陰極アークを用いたプラズマイオン注入・堆積法における円筒内面改質におけるターゲット印加電圧
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概要
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- 2001-12-10
著者
-
木幡 護
東芝タンガロイ
-
斎藤 英純
神奈川高度技術支援財団
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行村 建
同志社大工
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馬 欣新
ハルピン工業大学
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馬 欣新
同志社大学
-
熊谷 正夫
神奈川産技セ
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丸山 敏朗
京都大学
-
熊谷 正夫
神奈川産総研
-
久世 英司
同志社大
-
久世 英司
同志社大学
-
行村 健
産業技術総合研究所
-
行村 建
同志社大・工
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