プロセスチャンバー汚損内壁の環境調和型プラズマクリーニング法の検討
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 2009-08-06
著者
関連論文
- ICPを用いたC_フラグメンテーションの空間分布測定
- 正パルスバイアスPBII&D法によるTiNコーティングの予備実験
- コントロールグリッド付き軟X線式ジェットイオナイザの除電特性
- デュアルプラズマ法による絶縁物表面の加工特性
- 正バイアス電極を用いたシャンティングアークによる誘起プラズマの生成
- 大気圧高周波パルス放電特性の駆動電圧スルーレート依存性
- デュアルプラズマ配位におけるイオンエネルギーのガス圧力依存性
- デュアルプラズマ配位における絶縁性基材の帯電中和条件の検討
- グリッド制御を用いたプラズマイオンプロセス
- 負パルス-デュアルプラズマ法の基礎特性とポリマー表面改質への応用
- デュアルプラズマ配位の形成に対するグリッド粗さと印加電圧の効果
- 水素ガス導入によるICP合成ZnO透明導電膜の低抵抗化
- ZnO透明導電膜の抵抗率低減に向けた誘導結合型酸素プラズマ中Zn蒸気の観察
- ECRリモートプラズマを用いたCu_xO/ZnOヘテロ接合による光起電力の発生
- 質量選択的運動量制御に向けた亜鉛-酸素混合プラズマ中の透明導電膜合成
- バイアスされた高周波大気圧プラズマのプローブ計測
- 質量選択的運動量制御に向けたECR酸素プラズマの低温部引き出しと動重力増強の観察
- デュアルプラズマイオンプロセスにおける絶縁性基材の帯電制御
- 動重力効果を利用したプラズマイオンの選択的運動量制御によるZnO薄膜合成実験
- デュアルプラズマ含浸イオンプロセスによる絶縁物の表面処理
- プラズマイオン照射に伴うC_薄膜からの尖塔構造形成
- 26aB9 磁気ノズル配位における回転プラズマ銃の駆動特性(ヘリカル/プラズマ応用)
- 29p-XH-6 回転プラズマ銃の駆動特性に及ぼすメッシュの効果
- 同軸型回転プラズマ銃のプラズマ駆動特性に対する導電性メッシュの効果
- 強磁場(3T)でのJ×B駆動回転プラズマの発生と同位体分離
- プラズマ中イオン種測定に用いるTOF装置の開発
- フラーレン-アルゴンプラズマの基礎特性
- シャンティングアークを用いた複合プラズマにおける分光特性
- シャンティングアークによりトリガされた正バイアス電極に発生する誘起プラズマ特性
- 25pB-4 アークプラズマ制御のフラーレンベースナノ構造創成への効果
- 26aB7 プラズマ制御によるフラーレンベースのナノ構造創成(ヘリカル/プラズマ応用)
- 29p-XH-1 プラズマ制御によるSi-フラーレン複合物質の創製
- 29a-YX-12 Si内包フラーレン生成の試み
- 23aXF-5 ECR放電によるフラーレンプラズマの基礎特性
- 26pB18p ECR放電を用いたフラーレンプラズマの生成(ヘリカル/プラズマ応用)
- 26aB20P 高周波フラーレンプラズマを用いたDLC薄膜の低温合成(プラズマ基礎・応用)
- 26aB19P フラーレンオープンシステムの改良に伴う高密度フラーレンプラズマの生成(プラズマ基礎・応用)
- ECRフラーレンプラズマを用いた炭素系薄膜の形成とプラズマ中イオン種計測
- 磁化プラズマ中におけるフラーレン堆積膜形成に及ぼす磁場の効果
- 接点開離金属アークを種とする正バイアス電極を用いた複合プラズマ生成
- CNTを用いた多極管型電界放射電子源の基礎特性
- 正バイアス・プラズマイオンプロセスの展開
- 28aB49P プラズマ中孤立高周波電場近傍におけるプローブの電圧-電流特性(計測)
- 26aB03P プラズマイオン注入における2次元トレンチ内イオン挙動のPICシミュレーション(プラズマ基礎・応用)
- 26aB02P プラズマイオン注入における正パルスバイアス法の提案とイオンエネルギー(プラズマ基礎・応用)
- プラズマイオン注入におけるトレンチ形状基材のシースの形成と動的挙動
- プラズマイオン注入(PBII)における正パルスバイアス法の試み
- プラズマイオン注入(PBII)の三次元形状基材におけるシースの挙動とイオン電流
- プラズマイオン注入における基材の三次元形状効果
