A-11-14 LoTaO_3 32°-42°回転Y板上へのZnOの膜のエピタキシャル成長
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概要
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- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2001-03-07
著者
-
Kawamura Ichiro
Central Research And Development Laboratory Showa Shell Sekiyu K.k.
-
中村 圭二
中部大学
-
庄子 竜也
東北大院・工
-
中村 僖良
東北大学大学院工学研究科
-
望月 孝祥
東北大学大学院 情報科学研究科
-
中村 僖良
東北大院・工
-
庄子 竜也
東北大学大学院工学研究科
-
中村 僖良
東北大学大学院工学研究科電気・通信工学専攻
-
Nakamura K
Department Of Electrical Engineering School Of Engineering Nagoya University
-
Nakamura Keiji
Department Of Electrical Engineering Nagoya University
-
Nakamura K
Tokyo Electron Ltd. Tokyo Jpn
-
中村 僖良
National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology (aist)
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