる水素燃焼特性とその反応メカニズム
- ハイパワーパルススパッタグロー放電(HPPS)の電圧、電流特性および発光スペクトル
- 数十kW級大電力パルスグロー放電電気的特性の圧力依存性
- デュアルプラズマ配位の形成に対するグリッド粗さと印加電圧の効果
- 放電励起形KrFレ-ザの出力エネルギ-に与える混合ガス分圧率の影響--光波形の観測に基づく検討
- 紫外線予備電離Kr/He,F2/He混合気体放電およびKrFレ-ザ励起放電の電流特性
- デュアルプラズマイオンプロセスにおける絶縁性基材の帯電制御
- デュアルプラズマ含浸イオンプロセスによる絶縁物の表面処理
- 24aB15P 酸素プラズマスパッタ法による酸化ジルコニウム薄膜合成に及ぼすターゲット状態の影響(プラズマ応用、慣性核融合, (社) プラズマ・核融合学会第21回年会)
- DLC薄膜を成膜させた各種アルミニウム合金表面の摩擦摩耗特性に及ぼす中間層の影響
- DLC薄膜のトライボロジー(ナノ・マイクロトライボロジー)
- 第 1 部 (35) PSII・DLC 被膜の開発と界面信頼性改善
- シャンティングアークを用いた窒素含有プラズマ生成とCNx成膜への適用
- シャンティングアークプラズマの大容積化と管内壁処理への適用
- 対向電極型HPPSグロープラズマ源が放出するプラズマ流の電流電圧特性
- 誘導結合型RFパルス放電を重畳させたハイパワーパルススパッタ(HPPS)グロー放電のアルゴン雰囲気下における電気的特性
- 対向電極型ハイパワーパルススパッタ(HPPS)グロー放電からの金属イオンの引き出しおよび基材面における発光スペクトル
- 発光スペクトルにみるハイパワーパルススパッタ(HPPS)グロー放電における磁界の効果
- ハイパワーパルススパッタグロー放電(HPPS)から引き出されたプラズマとイオン電流に関する検討
- ハイパワーパルススパッタグロー放電(HPPS)におけるプラズマ負荷特性の検討
- ドロップレットフリー数十kW級大電力パルススパッタリング(HPPS)グロープラズマの生成
- NOx処理における酸素の影響
- DBDラジカルインジェクション法による、メッシュ長さの変化においてのNOx処理
- 間欠型DBDを用いたアンモニアラジカルインジェクション法DeNOxにおける注入モル比と処理効率
- エキシマレーザアブレーションによる加工深さのパルス幅及びターゲット材依存性 : MDシミュレーションによる検討
- 間欠ジルコニウムアークPBII&D法によるジルコニア皮膜
- 間欠ジルコニウムアークPBII&D法によるジルコニア皮膜
- PBII&D法によるRFスパッタ銅イオンを用いた酸化銅成膜
- 低気圧領域における無声放電励起希ガスエキシマ光出力の圧力依存性
- 低気圧領域における無声放電希ガスエキシマ光出力の圧力依存性
- 間欠型DBDを用いたアンモニアラジカルインジェクション法DeNOxにおける注入モル比と処理効率
- DBDアンモニアラジカルNOx処理法における高効率脱硝
- アンモニアラジカルNOx処理のギャップ長変化時におけるDBDエネルギー
- アンモニアラジカルNOx処理最適化におけるDBDギャップ長の影響
- チタン陰極アークプラズマイオン注入・堆積法による窒化チタン成膜における成膜圧力の影響
- シャンティングアークによるカーボン系素材の堆積
- 金属プラズマを用いたPBII&Dにおけるイオンの効果
- チタン陰極アークを使用したプラズマイオン注入・堆積法によるTiN薄膜のモホロジー
- 陰極アークを用いたプラズマイオン注入・堆積法における円筒内面改質におけるターゲット印加電圧
- 磁気駆動を用いたシャンティングアークプラズマ成膜の速度改善
- 磁気駆動型シャンティングアークの発生とその電気的特性
- 接点開離金属アークを種とする正バイアス電極を用いた複合プラズマ生成
- 正バイアス・プラズマイオンプロセスの展開
- 26aB02P プラズマイオン注入における正パルスバイアス法の提案とイオンエネルギー(プラズマ基礎・応用)
- DLC膜の成膜技術と課題
- 無声放電励起希ガスエキシマランプの動作解析
- プラズマイオン注入調査専門委員会
- 306 大気圧プラズマで生成させたアンモニアラジカルによる高効率排煙脱硝(大気環境改善技術(1),大気・水保全技術)
- PSII(プラズマソースイオン注入)法による硬質皮膜製作の現状と金型への応用
- エキシマレーザ予備電離放電からの金属スペクトルの発生
- 25pB04 酸素誘導結合型プラズマによる酸化ジルコニウム薄膜合成(プラズマ基礎・応用I)
- KrFエリシマレーザ用予備電離パルスアーク放電のスペクトル観測
- エキシマレーザによるキセノンプラズマの分光観測
- 対向電極型ハイパワーパルススパッタグロー放電における静電シールドの効果
- 高密度パルスプラズマ生成用高電圧 - 大電流パルス電源の開発
- 対向電極型大電力パルススパッタグロー放電のガス変化における発光スペクトルの解析
- 誘導結合型RFパルス放電を重畳させたハイパワーパルススパッタ(HPPS)グロー放電のアルゴン/窒素雰囲気下における電気的特性
- Metal Ionization in a High-Power Pulsed Sputtering (HPPS) Penning Discharge
- 大気圧非平衡プラズマによる燃料電池水素オフガスの酸化特性
- プロセスチャンバー汚損内壁の環境調和型プラズマクリーニング法の検討
- ラジカルインジェクション脱硝法のラジカル反応メカニズム
- シャンティングアークの並列駆動と炭素成膜
- 内部電極が挿入された対向電極型大電力パルススパッタプラズマの電気的特性
- A new approach of high-power pulsed glow-plasma generation : shunting glow plasma
- DLCから進化した高機能膜ICFの成膜技術と特性評価 (小特集 表面改質,めっき処理による金属材料の機械特性改善とその評価技術)
- DLCと高機能膜ICFによる医療関連材料への表面処理 (特集 医療機器における表面修飾技術の応用)
- 29aA05P エネルギーの異なるプラズマイオン交互注入による炭素系硬質薄膜合成(プラズマ応用)
- DLCと高機能膜ICFによる医療関連材料への表面処理
- シャンティングアークプラズマの半導体制御及びダブルプローブ計測
- 内部電極が挿入された対向電極型大電力パルススパッタ放電におけるイオン電流の圧力依存性
- Safety evaluation and the coating applications of the medical materials : -The laboratory accreditation ISO/IEC17025-
- 定電流シャンティングアークプラズマの特性およびTiC膜生成
- DLC膜の規格化について