- 炭素回転プラズマ流と導電性メッシュの電磁相互作用
- 炭素回転プラズマ流とフローティングメッシュの電磁相互作用
- プラズマイオン注入(PBII)におけるプラズマパルスバイアス法の試み
- 磁化された荷電粒子の選択的エネルギー制御に向けた低電子温度プラズマ源の開発
- 炭素回転プラズマの駆動特性に及ぼすフローティングメッシュの効果
- 23aXF-4 基板入射する今イクロトロンイオンの選択的エネルギー制御 : イオンフラックスの測定
- 25pB15p 炭素回転プラズマの駆動特性に及ぼすフローティングメッシュの効果(ヘリカル/プラズマ応用)
- JxB駆動回転プラズマの特性に対する陽極メッシュの効果
- 23aXF-3
- 23aXF-2 プラズマイオン注入における電極シースの挙動とパルス波形
- 23aXF-1 導電性メッシュを通過する回転プラズマ内の電流分布と回転速度
- プラズマイオン注入における電圧パルスの減衰時間と電極シースの崩壊挙動との関係
- 高感度チャージプレートモニターとバイアスグリッドを用いた空気イオンバランス制御システム
- TOF質量分析装置を用いた分子性ガスのイオン化断面積の測定と残留農薬分析への応用
- ICP合成によるPET上ZnO透明導電膜の基材温度依存性
- ICP合成によるZnO透明導電膜のプラズマパラメータ依存性
- Cu_2O/ZnO系PVの作製に向けたECR酸素プラズマによる銅基板の酸化実験
- 大電力パルスマグネトロンスパッタによる高密度メタルプラズマの生成と空間分布
- 集束型デュアルプラズマにおける高密度プラズマの生成と帯電中和特性
- 中性気体中における回転プラズマの不安定性と渦構造の形成
- 多接合太陽電池向けフルスペクトルZnO透明導電膜の低気圧高周波プラズマ合成
- 発散磁場における回転プラズマの挙動
- 25pB16p 磁場中混合プラズマからの基板入射イオンに及ぼす電極近傍回転電場の効果(ヘリカル/プラズマ応用)
- 混合プラズマにおける電極入射イオンのパルス変調によるエネルギー制御
- 31p-YQ-5 パルス変調型rf混合プラズマ中のイオンエネルギ分布
- プロセスチャンバー汚損内壁の環境調和型プラズマクリーニング法の検討
- 2次元プローブ計測におけるデータ取り込みと特性解析の自動化
- レーザーイオン化質量分析による残留農薬測定法の開発研究 : 試料導入条件の調査
- ICP合成によるZnO透明導電膜の光吸収係数のプロセス条件依存性
- Cu_2O系PVセルのECR酸素プラズマ作製におけるセル特性のプロセス条件依存性
- イオンビームによる半導体や絶縁物表面の平坦化
- ECRプラズマ作製によるCu_2O系PVセルの真空特性
- レーザーイオン化質量分析による農薬の高感度分析 (センシング技術の新たな展開と融合) -- (光応用計測)
- 高機能ZnO透明導電膜のICP安定合成に向けた亜鉛-酸素混合プラズマの分光観察
- 29a-YF-6 2極放電における電位分布
- 大電力パルスマグネトロンスパッタによる高密度メタルプラズマの生成と空間分布
- ICP合成によるPET上ZnO透明導電膜の基材温度依存性
- ICP合成によるZnO透明導電膜のプラズマパラメータ依存性
- 集束型デュアルプラズマにおける高密度プラズマの生成と帯電中和特性
- Cu_2O/ZnO系PVの作製に向けたECR酸素プラズマによる銅基板の酸化実験
- 高感度チャージプレートモニターとバイアスグリッドを用いた空気イオンバランス制御システム
- 高機能ZnO透明導電膜のICP安定合成に向けた亜鉛-酸素混合プラズマの分光観察
- 3pD 放電/プラズマ応用 : 一般講演レポート(座長レポート)
- レーザーイオン化質量分析による残留農薬測定法の開発研究 : 試料導入条件の調査
- ICP合成によるZnO透明導電膜の光吸収係数のプロセス条件依存性
- Cu_2O系PVセルのECR酸素プラズマ作製におけるセル特性のプロセス条件依存性
- イオンビームによる半導体や絶縁物表面の平坦化
- Si基板上Mgスパッタ膜のアニール処理によるMg_2Siの合成
- Si基板上Mgスパッタ膜のアニール処理によるMg_2Siの合成
- レーザーイオン化質量分析法による残留農薬一斉分析に向けた研究
- コロナ放電荷電粒子の生成と輸送特性に及ぼす雰囲気ガスの効果