PBII&D法によるRFスパッタ銅イオンを用いた酸化銅成膜
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概要
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- 2005-01-21
著者
-
中村 圭二
中部大学
-
行村 建
同志社大学
-
中村 圭二
中部大学工学部
-
佐々木 宗生
滋賀県工業技術総合センター
-
佐々木 宗生
滋賀工技セ
-
小野 浩之
同志社大学
-
馬 欣新
ハルピン工業大学
-
MA Xinxin
ハルピン工業大学
-
馬 欣新
同志社大学
-
行村 健
産業技術総合研究所
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